TWI312297B - - Google Patents

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TWI312297B
TWI312297B TW093105670A TW93105670A TWI312297B TW I312297 B TWI312297 B TW I312297B TW 093105670 A TW093105670 A TW 093105670A TW 93105670 A TW93105670 A TW 93105670A TW I312297 B TWI312297 B TW I312297B
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coating
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film
coating film
drying
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TW093105670A
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TW200417421A (en
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Makoto Komatsubara
Ryuuichi Inoue
Mie Oota
Kazuki Tsuchimoto
Kondo Seiji
Tomoaki Masuda
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Nitto Denko Corporatio
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26DRYING
    • F26BDRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B13/00Machines and apparatus for drying fabrics, fibres, yarns, or other materials in long lengths, with progressive movement
    • F26B13/10Arrangements for feeding, heating or supporting materials; Controlling movement, tension or position of materials
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements

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Description

1312297 玖、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種用來使塗佈於行進中之長形支撐體 的塗佈液連續乾燥的技術,特別是關於該乾燥方法、將該 乾燥方法所形成之光學機能層積層而構成之光學薄膜、具 有該光學薄膜之偏光板、及具有該偏光板之影像顯示裝置 【先前技術】 用來使塗佈於行進中之長形支撐體的塗佈液連續乾燥 的方法,有從單方向對塗佈面吹入經空調之風的方法(例如 ,曰本特開2001-170547號公報卜其他亦有於塗佈後之乾 燥裝置内,將熱風吹送至塗佈面或以遠紅外線照射等乾燥 方法。 ' 但,近年來於液晶顯 因使用用途之不同, 特別是薄膜塗佈在1 〇 而產生之外觀不均非 域, 來。 不均 不裝置等光學用途用的薄膜等領 對塗佈後的外觀要求變的嚴格起 # m以下的商品,由於塗佈膜的 常明顯’故希望減少該外觀不均 然而,習知的乾燥方法中,在塗佈袋置於 ==!塗佈液之後到在乾燥裝置進行乾燥為止: 二圍μ之呈不規則速度及方向之風等所造 : 衫響,而使乾燥速度不均句。這樣便使塗佈膜之= 1312297 使塗佈膜的厚度產生偏差 力產生差異而導致塗佈液流動 ,而有產生外觀不均的問題。 發明之描元_ 發]係有鑑於上述問題而創作’目的為提供一種塗 膜的乾燥方法’其可安定製造厚度偏差少的塗佈膜,並 ,供將該乾燥方法所形成之光學機能層積層而構成之光學 :膜、具有該光學薄膜之偏光板、及具有該偏光板之影像 顯示裝置。 塗佈膜(於行進中之長形支撐體塗 使剛塗佈上之塗佈液之蒸發速度 以下’便可均勻地將塗佈膜乾燥 本發明者等發現,將 佈堂佈液而形成)乾燥時, (乾燥速度)在0.1 g/m2 . s ’形成厚度均勻的塗佈膜 因此,本發明為一種塗佈膜的乾燥方法,係於行進中 之長形支撐體塗佈塗佈液所形成之塗佈膜之乾燥方法;且 於該長形支撐體塗佈塗佈液後,立刻將溶劑之蒸發速 度(乾燥速度)保持在〇 lg/m2 · s以下來進行乾燥。藉此, 可均勻地將塗佈膜乾燥,而安定製造厚度偏差少的塗佈臈 因此’可得到形成有塗佈膜之外觀良好的製品。 又’使蒸發速度為〇· 1 g/m2 . s以下之乾燥,係以在塗 佈有塗佈液之長形支撐體進入乾燥裝置之前來進行更佳。 准’亦可僅進行使蒸發速度為〇. 1 g/m2 · s以下之乾燥過程 便結束乾燥,而不另外設置乾燥裝置。 又’本發明為了使蒸發速度在〇. 1 g/m2 . S以下,較佳 者為將與剛塗佈上塗佈液之該長形支撐體平行的板,配置 1312297 塗佈膜隔有空隙。藉此,可防止風從周邊環境進入板 Γ膜間的空隙’使空隙大致充滿溶劑之蒸氣,而使蒸 知迷度在(Ug/m2 · S以下。 點^:又,較佳者為將該板的溫度控制於塗佈液之蒸氣之露 囹以上。精此’可將蒸發速度控制於〇.lg/m2 · s以下之範 且可防止蒸氣之結露’進行安定的乾燥過程。 又,較佳者為於該板之長形切體側之面設置讀片。 ^【可防止伴隨長形支撐體行進而產生的空氣流動影響 軋無狀態的塗佈膜,而得到厚度均一的塗佈膜。 右塗佈膜的黏度為3GGmPa . s以下,便可進行更 女疋的乾燥。又,若為 定的乾燥。 4 5°〇mPa.s以下,便可進行更加安 ^ L者為塗佈料當作具有光學機能 層。藉此,即#县、片在七 于风月b 近年來對外觀嚴格要求的光學 亦可得到外觀均一的塗佈物。 堂佈物 之光如上的乾燥方法製造將光學機能層積層而構成 之先學薄膜,便可得丨 傳取 者,將該種光學薄膜積於外觀均之光學用薄膜。再 外觀均-之光學=板來形成偏光板,便可得到適用於 外觀均-右板來製造影像顯示裝置’則可實現 问。口位的裝置。 C明亦為—種塗饰膜之乾燥方法,係於行進 且將二撐體塗佈塗佈液所形成之塗佈膜之乾燥方法; 將寬度較長形支樓體寬度為寬之板,沿塗佈液之塗佈裝 1312297 =下游側之長形支揮體之行進路#配置;使剛藉 置形成有塗佈膜之長形支撐體,在塗佈膜與板之板j 既定間隙之狀態下沿行進路徑行進1以於該間隙進:: 佈膜之乾燥之至少一部分。藉此可在降低來自周圍環产之 風等影響下進行乾燥,並可安^製造厚度偏差少之塗^ 藉由以下之詳細說明及附圖,將可更明白本發 的、特徵、態樣及優點。 【實施方式】 實施發明之最佳裉能 以下,參照圖式詳細說明本發明 知a夂可適用於影像顯示 裝置之偏光板等製程的實施形態。 圖1表示於長形支撑體之塗佈膜形成側設有板之構成 圖。長形支樓體1〇’係塗佈膜形成之基材,例如 之製造中,為網狀之薄膜戋簿片辇所m A 板 寻膜次4片專所構成之平坦的長形可 撓性之面狀基材,能在由複數個輥子35等支㈣狀態下 往紙面右方m定之速度行進。在長形支撐體1〇之 行進路徑中長形支撐體10之至少一面侧(圖ι係上面側, 其他圖亦同),設置有用以塗佈塗佈液之模塗機㈣⑶心 等塗佈裝置30 ’當長形支撐體1〇行進於塗佈裝置3〇時, 塗佈液會均句地塗佈在長形支撐體1G之上面側而形成塗 佈膜11塗佈i係用來形成例如偏光板之保護片或光學 機能層(具體例後述)。 在長形支樓體1G之行進路徑中緊隨塗佈裝置3〇之後 10 1312297 製程上之下游側)’將大致平行於長形支撐體iG主面(被塗 佈面)之板2〇設置成與塗佈於長形支樓體ι〇之塗佈膜η °且方、板20與塗佈膜之間設有一定之空隙G。板 之與塗佈膜U對向之面他側儘可能加工成光滑狀態,板 二係具有可在長形支撑冑10之寬度方向(垂直紙面之方 向)元全覆蓋塗佈膜η沾玄 Λ Μ 的寬度,且沿長形支撐體10之行進 徑配置。又,板1G係主要用來抑制形成於長形支撑體 1〇之塗佈膜u在未乾燥狀態下受到來自行進路 境之風等影塑,妗Λ & 艰衣 a故板20與塗佈膜11間之空隙G以10mm …二其結果’板20與塗佈臈11間之空隙會大致充 滿洛劑之蒸氣,可將溶劑之蒸發速度減低至0.1g/m2. s以 下’均勾地將塗佈膜乾燥’而形成厚度均一之塗佈膜。 士因此’板20’係用來防止塗佈膜u暴露於外部之氣 ::同時具有蒸發環境控制板的機能,能藉著從塗佈膜U 溶:之蒸氣壓本身自律且均句地控制間隙G内塗佈 、之命劑蒸發環境(並非如日本特Μ 報般的強制送風等)。 U Α 為了 &制’奋劑之瘵發速度’可將板20形成為呈均 =導性’且以含有熱源之溫度控制部%來使 與㈣面對向W之溫度)為溶劑之露點 皿度。惟,该情形中仍將溫度調整為使溶劑之蒸發 、=〇.lg/m2.SWT。藉此,可在板20與塗佈膜η間 〇1防止溶劑之蒸氣之結露,並將溶劑之蒸發速度在 · s以下之範圍内任意調整。 1312297 板20例如可為以金屬板或金屬層覆蓋下面而構成 ,板材,溫度控制部25例如可具有電子加熱器作為熱源 較佳者為设置用來檢測板材2〇或空隙G之溫度的溫度 感測器26,使用該溫度感測器、%之溫度檢測值來進行溫 度控制。p 25之回饋控制’便可更加精確地進行板之溫 度調整。 使用如上述板20之乾燥過程,以在剛塗佈完塗佈液之 後m形支撐體1()進人乾燥裝置4G之前來進行為佳 ’利用該時機來進行乾燥,便可有效防止未乾燥狀態之塗 佈液在進人乾燥裝置4〇前受到來自周圍環境之風等影響 欲说,形成塗佈 體 二艰艰极zu下方的長形支 10’係進人習知之乾燥裝置4G,進行加熱或紫外線 射而將塗佈膜1丨完全乾燥或硬化。惟,設置於緊隨塗 裝置30之後的板2〇之溫度係受調整,故板下方之 隙G’溫度比室溫高而有加速塗佈膜u乾燥之作用。因 ,亦可利用板20的作用將塗㈣η完全乾燥,此情形, 不必設置乾燥裝置40。 又,若長形支撐體10通過板2〇之下方後,以乾燥; 置作別的乾無處理時,亦可使溶劑之蒸發速度4 〇g/m2. 。在此情形,形成有塗佈膜u <長形支撐體ι〇 環境而完全未乾燥的狀態下引導至乾燥裝i 4〇, 好、均-膜厚之塗佈膜。相對於此,在未設置乾燥裳置* 的情形下,長形支撐體1G必須在通過板2q下方時進行— 32 1312297 王的乾燥,故將溶劑之蒸發速产 。以/ ,㈣迷度控制在咼於〇g/m2. s之值 此情形下之具體之墓發逑p ^ 進方向之長度或長形支撐體根據板2〇沿行 全乾燥之速度。之移動速度等取決於可完 為了以上述方法生成均一 塗佈魟# 之文疋塗佈膜11,所使用之 土佈液之黏度以300mp 之邦A i π Ώ 以下為佳。又更佳為使塗佈液 25Gmpa.u下’便可奸更加衫的乾燥。 撐圖2係表示與圖1不同之構成,表示於長形支 膜形成側與非形成側兩者設置有板之構成。在 =^撐體H)之行進路徑中緊隨㈣裝置%之後,將应 10 . ^ ^ 仃之第1板20a設置成在長形支撐體 體10大致平行之第2:佈膜11對向,又,將與長形支撲 之弟2板20b設置成在長形支撐體10之塗 於第1板加與塗佈膜=1()對向。此情形下’同樣地 間分別設有:定之空隙I:第2 :於在與塗佈膜"對向之一側設置第…如,故使 ,-估、v/a與+塗佈膜11間之空隙G1 A致充滿溶劑之蒸氣 〜】之条發速度減低至G.lg/m2 . S以下,塗佈膜均 勻"乞燥,而形成厚度均一之塗佈膜。
? rU .^ ^ ^於在長形支撐體之塗佈膜形成側與非形成側兩 者吕又罝板 2〇Ρ X ΟΛ1. ^ b’故可進一步有效避免來自周圍環境之 風專的影響。 為了控制溶劑之蒸發速度,將板20a、20b分別形 13 1312297 成為呈均一熱傳導性,且以含熱源之溫度控制部25a、25b 來使板20a、20b的溫度(特別是與塗佈面或支撐體表面對 向之面的溫度)分別在溶劑之露點以上之溫度。由於將控制 板20a及20b分別控制,故可在控制溶劑之蒸發速度時作 微妙的調整,而能以高精度實現蒸發速度為〇.lg/m2 . s以 下之安定狀態。, 在獨立控制板20a及20b之溫度之情形,最好另外設 置可分別測定板20a、20b或空隙Gl、G2之溫度的溫度感 測器26a、26b來對溫度控制部25a、25b分別作回饋控制 ,但亦可參照其中之一(例如,與塗佈面對向之一側之溫度 感測器26a)的溫度測定值來對2個溫度控制部25a、25b 兩者作回饋控制。 其次,圖3為與上述不同之構成,表示設有在塗佈塗 佈液後立刻包圍長形支撐體的包圍板(扁平通道構造體)2〇c 之構成。又,圖3表示垂直於長形支撐體1〇行進路徑之 面圖,長开》支撐體i 〇係在紙面的垂直方向上行進。 圖3的構成中,包圍板2〇c係配置於長形支撐體⑺行 進路經中緊隨塗佈裝置30之後,剛形成有塗佈膜η之長 形支撐體1G係進人包圍板2士所形成之通道狀内部空間21 内。即,包圍板20c的構造不僅設置於長形支撐體丨〇之塗 佈膜形成側及非形成側,且在旁側亦設有,可顯著降低 長形支擇體H)及塗佈膜η行進於包圍板心内部空間21 時受到來自周圍環境之風等影響。且,於包圍板2〇C之與 塗佈膜11對向之面側,在塗佈膜u與包圍板2Ge間設置 14 1312297 有上述一定之空隙G1,使溶劑之蒸發速度為〇.lg/m2 s 以下。 又’為了控制溶劑之蒸發速度’將包圍板2〇c形成為 呈均一熱傳導性,且以含熱源之溫度控制部使包圍板 20c的溫度(特別是内面側之溫度)在溶劑之露點以上之溫度 。藉此,可在包圍板20c與塗佈膜1!間之空隙G1、或在 包圍板20c之内部空間21$防止溶劑之蒸氣之結露,且將 蒸發速度在0· 1 g/m2 · S以下之範圍内任意調整。 其次,圖4表示圖1之構成中在板2〇設置有平板狀之 複數個鰭片22a〜22d之構成。如圖4所示,鰭片22a〜22d 係垂直設置於板20之與塗佈膜對向之面,且橫越長形支 撐體ίο之行進路上。又,在鰭片22a〜22d下端部與塗佈 膜1 1間設置一定之間隙G,來使鳍片2 9 ” d 山 个從& 22a〜22d下端部不接 觸塗佈膜11。 由於在板20之與塗佈膜u對向之面設置鰭片 22a〜22d’故可減低伴隨塗佈有塗佈液之長形支撑體10在 行進中產生之残則對溶劑之蒸發速度造成不均一 之影響。即,鰭片22a可防士而a > 防止面向行進方向所產生之氣流 8侵入板20與塗佈膜u間之空 J <二丨永空間G,而可在不受氣 流8之影響下安定進行乾燥。7 、 丁牦輙又,板20與塗佈膜π間之 空隙空間G内推測亦會產生奄 座生乳/瓜’但藉由鰭片22b、22( 防止該氣流發生廣泛的影響, B 而此進行安定的乾燥。又, 利用設置鰭片22a〜22d,可右崎# / ^ . 了有效減低板20與塗佈膜U間 之空隙二間G受到來自周圍環境之影響。 15 1312297 上述鰭片22a〜22λ可沿長形支 配罢. 又稼體〗0行進方向等間隔 配置,亦可為板2〇端部 ^ 附、* . 咐近之配置間隔、與板20中央部 ¢,,.. 在°亥荨知。卩附近(特別在相當於 圖左側之入口附近)很容易在 、 勿在具有塗佈膜u之 10之各部在進入板20之 支撐體 卜方工間捲入空翁,伯出 端部附近以較㈣距排列 4彳-由於在 作用…"/可加強防止氣流捲入的 又,如圖4所示,複勒個 μ ?f) .., „ 鰭片22a〜22d中端部側之 釋片20a、20d最好設置成盥板 Μ ,, 〇板2〇柒面20e之位置整合。 錯此’可利用板20之端部防止氣流8侵入。 又與圖1之構成同樣地,為了控制溶劑之基發速产 ,將板20形成為呈均—埶 …么速度 制邱以v*』 …導生,且以含熱源之溫度控 制口P 25使板2〇的溫度 义仏 分別A、—釦^ (特別疋與塗佈面對向之面之溫度) 刀別為洛劑之露點以上 田 ^ 之/置度。鞛此,可防止板20與塗 佈膜11與各鰭片22 /、土 έ士命0 4之空隙空間G内溶劑之菽氣 結路,且可將溶劑之1级 …、軋 任意調整。又,亦可^又 咖.S以下之範圍内 空隙*門對# ^ 個被各轄片22卜22<1隔出之部分 永二間對板20之溫度個 調整塗佈液之乾燥狀“ 情形下,可更仔細 度感測器26亦八、_/“、 *之分割控制之情形下,若溫 每個區域之、W "刀別設置在各部分空間(分割空間),來進行 母區域之溫度的回饋和:击|,彳φ γ ^ 。又,亦可使柄川I 別加強溫度調整機能 下,口要將 之下面形成波狀來取代鰭片,此情形 方向延伸η 叉^ 10 <丁進方向成大致垂直的 之设數個波狀構造 向平行排列即可。即,二 長形支㈣1〇之行進方 雖,、、、、如圖4般之鰭片的排列形成是 16 1312297 理想的態樣,但一般將沿與長形支撐體1〇行進方向大致 成垂直之方向延伸的複數個凸構造大致平行地排列於板2〇 之下面’便可得到防止氣流捲入之效果。 利用上述之塗佈、乾燥的過程,可將上述塗佈膜u當 作例如具有光學機能之光學機能層。1,可將使用於影: 顯示裝置之光學薄膜或偏光板當作積層有上述光學機能層 之構造。Φ即’上述乾燥過程,尤其有助於在光學薄膜或 偏光板上形成光學機能層。 偏光板’係例如在含雙色性物質之聚乙稀醇系薄膜等 所構成之偏光元件之單面或雙面上設置保護片或其他光學 薄膜而構成的構造。 偏光元件不特別限定,可使用各種物質,例如有將班 或雙色性染料等雙色性物質吸附於聚乙稀酵系薄膜、部: 甲醢化聚乙稀醇系薄膜、乙婦及乙酸乙婦醋共聚 化薄膜等親水性高分子智 ^ 取 千屬膜亚進仃早輛延伸而成者,以及 聚乙烯醇之脫水處理物、臂 知虱乙烯之脫鹽酸處理 配合薄膜等。其巾又以$ Γ㈣p 初寻夕席 ^ 聚乙烯®子糸溥膜及碘等雙色性物皙 所構成之偏光元件較佳。 又巴r生物貝 若將設於偏光元件星而_ — 件早面或雙面之保護片當作本發明之 貫施形態之塗佈膜11,目,丨兮Λμ 赞月之 則該保濩片之材料最好是透明产、 機械強度 '熱安定性、水分遮蔽性 :月度 可為聚對苯二甲酸乙二卿ET)或聚 者。例如 (PEN)等聚酯系聚合物,一 A布 文乙一醇酯 , 一乙基纖維素或三乙醯Α鏞給 '、寻纖維素系聚合物,聚基土… π欠甲酯等丙烯酸酯系聚 17 1312297 σ物、聚苯乙埽或丙腈及苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯 系聚合物’聚碳酸酯系聚合物等。又,形成保護片之聚合 物例如有’具有聚乙烯、聚丙烯、環系或降冰片烷構造例 如聚稀經、乙烯·丙烯共聚物等聚烯烴系聚合物,聚氣乙 稀系聚合物、耐綸或芳香族醯胺等醯胺系聚合物、醯亞胺 系聚合物、碾系聚合物、聚醚楓系聚合物、聚醚醚酮系聚 合物、聚苯硫系聚合物、乙烯醇系聚合物、偏氯乙稀系聚 δ物聚乙婦醇縮丁醛、烯丙酸酯系聚合物、聚甲醛系聚 α物、ί哀氧系聚合物,或前述聚合物之混合物等。 又,保護片可由丙烯酸系、聚氨酯系、丙烯酸聚氨酯 系、壞氧系、石夕鲷系等熱硬化型、紫外線硬化型樹脂之硬 化層形成。此情形,可將呈現熱硬化作用或紫外線硬化作 用之塗佈液以塗佈裝置3〇塗佈於長形支撐體(偏光元件)1〇 後立刻、且在進入乾燥裝置4〇内之前,使用上述乾燥方 去,便得到均一之安定硬化層。 又,如上之偏光板實際上是積層各種光學機能層後使 用。而上述乾燥方法在形成光學機能層時亦可使用。 對該光學機能層並無特別限定,例如,可在偏光元件 之未叹有保護片之面施加硬覆膜處理或抗反射處理 '以影 像殘留防止或擴散抗眩目等為目的之表面處理,或積層以 視角補償等為目的之配向液晶層。又,亦有將反射板或半 透:板、相位差板(含1/2$ 1/4等之波長板(卿、視角 補償層等影像顯示裝置形成時所用之光學機能層積層!層 或《以上而成者。特別較佳之偏光板,係於偏光板積層 18 1312297 反::或半透過反射板之反射型偏光板或半透過型偏光极 ^相位差板所形成之橢圓偏光板或圓偏光板、積層視 偏=層所形成之廣視野角偏光板或積層有亮度提升層之 視角補償層為一種用於加寬視野角之光學機能層,其 使在非垂直於影後顧—姑 “不裝置畫面而稍斜方向觀看時仍能看 2痛衫像。積層有該種視角補償層之廣視野角偏光 ==晶聚合物等配向層以相位差板、液晶聚合: 等配向膜或透明基材來支撑而構成。通常之相位差板传使 方向車軸延伸之具複折射性聚合膜,但使用於視角 聚=\目位差板係使用沿面方向雙轴拉伸之具複折射性 =折:Γ方向單軸延伸且厚度方向亦延伸之控制厚 X向折射率的具複折射性聚合物或如傾斜配向膜之雙向 延伸膜等。傾斜配向膜例如有將熱收縮膜接著於聚合膜, 所產生收縮力之作用對聚合膜進行延伸處理或/及 收縮處理而成者,亦有將液晶聚合物斜向配向 :目:差:反之素材原料聚合物可依防止視認角隨液丄 :二見之野::而改變所造成之著色之目的, k之視野肖的目的等來選擇適t之聚合物。 將二=成良視認廣之視野角的觀點等,較佳者為使用 W Λ、 +,、门r生層以二乙醯基纖維素膜來 支撐而成之光學補償相位差板。且形成呈現該光學補償機 能之視角補償層時可使用上述乾燥方法。例如,於長形之 19 1312297 三乙酿基纖維素膜汾 該塗佈膜乾燥時可使 觀均一的相位差板。 佈含液晶性圓盤化合物之塗佈液, 用上述乾燥方法,藉此方式可得到 將 外 積層有儿度提升層之偏光板通常係設置在液晶元件的 内側來使肖w度提升層係呈現,當液晶顯示裝置等影像 ’ ^ 之月光、或從裏側反射出之自然光入射時將既定 偏光車之直線偏光或既定方向之圓偏光加以反射,而使其 ,光:透之特性者。積層有亮度提升層之偏光板,使來自 背^等光源之光入射而得到既定偏光狀態之透過光,同時 將前述既定偏光狀態以外之光反射而不使其穿透。使在亮 度提升層之膜面反射之光,進一步透過設於後方側之反射 層等反轉並再入射於亮度提升層,使其中一部分或全部之 光以既=偏光狀態的光的形式穿透,以增加穿透亮度提升 層之光!,同時對偏光元件供應難以吸收的偏光,以增加 可利用於影像顯示之光量,藉以來提升亮度。_,不使用 亮度提升層(亮度提㈣),以背光等使光從液晶元件裏側 經由偏光元件等入射時,具有與偏光元件之偏光轴不一致 偏光方向的光幾乎均被偏光元件所吸收 件:即,依所用偏光元件之特性而有所不同,但::= 的光會被偏光元件吸收,使利用於影像顯示之光量減少, 衫像變暗。亮度提升層使具有能被偏光元件吸收偏光方向 的光,不入射於偏光元件,而先藉亮度提升層反射,再透 過設於後方側之反射層等反轉並再入射於亮度提升層,反 覆此過程’僅使在該兩者間反射、反轉之光之偏^向為 20 1312297 可通過偏光7C件之偏光方向的偏光穿透並供應給偏光元件 故可將煮光等光有效率地使用於影像顯示,使晝面變亮 又,亦可在亮度提升層與反射層等之間設置擴散板。 被免度提升層反射呈偏光狀態的光雖然面向反射層等,但 所設置之擴散板,係使通過的光均勻擴散的同$,解除偏 光狀態’ @成為非偏光狀態。即,恢復為原本的自然光狀 態。該非偏光狀態即自然光狀態之光,面向反射層等,透 认反射層等反射’再通過擴散板,再入射於亮度提升層, 反覆此過程。由於設置用於恢復為原本的自然光狀態之擴 散板’故可維持顯示晝面之亮度’同時減少顯示畫面之明 亮度之不肖,而提供均句明亮之畫面。由於設置用於恢復 為原本自然光狀態之擴散板,故首次之入射光,係反射之 反覆次數增加,再加上擴散板之擴散機能,而能提供均勻 之明亮顯示晝面。 呈 固醇型 支撑而 使其他 上述乾 形成配 述乾燥 又 射率異 現如上光學機能之亮度提升層可適當使用例如將膽 液晶聚合物之配向膜或其配向液晶層以薄膜基材來 成者般呈現將往左或往右偏者之圓#光反射而 光穿透等之特性者等。此外,形成該亮度提升層時 燥方法亦可適用。例如於長形薄膜基材上塗佈用於 向液晶層之塗佈液,將該塗佈膜乾燥時,可適用上 方法,藉此,可形成外觀均一的亮度提升層。 ,亮度提升層亦可使用例如誘電體之多層薄膜或折 向性不同之薄膜多層積層體般呈現使既定偏光軸之 21 1312297 直線偏光穿透而使其他光反射之特性者,在該亮度提升層 ,使透過光直接以偏光軸與偏光板一致之方式入射,藉此 可抑制偏光板所造成之吸收損耗並使光有效率地穿透。因 此,該亮度提升層亦可積層於以上述乾燥方法形成之光學 機旎層上,而形成多層構造之偏光板。 另外,如膽固醇型液晶層般使圓偏光穿透之類型的亮 度提升層雖亦可使透過光直接入射於偏光元件,但在抑制 吸收損耗之考量下,最好將圓偏光透過相位差板進行直線 偏光化再使其入射。又’以1/4 &長板作為相位差板,便 可將圓偏光轉換為直線偏光。 /在可見光區等廣波長範圍當作1/4波長板之相位差板 ,係例如可對於波長550nm之單色光將作為1/4波長板之 相位差層、與呈現別的相位差特性之相位差層(例如作為 1曰/2波長板之相位差層)重疊來得到。配置於偏光板與亮度 提升層間之相位差板亦可由!層& 2層以上之相位差層所 構成。又’該相位差層亦可將塗佈液塗佈形成㈣膜後, 再將該塗佈膜乾燥來形成,而可形成外觀均一之相位差層 以該方式形成各種光學機能層時,於作為母材之長形 支撐體(薄膜等)塗佈塗佈液而形成塗佈膜,並將該塗:膜 :上迷乾燥方法乾燥’而形成均一之光學機能層。依此方 /將光學機能層積層於光學薄膜上,可 — 卉璺笔脫 = 4 J 疋阿品質 予屬膜。再者,將該光學薄膜積層於偏光板,
均—之高品質偏光板。 侍至J 22 1312297 又’偏光板亦可由將偏光板與2層或3層以上光學機 能層積層者所構成。因此,亦可為將反射型偏光板或半透 過型偏光板、與相位差板組合成之反射型橢圓偏光板或半 透過型橢圓偏光板等。X,於光學薄膜或偏光板亦可設置 至少一層藉上述乾燥方法形成之光學機能層。因此,偏光 板,亦可為在具多層構造之光學薄膜或偏光板中至少有i 層藉上述乾燥方法形成,而其他層係以習知方法形成者。 士又,於將如上述光學機能層積層於保護片時,積層之 時機可在將保護片貼合於偏光元件前,亦可在貼合後。在 冬:佈液塗佈於保護片以積層光學機能層的情形,使保護 二單獨或偏光元件與保護片之積層體為長形支樣體ι〇,於 又形支標體1G藉塗佈裝置3G塗佈具有光學機能之塗佈液 :::在該塗佈膜進入乾燥裝置40冑的期間,可採用上 ’〔乾燦方法。且藉該乾燥方法可進行安定的乾燥,形成均 —的光學機能層。 犋昉 、板上積層如上述具有光學機能層之光學 亦可分別生成光學薄膜及偏光板,並在液晶顯示 來 褒置之氣在中將光學薄膜及偏光板彼此貼 忠— 先予溥膜積層於偏光板而成者,係品
疋性或組裝作業I F系寺t ’使影像顯示裝置之製程有效率。 此外,依上述方、本ρ Μ α ^ 置^丄、 I万法传到之偏光板可適用於液晶顯示 〆成。例如,可蚀 或錐^ j使用於將偏光板設置於液晶元件單 孑雙面而成之反射 平 晶顯示带 _或+透過型、或透過反射兩用型之 " 4晶几件基板,係可為塑膠基板、玻璃基 23 1312297 任者。又’形成液晶顯示裝置之访B-灿从 代表薄型電曰…也4置之液曰…牛為任意’例如 扭“動矩陣驅動型、代表扭曲向列型或超 扭曲向列型之單純矩陣驅動型等…、… 超 件。日i 干職專,使用適當類型之液晶元 “由於將以上述乾燥方法形成之光學機能層積層而 ^的偏光板使用於液晶顯示裝置,故實現液晶顯示裝 句一之高品質影像顯示。 又,以上述方式得到之偏光板不限於液晶顯示裝置, 巢:適用於有冑EL顯示裝置或電漿顯示裝置等液晶顯示 於上述液晶顯示裝置使用將藉上述乾燥方法形成之光 :機能層積層而成之偏光板,便能實現外觀均—之液晶顯 ;'、裝置肖可女疋得到該液晶顯示展置。又,實現液晶 顯不裝置中均一之高品質影像顯示。 以下,以實施例及比較例對本發明進一步具體說明。 惟,本發明不限定於該等實施例及比較例。 實施例1 將紫外線硬化型液晶單體以有機溶劑(環戊酮)稀釋為 固體成分30%而成之黏度6mPa. 8(測定裝置:Haake公司製 流變計RS-1)之塗佈液,於PET膜(厚度75#⑷上,藉模 塗機塗佈該塗佈液,並使該塗佈液乾燥後之厚度為4〇从m ’並使該塗佈膜如圖1所示通過配置有板2〇(其與塗佈膜 間有一定空隙G)之區域後,藉乾燥裝置4〇以7(KC之熱風 乾燥後,以紫外線照射(積算光量300mJ/cm2)來使其硬化, 得到具有光學機能層之薄片。此時根據所產生蒸氣之氣體 24 1312297 濃度分布與風量(風速)來測定在配置有板20之區域中塗佈 液之蒸發速度之結果為〇_〇3g/m2 . s。 本發明者等確認了在批式乾燥方式中,蒸發速度與產 生洛氣之氣體濃度分布之間有相關性。以批式將塗佈液載 置於電子天平上’邊監測氣體濃度與風速邊測定重量隨時 間之變化,藉此事先算出氣體濃度及風速、與乾燥速度之 關係(檢量線),本實施例係利用該關係算出蒸發速度。具 體而5,在板20中基材流動方向之中央部分且基材寬度 方向中央部分開孔,並於該孔配置氣體濃度測定裝置(橫河 電氣公司製可攜式V0C監測器)及風速測定裝置(日本卡奴 馬克司公司製風速計)等各感測器,以測定氣體濃度及風速 ,並由依上述方法預先求得之㈣、m述蒸發速度為 0.03g/m2 . s。 又,本實施例中將風向定為與基材行進方向為同向(順 向)’所測定之風速為〇.lni/s。 比較例1 來形成塗佈 後之部分之 在實施例1除去板20,其他則相同條件, 膜。此時,以與上述同樣方式測定除去板 塗佈液之蒸發速度,結果為〇12g/m2 . s。 及風速測定裝置 ’設置於距塗佈 ’結果與實施例 又,本比較例中,氣體濃度測定裝置 之各感測器設置於與實施例1同樣之位置 膜表面5mm的位置。且,確認此時之風逮 1相同。 評價1 25 1312297 圖5表示實施例1及比較例1之塗佈膜平均值分散产 ’圖6表示塗佈膜厚分散度。如圖5所示,塗佈膜之平均 值在實施例1及比較例1無不同,但如圖6所示實施例工 在塗佈膜之分散度上比起比較例丨為小,故得知可形成厚 度偏差少之光學機能層。因此’由於在塗佈塗佈液後,立 刻以蒸發速度保持在〇· lg/m2 . s以下的狀態進行乾燥,故 比起蒸發速度較快之情形,能形成厚度偏差少之光學機能 層。 又,若厚度分散度為〇·〇3 # m以下,則薄膜之外觀不 均不明顯,故如實施例1般以0.1 g/m2,s以下之蒸發速户 進行乾燥’便可得到良好的光學薄膜。 實施例2 將熱硬化型樹脂以有機溶劑(MIBK(曱基異丁基酮)稀 釋為固體成分ίο%之塗佈液(黏度250niPa . s),於TAC膜( 厚度85 em)上藉模塗機塗佈該塗铈液,並使乾燥後厚度為 3_0/im,使该塗佈膜如圖】所示通過配置有板2〇(其與塗 佈膜間設有一定空隙G)之區域後,藉乾燥裝置4〇以ι〇〇 °C熱風乾燥,得到具有光學機能層之薄片。此時根據所產 生蒸氣之氣體濃度分布與風量(風速),與實施例丨同樣地 測定配置有板20之區域中塗佈液之蒸發速度,結果為 0.06g/m2 · s ° 又,本實施例中,測定塗佈液黏度之裝置與實施例工 為相同’且確認此時風速,結果亦與實施例1相同。 比較例2 26 1312297 在實施例2除去板20,其他則與上述相同條件,來形 成塗佈膜。此時,將除去板20之部分之塗佈液之蒸發速 度以與上述同樣方式測定’結果為0.15 g/m2 . s。 又,本比較例中亦將氣體濃度測定裝置及風速測定裝 置設置於與實施例2相同之位置。此外,確認此時之風速 ,結果為0 · 1 m/s。 評價2 圖7表示實施例2及比較例2之塗佈膜厚平均值,圖 8表示塗佈膜厚分散度。如圖7所示,塗佈膜之平均值在 實施例2及比較例2無不同’但如圖8所示實施例2在塗 佈膜之分散度上比起比較例2為小,故得知可形成厚度偏 差少之光學機能層。因此,由於在剛塗佈塗佈液後,立刻 以蒸發速度保持在〇.lg/m2 · s以下的狀態進行乾燥,故比 起蒸發速度較快之情形,能形成厚度偏差少之光學機能層 。又,實施例2,亦成為厚度分散度為〇.〇3#m以下、薄 膜之外觀均一的良好的光學薄膜。 以上係對本發明作詳細說明,但上述說明僅為例示, 本發明並不限定於此。在不脫離本發明之範圍内尚包含許 多未例示之變形例。 【圖式簡單說明】 (一)圖式部分 圖1為表示長形支撐體之塗佈膜形成側上設置板 成圖。 圖2為表示長形支樓體之塗佈膜形成側與非形成側兩 27 1312297 者之上設置板之構成圖。 圖3為表示剛塗佈塗佈液後以包圍長形支撐體之方式 設置包圍板之構成圖。 圖4為表示圖1的構成中在板上設置平板狀的鰭片之 構成圖。 圖5為表示實施例1與比較例1塗佈膜厚度平均值。 圖6為表示實施例1與比較例丨塗佈膜厚度之分散性 〇 圖7為表示實施例2與比較例2塗佈臈厚度平均值。 圖8為表示實施例2與比較例2塗佈膜厚度之分散性 (二)元件代表符號 10 長形支撐體 11 塗佈膜 20,20a,20b 板 2〇c 包圍板 22a~22d 鰭片 溫度控制部 溫度感測器 塗佈裝置 輥子 乾燥裝置 25,25a,25b 26、26a、26b 30 35 40 G、Gl、G2 空隙 28

Claims (1)

1312297 拾、申請專利範園: 1.-種塗佈膜之乾燥方法,係於行進中之 塗佈塗佈液而形成之塗佈膜支牙體 祀你万法,其特徵在於·· 於該長形支撐體塗佈塗佈 产伴持在师土佈液後,立刻將溶劑之蒸發速 度保持在O.lg/m . s以下來進行乾燥。 2·如申請專利範圍帛丨項之塗佈膜 〃 塗佈有該塗佈液之長形支撐^ 、 L μ法,係於 、躁。 心支撐體進入乾燥裝置之前,進行乾 3·如申請專利範圍第】項之塗佈臈之提 與剛塗佈上塗佈液之該長形支擇體平行的板:法’係將 佈膜隔有於塗佈膜在該空隙行進中進行乾置燥成與塗 :如申凊專利範圍第3項之塗佈膜之乾燥方法,1中 ^板之溫度控制於塗佈液之蒸氣之露點以上。 '、 5·如申請專利範㈣3項之㈣膜之乾 ’該板於長形支撐體側之面上設置鰭片。、、、中 6, 如申請專利範圍帛1項至第5項中任一 5 之乾燥方法,立中兮泠德na 項之塗佈膜 機能層。 九予機能之光學 7. -種光學薄膜’其特徵在於,係 6項之塗佈膜之菸、區古i β 甲μ專利範圍第 。 ㈣…方法所形成之光學機能層積層而構成 8·-種偏光板,其特徵在於,係 7項之光學薄膜。 Τ明專利範圍第 9·種影像顯示纟置,其特徵在於,係 、"'有申請專利 29 1312297 範圍第8項之偏光板。 〇 ·種塗佈膜之乾燥方法,俜;^$ & 塗佈塗係於仃進中之長形支撐體 ^ ^ ㈣之乾知方法,其特徵在於: 财龙度較長形支撐體寶声盔办 穿¥mL ㈣I度為見之板,在塗佈液之塗佈 、下游側/口長形支擇體之行進路徑配置; 使剛藉塗佈裝w犯# + % $ 土怖裒置形成有塗佈膜之長 臈與板之板面隔有既定間隙之狀能在塗佈 以於該間隙進行塗佈膜之乾燥之至少一部分。π進藉 u.如申請專利範圍帛1G項之塗佈膜之乾燥方法,Α 二當作第1板’並設置大致平行於第1板之第2 面對向、广間隔與長形支撐體兩面中塗佈膜側之相反側的 1板與第2 使剛形成有塗佈膜之長形支撐體,通過第 板之間隙來行進。 12.如申請專利範圍第1〇項之塗佈膜之乾燥方法,其 中,將與該長形支撐體之行進方向成大致垂直之方向上延 伸之複數個凸構造’沿行進方向排列成與板之下面大致平 行。 13.如申請專利範圍第1〇項之塗佈膜之乾燥方法, 中該板,係形成包圍長形支撐體行進路徑 體之一面。 福千通道構: 項之塗佈 之蒸氣之 14.如申請專利範圍第10項至第13項中任— 膜之乾燥方法,其中,該板之溫度調整成塗佈液 露點以上。 30
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