TWI577454B - 塗層設備、其之塗層方法及使用其形成有機層之方法 - Google Patents

Description

塗層設備、其之塗層方法及使用其形成有機層之方法

範例實施例是有關於一種塗層設備、一種其之塗層方法以及使用其形成有機層之方法，而能夠提供具有大致均勻厚度的薄層。

隨著資訊通訊產業快速發展，顯示裝置的應用項目亦廣泛增多。近來則需要能夠滿足低耗電、輕重量、薄型化以及高解析度的顯示裝置，即如平型面板顯示裝置。

舉例來說，像是液晶顯示(LCD)裝置及有機發光二極體(OLED)顯示裝置的平型面板顯示裝置可含有經構成於相對兩片基板之間的發射範圍和薄膜電晶體(TFT)。而為保護該發射範圍不受外部濕度、氧氣等等的影響，可將一嵌封材料施用於該發射範圍的週邊處藉以黏著該等兩片基板，並裹封該發射範圍。

該平型面板顯示裝置可具備一種多層結構，其中可沉積各種薄層，即如有機層、無機層及金屬層，俾構成該發射範圍和該TFT。例如主動矩陣有機發光二極體(AMOLED)顯示裝置可含有一種結構，其中沉積有一緩衝層、一半導體層、一電閘絕緣層、一閘極、一層間 絕緣層、源極/汲極、一保護層、一極化層、一像素定義層、一下方電極、一包含有機層的有機發射層、一上方電極等等。此外，該有機發射層可在該下方電極與該有機層之間含有一電洞注入層及一電洞傳送層，並且可進一步在該上方電極與該有機層之間含有一電子注入層及一電子傳送層。

該平型面板顯示裝置內的各種薄層可為藉由在該等所沉積薄層之間，即如該有機層、該層間絕緣層、該電洞注入層等等，施用一液體塗層材料所構成。該液體塗層材料可予以乾燥化俾確製一薄層。

本發明實施例係針對於一種塗層設備、其之塗層方法及使用其形成有機層之方法，該等可大致克服由於相關技藝之限制和缺點所導致的一或更多問題。

因此，一實施例之一特點在於提供一種能夠構成具有大致均勻厚度之薄層的塗層設備。

因此，一實施例之另一特點在於提供一種利用能夠構成具有大致均勻厚度之薄層的塗層設備之塗層方法。

因此，一實施例之又另一特點在於提供一種利用能夠構成具有大致均勻厚度之薄層的塗層設備構成一有機層之方法。

前述及其他的特性與優點之至少一者可藉由提供一種塗層設備所實現，其中含有一階台，其上設置有一塗層目標；一塗層部件，此者係經設置於該階台上，並且將一塗層材料施用於該塗層目標上；以及一加熱來源，此者係相對於並且分隔於該階台，並且在將該 塗層材料施用於該塗層目標上之後對該塗層目標供應熱能。

該加熱來源可重疊於整個塗層目標，該加熱來源係經建構以將熱能同時地且均勻地供應予整個塗層目標。該加熱來源可為一紅外線加熱器或一鹵素燈。該加熱來源可為一鹵素燈，並且該加熱來源進一步含有一反射平板。該加熱來源可朝向該階台垂直地移動。該加熱來源可完全地分離於該階台。該塗層部件可包含一位於該階台上的可移動支撐框架，以及一位於該可移動支撐框架上的射出部件，該射出部件可在與該支撐框架之移動方向相垂直的方向上移動，並經建構以射出該塗層材料。該支撐框架可含有多個第一支撐框架，該等係以一預定距離彼此相對地分隔並具有一預定高度；以及一第二支撐框架，此者的兩端皆經設置在該等第一支撐框架上並與該等第一支撐框架相交叉。該第二支撐框架可位於該等第一支撐框架上，同時經建構以朝向該階台垂直地移動。該射出部件可包含一可移動塗層頭，此者係經建構以按該第二支撐框架的縱向方向移動；以及一噴嘴，此者位於該可移動塗層頭內並經建構以射出該塗層材料。該塗層設備可進一步含有一腔室，該階台位於該腔室的下方部份處而該加熱來源則位於該腔室的上方部份處。

前述及其他的特性與優點之至少一者亦可藉由提供一種塗層方法所實現，其中包含將一塗層目標定位於該塗層設備內的一階台上；利用一塗層部件將該塗層材料施用於該塗層目標上；以及當完全地施用該塗層材料後，利用一位於該塗層設備內的加熱來源對該塗層材料供應熱能以乾燥化該塗層材料。

將熱能供應予該塗層目標可包含將均勻熱能同時地供應予整個塗層目標。施用一塗層材料可包含施用一有機發射材料、一有機薄層電晶體材料及/或一太陽能電電池材料。將熱能供應予該塗層目 標可包含以約100℃至約200℃的溫度乾燥化該塗層材料。將熱能供應予該塗層目標可包含利用一紅外線加熱器或一鹵素燈。

前述及其他的特性與優點之至少一者亦可藉由提供一種構成一有機層的方法所實現，其中包含利用一塗層部件將一有機材料施用經設置在一塗層設備裡一階台上的基板上；以及於施用該有機材料之後，在該塗層設備裡利用一加熱來源將熱能供應予該有機材料並且乾燥化該有機材料以構成一有機層。

施用該有機材料可包含施用一材料藉以構成一有機發光二極體的發射層、電洞注入層、電洞傳送層、電子注入層及/或電子傳送層。將熱能供應予該有機材料可包含以約100℃至約200℃的溫度乾燥化該有機材料。將熱能供應予該有機材料可包含將均勻熱能同時地供應予整個基板以乾燥化該有機材料。

1‧‧‧塗層設備

10‧‧‧塗層目標

11‧‧‧OLED

12‧‧‧有機層

13‧‧‧第一電極層

14‧‧‧第二電極層

20‧‧‧階台

30‧‧‧塗層部件

31‧‧‧支撐框架

31a‧‧‧第一支撐框架

31b‧‧‧第二支撐框架

33‧‧‧射出部件

33a‧‧‧塗層頭

33b‧‧‧噴嘴

40‧‧‧加熱來源

50‧‧‧腔室

藉由詳細描述示範性實施例並參照於隨附圖式，熟諳本項技藝之人士將更能夠顯知前述及其他的特性與優點，其中：圖1說明根據一示範性實施例之塗層設備的外觀視圖；圖2說明圖1之塗層設備的截面視圖；圖3說明一OLED顯示裝置的截面視圖，其中含有利用根據一示範性實施例之塗層設備所構成的有機層。

現將於後文中參照隨附圖式以更完整地說明多項範例實 施例；然該等可以不同方式所具體化，並且不應被詮釋為受限於本揭所陳述的實施例。相反地，該等實施例係經提供藉以令本揭示成為通徹且完整，同時對熟諳本項技藝之人士完整地傳遞本發明的範疇。

在該等圖式中，薄層與範圍的維度或將為便於清晰說明之目的而有所誇炫。亦應瞭解當將一薄層或構件稱為位於另一薄層或基板「之上」時，該者可為直接地位於該其他薄層或基板之上，亦或者可出現有中介薄層。此外，亦將瞭解當將一薄層稱為位於兩個薄層「之間」時，該等兩個薄層之間可僅有此一薄層，或是亦可出現有一或更多中介薄層。全篇中類似參考編號是指相仿構件。

後文中將參照於圖1及2以進一步詳細說明範例實施例。圖1說明根據一示範性實施例之塗層設備的外觀視圖，並且圖2說明圖1之塗層設備的截面視圖。

現參照圖1，一根據一示範性實施例的塗層設備1可包含一階台20，其上設置有一塗層目標10；一塗層部件30係經裝置於該階台20上，並且將一塗層材料射出至該塗層目標10；以及一加熱來源40，此者係相對地設置於該階台20。

該塗層目標10可藉由一載送機制(未予圖示)的操作以定位於該階台20上並自此移除。該塗層目標10可為即如用於顯示裝置的基板或是半導體的晶圓。此外，可進一步將一嵌封部件(未予圖示)設置於該階台20上，故而能夠嵌封該塗層目標10。並且可將一載送機制(未予圖示)裝設在該階台20上，而於該機制上該塗層目標10係經嵌封。

該塗層目標10可經定位於該階台20上以供處理，即如進行塗層處理。待予塗層於該塗層目標10上的塗層材料可為以液體狀態，即如其中一材料係經溶解於一溶液內之狀態，以利施用於該塗層 目標10上俾構成一薄膜。例如，該塗層材料可為一有機材料。而若該塗層材料為用於一有機裝置的有機材料，則該塗層材料可不受限於特定材料，然可包含有機發射材料、有機TFT材料、太陽能電池材料等等。

該塗層部件30係經可移動地設置於該階台20上，藉以將某一量值的塗層材料施用於該塗層目標10上。該塗層部件30可包含一支撐框架31及一射出部件33。該支撐框架31係經可移動地設置於該階台20，亦即該支撐框架31可在該階台20於一第一方向(X軸方向)上移動。該射出部件33可經設置於該支撐框架31上，並且可沿著該支撐框架31在一與該第一方向(X軸方向)相垂直的第二方向(Y軸方向)上移動，藉以將該塗層材料射出至該塗層目標10。該第一方向(X軸方向)可為處理方向，此方向可為該塗層部件30移動的方向或是該塗層目標10移動的方向。

該支撐框架31可包含多個第一支撐框架31a，該等係空間分隔並且彼此相對同時具有一高度；以及一第二支撐框架31b，此者的兩端皆經設置在該等第一支撐框架31a上並與該等第一支撐框架31a相交叉。該等第一支撐框架31a可在該階台20上移動，並且該塗層目標10可於該等第一支撐框架31a之間設置在該階台20上。該第二支撐框架31b係經固定地設置在該等第一支撐框架31a的頂上處。 因此，當該等第一支撐框架31a在該階台20上移動時，該第二支撐框架31b可被該等第一支撐框架31a帶拉至該階台20的上方。例如，該第二支撐框架31b可為設置在距該塗層目標10的一預定距離處，並且可在一垂直方向(Z軸方向)上朝向該階台20移動。在另一範例裡，該等第一支撐框架31a及該第二支撐框架31b可為連同彼此整合地構成。

該射出部件33可含有複數個塗層頭33a，該等係以該第二支撐框架31b的縱向方向(Y軸方向)上可移動地設置；以及複數個噴嘴33b，該等係經個別地設置於該等塗層頭33a內，並且射出某一量值的塗層材料。該等噴嘴33b可為任何適用於塗層處理的噴嘴，即如噴墨頭、散佈噴嘴、模頭、剪鋒片等等。該射出部件33可經連接至一材料供應設備(未予圖示)，藉以將一塗層材料供應至該等塗層頭33a並且經由該等噴嘴33b射出該塗層材料。然應注意本揭實施例並不受限於此，即如該射出部件33可含有具備複數個噴嘴的單一塗層頭或是具備單一個噴嘴的單一塗層頭。

該加熱來源40可為相對於該階台20所設置，並且可空間分隔於該階台20，使得該塗層部件30不會對將該塗層材料施用於該塗層目標10上的處理程序造成影響。在藉由該塗層部件30將該塗層材料施用於該塗層目標10的整個表面上之後，該加熱來源40可將熱能施加於該塗層目標10以利乾燥化所塗層材料並移除該溶劑。注意到該塗層材料係經塗層且經乾燥化於該塗層目標10上然不致被移動。

可調整由該加熱來源40所提供的熱能俾擁有一預定溫度而使得該塗層材料不會移動，且即使是在當該塗層目標10移動時亦然。換言之，可根據該塗層材料的種類來調整該加熱來源40的溫度。 例如若可在約100℃至約200℃溫度處移除該塗層材料內所使用以構成有機發射層的溶劑，則該加熱來源40可以約100℃至約200℃的溫度供應熱能。

該加熱來源40可運作以供應熱能，並且可含有任何適當設備，即如紅外線加熱器、鹵素燈等等。例如，當該加熱來源40為一紅外線加熱器或鹵素燈時，可調整該加熱來源40的加熱速率，使得能 夠在相當微短的時間內加熱該塗層材料。

例如，當該加熱來源40為一鹵素燈時，該加熱來源40可含有一反射平板，此者係以一與光線朝向該塗層目標10移動之方向相反的方向所設置，藉以獲致光學均勻度。當設置有該反射平板時，可藉由反射以與該塗層目標10之方向相反所發射的光線而朝向於該塗層目標10，藉以有效地供應熱能。

可設置一或更多的加熱來源40。為將熱能均勻地且同時地供應予該塗層目標10的整個範圍，而其上係經施用以該塗層材料，該加熱來源40可為對應於該塗層目標10的整個範圍。例如，即如圖1所示，可設置一單一加熱來源40而重疊於整個塗層目標10。在另一範例裡，可排置複數個加熱來源以重疊於整個塗層目標10。

例如，該加熱來源40可含有一具備與該塗層目標10大致相同形狀的平型平板。而該加熱來源40的至少其一局部，即如該平型平板，可為大致平行於該塗層目標10所定位，即如在xy平面上，並且可與該塗層目標10相重疊，即如完全地重疊。例外之處為該可移動塗層部件33，而即如整個塗層目標10可為受曝於該加熱來源40之平型平板的一底部表面，亦即面朝該塗層目標10的表面，因此能夠將來自於該加熱來源40的熱能大致同時地且均勻地施加於該塗層目標10。故而該塗層目標10上的塗層材料可均勻地乾燥化成大致均勻的薄層。

相反地，當以不均勻的方式，即如循序地，將熱能供應給該塗層材料時，由熱能供應的溫度可能出現變化，故而改變該塗層材料的特徵。因此，可能會難以構成具有均勻品質的塗層材料薄層。 同時，當加熱來源並未分離於該階台時，該階台可能受到熱能的不良影響，並且支撐該塗層材料之基板的不同部份間，即如前端及後端部 份，之溫度差可能會出現，從而該塗層液體的移動可能會導致塗層瑕疵。此外，由於傳統技藝無法將該基板加熱至100℃或更高以提升該階台的精準度，因此可能難以加熱該塗層液體而不造成液流。

該加熱來源40係以一垂直方向(Z軸方向)上朝向該階台20可移動地設置。故而能夠防止或是顯著降低該加熱來源40對於該塗層部件30移動所造成的干擾。由於該加熱來源40可沿垂直方向移動，因此無須在分隔於該塗層目標及該塗層部件之固定距離處設置一非可移動的加熱來源，藉以避免拉長在較遠距離處加熱該塗層目標所需要的時間並同時提高設備精準度。

換言之，當該塗層部件30執行塗層處理時，該加熱來源40可顯著地分隔於該塗層目標10。當完成該塗層處理後，該加熱來源40可在Z軸方向上朝向該階台20下降俾將熱能供應予該塗層目標10以進行乾燥化處理。接著，當該乾燥化處理完成後，該加熱來源可沿Z軸方向上升以分隔於該階台20。

於其上該塗層目標10係經嵌封的階台20、該塗層部件30和該加熱來源40可經設置在一腔室50內。該階台20可為設置在該腔室50的一較低部份處，並且該加熱來源40可為設置在該腔室50的一較高部份處。

本實施例雖說明該塗層部件30係一相對於該階台20的可移動構件以將該塗層材料施用於該塗層目標10上，然並未排除其他的實施例。例如，該塗層部件30可相對於該階台20而為固定，而該塗層目標10可移動以將該塗層材料施用於移動性的塗層目標10上。

一根據一示範性實施例的塗層設備可含有該塗層目標10，此者位於該階台20上；該塗層部件30可在該處理方向(X軸方向)上移動，藉以將該塗層材料施用於該塗層目標10上；以及該加熱來源 40，此者將熱能供應至該塗層目標10上的塗層材料，而當該塗層處理完成時，可供以乾燥化即如經液化的塗層材料。此一加熱設備可提供大致均勻，即如具有大致均勻厚度及/或特徵，的薄層塗層。

相對地，在傳統方法裡，當在分別的設備裡進行塗層材料的塗層及乾燥化處理時，亦即利用一機械臂在一塗層設備與一分別的乾燥化設備之間往返傳送一經塗層的塗層材料，由該塗層材料所構成的薄層可能會產生變形，即如具有非均勻的厚度。亦即，由於所塗層材料是在尚未乾燥的狀態下被載送進入該乾燥化設備內，因此接觸到該機械臂之臂部的基板，即如塗層目標，之溫度可能會改變並造成塗層瑕疵，該基板可能因在載送過程中所產生的外部力度而彎曲，且/或因該基板旋轉所產生的向心力可能嚴重地影響到該基板上的薄層厚度，從而難以構成出高品質的薄層。因此，藉由根據本範例實施例之塗層設備構成一薄層可避免薄層厚度上的變異情況，即如在將塗層材料塗層一基板後將該基板載送至一乾燥化設備之傳統方法的過程中所產生者。

換言之，可藉由在其中該液化塗層材料不會流動之溫度處，即如約100℃至約200℃且因而能夠移除一部份的溶劑，於與該塗層處理相同的設備處執行加熱處理，亦即乾燥化該液化塗層材料，來避免根據範例實施例之塗層材料薄層的變形。根據範例實施例的加熱溫度可較傳統個別的乾燥化設備之溫度，即如約250℃或以上，為低，藉以在該等所含材料內之元素間產生反應以獲得一些特徵，藉此即如相較於傳統分別塗層/乾燥化設備而言避免或顯著地降低對於該塗層材料之成份所造成的高熱效應。應注意到由於施用於傳統乾燥化設備的高溫可能不會施用於傳統塗層設備，因此可將傳統塗層設備內的塗層目標載送至該乾燥化設備以通過即如額外的乾燥化程序。

即如圖3所示，在根據範例實施例的塗層設備1裡，可將一有機材料施用於該塗層目標10上以構成一OLED 11的有機層12。 該OLED 11可含有一第一電極層13、該有機層12和一第二電極層14，該等可為循序地沉積於該塗層目標10，亦即一基板10，上。

該基板10可為任何適用於該OLED 11的基板，即如任何擁有足以支撐該OLED 11之強度的適合基板。該基板10可視其用途而定由軟性材料或硬性材料所構成。例如，該基板10可包含玻璃、石英、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸甲酯、聚酯等等之一或更多者。

當自該有機層12之發射層所發射的光線會穿過該基板10時，該基板10可為由透明材料所構成。然而，當自該有機層12之發射層所發射的光線是通過相反於該基板10的一側時，該基板10則不受限於透明材料。

該有機層12可為以照含有一發射層的單層結構，或者是以具有兩個或以上之薄層而其中包含該發射層的結構，所構成。在該有機層12裡，除該發射層以外，亦可構成一即如電洞注入層或電子注入層的電荷注入層，或者是一即如電洞傳送層或電子傳送層的電荷傳送層。

注意到該有機層12的發射層可為由有機材料所構成，並且可由前文中參照圖1及2所討論的塗層設備1所構成。然亦可藉由相同方法以構成其他薄層，即如有機層。

可藉由該材料供應設備將一液化有機材料，其中用以製作一發射層的材料係經溶解於一溶劑裡，供應至該射出部件33。

例如，該有機層12可含有任何適當的發光有機材料，並且可包含即如色劑發射材料、金屬複合物發射材料、聚合物發射材料 等等。此外，可添入即如摻質介質等等的添加劑，藉以改善發射效率性與發射波長的變異性，同時該溶劑可為即如甲苯、三氯甲烷、二氯甲烷、四氫呋喃、二氧陸圜等等。

當該基板10被設置在該階台20上時，該塗層部件30可沿該處理方向(X軸方向)移動，以射出經過該噴嘴33b由該塗層頭33a內所供應某一量值的有機材料，藉此將該有機材料施用於該基板10上。接著，當施用該有機材料後，該加熱來源40可將熱能供應予其上經施用以該有機材料的基板10，並且可乾燥化該液化有機材料以構成該有機層12。

在此，由該加熱來源40所提高之溫度的範圍可根據該有機材料的溶劑種類而定從約100℃至約200℃。因此，在根據範例實施例之塗層設備1內所乾燥化的有機材料可為足夠地固化，並且可擁有大致均勻的厚度。

由前揭說明可顯知由於塗層材料是在一塗層設備內所乾燥化，因此能夠防止薄層厚度的變形，即如因傳統上將一基板自一塗層設備載送至一乾燥化設備所導致的材料液流。此外，由於基板並未接觸到該加熱來源，因此能夠避免在加熱過程中出現基板的熱性變形。 此外，由於階台內並未設置加熱來源，所以能夠避免階台的變形，同時不會對該設備的精準度造成不良效應。同時，由於可以約100℃或以上的溫度對塗層材料進行加熱，故而能夠將足夠熱能供應予塗層材料。

在此既已揭示多項示範性實施例並且運用特定詞彙，然該等僅為廣義性且描述性意涵所使用且詮釋而非用於限制目的。從而，熟諳本項技藝之人士將能瞭解確能著手進行形式上與細節上的各種變化，而不致悖離如後載申 請專利範圍中所陳述的本發明精神和範疇。

1‧‧‧塗層設備

10‧‧‧塗層目標

20‧‧‧階台

30‧‧‧塗層部件

31‧‧‧支撐框架

31a‧‧‧第一支撐框架

31b‧‧‧第二支撐框架

33‧‧‧射出部件

33a‧‧‧塗層頭

33b‧‧‧噴嘴

40‧‧‧加熱來源

Claims (14)

1. 一種塗層設備，其包含：一階台，此者支撐一塗層目標；一塗層部件，此者係位於該階台上，該塗層部件係經建構以將一塗層材料施用於該塗層目標上；以及一加熱來源，此者係相對於並且分隔於該階台，該加熱來源係經建構以將該塗層材料施用於該塗層目標上之後對該塗層目標供應熱能，其中該加熱來源重疊於整個塗層目標，該加熱來源係經建構以將熱能同時地且均勻地供應予整個塗層目標；其中在完成將該塗層材料施用於該塗層目標上後，該塗層材料維持靜止直到完成供應熱能；其中，該塗層部件包含：一可移動支撐框架，此者位於該階台上；以及一射出部件，此者位於該可移動支撐框架上，該射出部件可在一與該支撐框架之移動方向相垂直的方向上移動，並經建構以射出該塗層材料；其中，該可移動支撐框架含有：多個第一支撐框架，該等係以一預定距離彼此相對地分隔並具有一預定高度；以及一第二支撐框架，此者的兩端皆經設置在該等第一支撐框架上並與該等第一支撐框架相交叉；以及其中該第二支撐框架垂直地向該階台接近以及遠離移動。
2. 如申請專利範圍第1項所述之塗層設備，其中該加熱來源為一紅外線 加熱器或一鹵素燈。
3. 如申請專利範圍第2項所述之塗層設備，其中該加熱來源為一鹵素燈，並且該加熱來源進一步含有一反射平板。
4. 如申請專利範圍第1項所述之塗層設備，其中該加熱來源可朝向該階台垂直地移動。
5. 如申請專利範圍第1項所述之塗層設備，其中該加熱來源完全地分離於該階台。
6. 如申請專利範圍第1項所述之塗層設備，其中該射出部件包含：一可移動塗層頭，此者係經建構以以該第二支撐框架的縱向方向移動；以及一噴嘴，此者位於該可移動塗層頭內並經建構以射出該塗層材料。
7. 如申請專利範圍第1項所述之塗層設備，其進一步包含一腔室，該階台位於該腔室的下方部份處而該加熱來源則位於該腔室的上方部份處。
8. 一種塗層方法，其包含：將一塗層目標定位於該塗層設備內的一階台上；利用具有一預定高度的一塗層部件將一塗層材料施用於該塗層目標上，其中該塗層部件係垂直地向該階台接近以及遠離移動以達到該預定高度；以及在將該塗層材料施用於該塗層目標上之後，利用一加熱來源以對該塗層材料供應熱能，該加熱來源係相對於且分隔於該塗層設備內的階台，且該加熱來源重疊於整個塗層目標； 其中將熱能供應予該塗層目標包含將均勻熱能同時地供應予整個塗層目標；其中在完成將該塗層材料施用於該塗層目標上後，該塗層材料維持靜止直到完成供應熱能。
9. 如申請專利範圍第8項所述之塗層方法，其中施用一塗層材料包含施用一有機發射材料、一有機薄層電晶體材料及/或一太陽能電電池材料。
10. 如申請專利範圍第8項所述之塗層方法，其中將熱能供應予該塗層目標包含以約100℃至約200℃的溫度乾燥化該塗層材料。
11. 如申請專利範圍第8項所述之塗層方法，其中將熱能供應予該塗層目標包含利用一紅外線加熱器或一鹵素燈。
12. 一種構成一有機層的方法，其包含：利用具有一預定高度的一塗層部件將一有機材料施用於一基板上，此基板係位於一塗層設備裡的一階台上，其中該塗層部件係垂直地向該階台接近以及遠離移動以達到該預定高度；以及於施用該有機材料之後，利用一加熱來源將熱能供應予該有機材料並且乾燥化該有機材料以構成一有機層，該加熱來源係相對於且分隔於該塗層設備內的階台，且該加熱來源重疊於整個有機層；其中將熱能供應予該有機材料包含將均勻熱能同時地供應予整個基板以乾燥化該有機材料；其中在完成將該塗層材料施用於該塗層目標上後，該塗層材 料維持靜止直到完成供應熱能。
13. 如申請專利範圍第12項所述之方法，其中施用該有機材料包含施用一材料藉以構成一有機發光二極體的發射層、電洞注入層、電洞傳送層、電子注入層及/或電子傳送層。
14. 如申請專利範圍第12項所述之方法，其中將熱能供應予該有機材料包含以約100℃至約200℃的溫度乾燥化該有機材料。