TW200409107A - Objective lens driving device - Google Patents

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TW200409107A TW092124849A TW92124849A TW200409107A TW 200409107 A TW200409107 A TW 200409107A TW 092124849 A TW092124849 A TW 092124849A TW 92124849 A TW92124849 A TW 92124849A TW 200409107 A TW200409107 A TW 200409107A
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Mitoru Yabe
Keiji Nakamura
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Mitsubishi Electric Corp
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Description

200409107
5 、本發明有關於一種物鏡驅動裝置，供修正控制形成光 學式碟片等的光學式資訊記錄媒體的光區（spot )的焦點 偏差及轨跡（track )偏差。 媒體的資訊做記錄及再生，有 鏡的焦點對準資訊記錄面，且 的位置控制的物鏡驅動裝置 的可動體上，即可動磁鐵的方 利特公平7 -1 9 3 8 8公報（第2 - 3 物鏡驅動裝置中，可動體可沿 且以該支軸為中心可轉動地被 了動體上的磁鐵相向，安裝有 及追縱線圈（tracking c〇il 疋可動體中立位置的彈箬構 之際，利用電流流過聚焦線圈 動。當停止聚焦線圈及追蹤線 構件的作用，可動體回歸至中 先前技術 為了對光學式資訊記錄 必要控制物鏡的位置，使物 不從執跡偏離。在實施如此 中’將磁鐵安裝於支持物鏡 式。此一例係記載於曰本專 頁’第1圖、第2圖）。 在習知可動磁鐵方式的 設立於基台上的支軸移動， 支持。在基台上，與安裝於 聚焦線圈（focusing coil) )。在基台上，更設有供決 件。實施焦點偏差修正控制 所產生的電磁力使可動體轉 圈的電流供給時，藉由彈簧 立位置。 然而，在如此習知的物鏡驅 決定可動體中立位置的彈簧構件 價格上揚，又組裝會有繁複的問
動裝置中，由於必須設置 而使構件數量增加，因此 題〇 200409107 五、發明說明（2) - 又，由於磁氣回路僅由磁鐵構成，到達各線圈的磁束，、 在、度變小’難以產生大的電磁力。因此，為得到可動體充 分的響應（加速度），有消耗電力大的問題。 發明内容 為解決上述之問題，本發明的目的係提供^種物鏡驅 動裝置，構件數量少、價格低、組裝簡單且消耗電力少。 本發明之物鏡驅動裝置包括：一物鏡，將光線匯聚於 資訊記錄媒體；一透鏡支架（lens h〇ider )，支持上述 物鏡；一基座，具有可使上述透鏡支架於上述物鏡光軸方
向上移動 的支軸； 述光軸略 上述基座 支軸略呈 與上述磁 邊；以及 述磁極的 磁鐵的上 述的邊及 述磁鐵的 ，且以平行於上 一具有磁極的磁 呈直交的方向上 ，具有與上述磁 直交的邊；一追 鐵的上述磁極相 一車厄， 相向面 述磁極 上述追 t述磁 具有一相 ，以及一 分離的方 蹤線圈的 極之間。 地兀罕由 鐵，安 施加磁 鐵的上 蹤線圈 向並相 向部、 延伸部 向上延 上述的 的軸線 裝於上 場；一 述磁極 ’安裝 對於上 具有相 '從上 伸，使 邊配置 述透鏡支 聚焦線圈 相向並相 於上述基 述支軸略 向於上述 述相向部 上述聚焦 於上述相 旋轉支持 架，與上 ，安裝於 對於上述 座，具有 呈平行的 磁鐵的上 在從上述 線圈的上 向面與上
藉由以上的構造，無設置彈菩構件 架回歸基準位置，其結果物鏡驅動裝置 價格降低，組裝簡單，且消耗電力變少 等’而可使透鏡支 的構件數量變少，
五、發明說明（3) 實施方式 以下針對本發明之最佳徐 第一實施形態 汽％形態做具體的說明。 第1圖及第2圖為本發明之 下方觀之的立體圖。第3圖為私第J實施形態分別從上方及 第4圖為第3圖中丨V-丨V線物鎊^驅動裝置1 0的上視圖。 為物鏡驅動裝置10的立體分兄短驅^動敦置10的剖視圖。第5圖 1〇分為可動部與固定部的立。第6圖為物鏡驅動裝置 圖所示，物鏡驅動穿晋1 η目士 * 持使光束聚光於資訊記錄^ 有透鏡支架1，供支 支架1係由質輕且高剛性:弟4々圖）的物鏡3。透鏡 架1的中央部，軸孔la與物的；斗寺所形成。在透鏡支 記錄媒體2接近及分離的 的先軸平行。延伸於對資訊 藉此，透鏡支架1可沿支點的支軸6貫通於軸孔la中。 動地被支持。 ，且以支軸6為中心可轉 在以下的說明中，平〜 錄媒體2接近及分離的方二的方向，即對資訊記 面内，將資訊記錄媒體9二又，由0於正父於2軸的x_y平 直交於Y軸方Θ及7 Ϊ 的軌跡的橫切方向設為Y i ίϊ: ΠίΙ方向的方向為X方❺。而：方向。 鏡支架1 ’使連結支軸6之中？而且’針對透 方向成為一致，而做構造兄之中心的方向與义軸 如第3圖所示，透於 α χ軸方向上延長而形成的vr本具二述=
2096-5859-PF(Nl);Cheiirf.prd ___ %成於支架 200409107 五、發明說明（4) 〜 本體部11的長度方向之一端的透鏡支持部12。在支架本體，-部1 1的Y轴方向的兩側面上，於内側形成内縮平坦面的安 裝面13、14，於該等安裝面13、14上，固定著長方體形狀 的磁鐵41、42。而且，如第5圖所示，在安裝面13的周 圍，形成略抵接於磁鐵4 1之Z軸方向之兩端部的框部1 3 1、 132，與略抵接於磁鐵41之X軸方向一側邊（透鏡安裝部j 2 之相反側）的框部1 3 3。雖然圖式省略，在安裝面1 4的周 圍，也同樣形成框部。
磁鐵4 1係透鏡支架1側為s極4 1 b、透鏡支架1的相反側 為N極41a ’而於Y軸方向平行施加磁場。磁鐵41之!^極 側的面及S極41b側的面均為相對於γ軸直交的面。磁鐵42 透鏡支架1側為N極42a、透鏡支架1的相反側為s極42b，而 於Y轴方向平行施加磁場。磁鐵4丨極4 2a側的面及s極 4 2b側的面均為相對於γ軸直交的面。 如第4圖所不，立設支軸6的基座5為非磁性材料，例 如由聚伸苯基硫（PPS，p〇iyphenyiene Sulfide)等工程 塑膠（engineering plastic)或鋁所形成。基座5具有使 光束通過物鏡3的孔5b。在基座5的中央部，貫通孔5&形成 與物鏡3的—光軸平行，在上述之貫通孔5a藉由將上述支轴6 壓入而口疋而且，在支軸6的表面上，鍍上摩擦係數小 的氟元素系樹脂等。 如第5圖所示’在基座5上，形成供收容透鏡支幻的 凹部50。於凹部50中，位於透鏡支則之透鏡支持部12之丫 軸方向外側的部分’形成可抵接於該透鏡支持部12之側面
200409107 五、發明說明（5) 的側壁57、58。該側壁57、58為限制透鏡支架1的轉動範， 圍之物件。
如第5圖所示，在磁鐵4丨、42之Y軸方向外側，設有扁 平矩形回捲的聚焦線圈71、72。聚焦線圈71、72係固定於 基座5之凹部50之Y軸方向外側的聚焦線圈安裝部5丨、52。 聚焦線圈71具有X軸方向的兩邊71a、71b與Z軸方向的兩 邊’其中，X軸方向的邊7ia與磁鐵41的N極41a相向。同樣 地’ 1焦線圈72具有X軸方向的兩邊72a、72b與Z軸方向的 兩邊’其中，X軸方向的邊72a與磁鐵42的S極42b相向。而 且’聚焦線圈7 1、72藉由連接部7〇相互直列的連接。聚焦 線圈7 1、7 2的端線部7 1 c、7 2 c係經由形成於基座5的溝部 59向外部突出。 在聚焦線圈7 1、7 2之Y軸方向的外側，設有扁平矩形 回捲的追蹤線圈8 1、8 2。追蹤線圈8 1、8 2係固定於基座5 之凹部5 0的聚焦線圈安裝部5丨、5 2外側的追蹤線圈安裝部 53、54。追蹤線圈81具有X軸方向的兩邊與2軸方向的兩邊 81a、81b，其中，Z轴方向的邊81a與磁鐵41的N極41&相 向。同樣地，聚焦線圈82具有X軸方向的兩邊與2軸方 兩邊82a、82b，其中，Z軸方向的邊82a (第7圖）盥 42的S極42b相向。而且，追蹤線圈81、82藉由連接、’ 互直列的連接。追蹤線圈81、82的端線部81(：、8 ^ / 形成於基座5的溝部5 9向外部突出。 μ ; 在追縱線圈81、82的外側，設有軛91、92。 係由冷作壓延鋼板等磁性材料壓延加工而形成，並固定於
2096-5859-PF(Nl)；Chentf.prd 第9頁 200409107 五、發明說明（6)
固定基座5之Y軸方向兩端部的輛安裝部55、56。軛91、92, 具有分別延伸於X方向及Z方向之長尺部分做十字狀組合形 狀的相向部91a、92a。相向部91a、92a之Y軸方向内側的 面成為相向於磁鐵41、42的相向面91c、92c。在輛91之相 向部9 1 a的X軸方向兩端上，形成延伸於離開磁鐵4丨方向上 的一對延伸部91a。在軛92之相向部92a的X軸方向兩端 上’形成延伸於離開磁鐵4 2方向上的一對延伸部9 2 a。而 且’在基座5上，從貫通孔5 a的中心軸線起至安裝部5 5的 距離’比從貫通孔5 a的中心軸線起至安裝部5 6的距離短。 藉此，支軸6的中心軸線離軛9 1比離軛9 2近。 第7圖及第8圖係表示耗91、92，磁鐵41、42，聚焦線 圈7 1、7 2以及追蹤線圈8 1、8 2的位置關係圖。第7圖及第8 圖係分別表示從Z方向及X方向觀之的位置關係，磁束流係 以多數的箭號表示。 如第7圖及第8圖所示，磁鐵4 1、4 2與軛9 1、9 2個別之 中心係於Y軸方向上整列配置。聚焦線圈7丨的邊7丨a與追縱 線圈8 1的邊8 1 a位於磁鐵4 1的N極4 1 a與輛9 1的相對面9 1 c之 間。即，來自磁鐵4 1的N極4 1 a的磁束通過聚焦線圈7 1的邊 7 1 a與追蹤線圈8 1的邊8 1 a，到達軛9 1的相向面9 1 c。到達 軛9 1相向面9 1 c之磁束的一部份沿長度方向通過延伸部 91b。又’聚焦線圈72的邊72a (第8圖）與追縱線圈82的 邊82a位於磁鐵42的S極42b與概92的相對面92c之間。即， 往磁鐵42的S極42b的磁束沿長度方向通過軛92的延伸部 9 2b，通過相向部92c，更通過追蹤線圈82的邊82a與聚焦
2096-5859-PF(Nl);Chentf.ptd 第10頁 200409107 五、發明說明（7) 線圈72的邊72a
到達磁鐵42的S極42b。 其次，對由以上所構成的物鏡驅動裝置丨〇的動作做說 明。在貫施焦點偏差修正控制的場合中，電流流過串聯的 聚焦線圈71、72。流過聚焦線圈71、72的邊71a、72a (第 8圖）的電流與磁鐵41、42所產生的磁場相互作用而產生2 軸方向的電磁力。藉由該Z軸方向的電磁力，安裝磁鐵 4 1、4 2的透鏡支架1沿支軸6移動。藉此，物鏡3沿於相對 於資訊記錄媒體2接近及離開的方向上移動，而實施焦點 偏差的修正控制。 一方面’伴隨透鏡支架1的移動，磁鐵41、42與輛 91、92之間的磁場產生變化，產生對應於其移動量的磁回 復力。即’由於大略在Z軸方向上磁鐵4丨、4 2的中心部的
磁束Φ度南’如第8圖所示，當軛91、92及磁鐵41、42的Z =方向中心相互一致時，為最穩定的狀態。因此，透鏡支 架1於z軸方向上移動，軛91、92的中心與磁鐵41、42偏 離，回復原來的穩定狀態的回復力產生。即，當聚焦線圈 71 7 2彳了止電流供給時，透鏡支架1藉由上述之回復力， 回到輕9 1、9 2及磁鐵4 1、4 2的Z軸方向中心相互一致的 位置’即Z軸方向的基準位置。而且，軛9 1、9 2的形狀及 ^寸在，點偏差的修正控制必要範圍（約± 1毫米）内決 二而得到線性關係（1 i n e a r i t y，位置變化量與回復力 成比例），R ， L , 且付到既定之彈簧常數（位置變化量與回復力 在執跡偏差的修正控制場合中，電流流過串連的追蹤
200409107 五、發明說明（8) 線圏81、82。流過追縱線圈81、82的邊8U、82a (第7圖 )的電流與磁鐵41、42產生的磁場相互作用而產生X轴方 向的電磁力。即，在磁鐵41上，如第7圖中向上的電磁力 作用，在磁鐵42如第7圖中向下的電磁力作用。結果，安 裝有磁鐵4丨、4 2的透鏡支架i係以支轴6為中心在第7圖中 依順時針方向轉動。藉此’物鏡3在資訊記錄媒體2之軌跡 的橫切方向上移動，實施轨跡偏差的修正。 方面，伴匕透鏡支架1的轉動，由於磁鐵41、42與 、92之間的磁場變化，對應於透鏡支架i的轉動量而 產生磁回復力。如第7圖所*，磁鐵41 ]2的中心與軛 、^的中心係沿γ軸排列成一直線的狀態，來自磁鐵41 :極41a的磁束（相對於γ轴大略平行），於γ轴方向通過 夫延Γ °卩91b ’往磁鐵42之$極421)的磁束（相對於¥軸 大略平扞），於V虹+, 磁鐵4卜42所產生的方磁向走通方過：^ 向約略—致時’成束方向與延伸部913、92&之長度方 磁鐵4卜42所產定的狀態。透鏡支架1轉動’若 長度方向而呈傾斜束的方向相對於延伸部91a、923之 態。因此，停止向、έ則產生回復力而回復到原先穩定的狀 回歸至其磁^方二^蹤線圈81、82供給電流，磁鐵41、42 置’即於旋轉方向=，伸部91a、92a的長度方向一致的位 尺寸係於物鏡3的轨/準位置。而且，軛91、92的形狀及 0 · 5毫米）中，由 、偏差之修正控制必要的範圍（約土 而且，透鏡支11加述之線性關係及彈簧常數而決定。 未1的轉動範圍係藉由透鏡支架1的透鏡
2096-5859-PF(Nl)；Chentf.ptd
第12頁 200409107 五、發明說明（9) 安裝部1 2之外周面與形成於基座5的側壁部5 7、5 8之抵接 所限制。如此，藉由限制透鏡支架1的轉動範圍，防止磁 鐵41、42與聚焦線圈71、72以及追蹤線圈81、82的接觸。 如此，於第一實施型態中，使用彈簧等構件，可使透 鏡支架1回歸於Z軸方向及轉動方向上的基準位置。因此， 可得構件數量變少，廉價且組裝容易的物鏡驅動裝置1 〇。 又，由磁鐵41、42及軛91、92構成磁氣回路，與僅由 磁鐵所構成的磁氣回路比較，可使聚焦線圈7 1、7 2及追蹤 線圈8 1、8 2有效地作用的磁束密度變大，結果，可以少的 消耗電力產生大的電磁力。即，可使消耗電力少而響應性 提升。 又’磁鐵4 2與輛9 2的距離由於比磁鐵4 1與輛9 1的距離 小’磁鐵42與輛92之間的磁氣吸引力比磁鐵4 1與輛9 1之間 的磁氣吸引力大，在透鏡支架1上作用著如第7圖中箭號C 所示的方向的力。藉此，透鏡支架1的軸孔丨a抵接於支軸 6 ’防止軸孔la與支軸6的間隙（gap )所造成的碰撞。結 果’抑制物鏡3的傾斜與振動。 更進一步’長方體的磁鐵41、42配置於相對於支軸6 對稱的位置上，可產生相對於支軸6對稱的驅動力，防止 產生不必要的共振。由於使用長方體形狀的磁鐵41、42， 不必使用複雜形狀的磁鐵，因此可減低磁鐵的價格， 組裝性。 ' π τγ β 而且，在上述第一實施型態中，藉由冷作壓延鋼板等 壓延加工，形成軛91、92，使延伸部911}、92b，抵接部
2096.5859-PF(Nl)；Chentf.ptd 第13頁 200409107 五、發明說明（10) 91a、92a的X轴方向兩端成為屈曲形狀。然而，軛91、92 係藉由燒結而形成，延伸部911)、92b亦可一體成形於抵接 部9 1 a、9 2 a的中心部。 又，在上述的第一實施型態中，透鏡支架轴方向 夾入，雖然磁鐵、輛、聚焦線圈及追蹤線圈別設置兩組， 仁亦叮在透鏡支杀1的單側分別設置一組磁鐵、·軛、聚焦 線圈及追蹤線圈。 第二實施型態 第9圖為本發明第二實施型態之物鏡驅動裝置2〇從上 方觀之的立體圖。第10圖為物鏡驅動裝置2〇之透鏡支架及 物鏡的立體圖。第n圖表示物鏡驅動裝置2〇中一體成形的 透鏡支架及磁鐵個別表示的立體圖。第12圖及第13圖軛' 磁鐵及各線圈之位置關係的圖。在第9圖〜第13 盥 第1圖〜第8圖所示之構成要素同一或相予、 同之符號。 干、，·α于相 如第10圖所示，在第二實施型態中，保持物 鏡支架100與磁鐵MO係一體成形，構成單元（㈣丨， 11 0。該單元丨i 0以含有詞性體的塑膠材料一 當於該磁鐵的區域的部分藉由施加磁場的處理^斑: 的區域（成為磁鐵140)肖透鏡支架的區域 7成载 架100)。 成為透鏡支 如第11圖所示，透鏡支架100具有於χ軸方 :分1〇1具形成於該長尺部分101之一端 ：長尺 在長尺m的另一端向z轴方向的基座5(第9衣圖「）側
2096.5859-PF(Nl);Chentf.ptd 第14頁 200409107 五、發明說明（li) " ---—-- 屈曲的屈曲部103。在長尺部分1〇1的中心部上，圓筒部分 1 0 4於Z軸方向的基座5側突出形成。在原筒部分1 〇 4的内側 上，與該圓筒部分1 04同心，形成供插通磁性材料構成的 支轴106的轴孔ia。於圓筒部分1〇4的外周自，位於長尺部 分101的寬度方向端部的部分形成延伸於z軸方向的凸部 10 5 ° 磁鐵140為長方體形狀，在其中央部上，具有貫通透 鏡支架100的圓筒部分104的2軸方向的貫通孔141。又，鄰 接於貫通孔141 ,形成供插通透鏡支架1〇〇之凸部丨〇5的槽 \42。磁鐵140係平行於與軸孔13直交的γ軸方向施加磁 % 於Y軸方向上，一側成為N極1 4 0 a，另一側成為s極 140b。 ”、、 而且，與第一貫施型態不同，軛9丨、9 2係以與支轴6 的距離相等的方式安裝於基座5的輛安裝部55、56。其他 的構造與第一實施型態相同。 〃 第12圖與第13圖表示分別從z方向及χ方向觀之的位置 關係。又，與第7圖第8圖相同，磁束流以多數的箭號表 示。 如第12圖及第13圖所示，聚焦線圈71的邊7la (第13 圖）與追蹤線圈81的邊81a位於磁鐵140的N極140a與輒91 之間。即，來自磁鐵140的N極140a的磁束通過聚焦線圈71 的邊71a與追缺線圈81的邊81a而到達扼91。又，聚焦線圈 72的邊72a (弟13圖）與追縱線圈82的邊82a位於磁鐵14〇 的S極140與軛92之間。即，往磁鐵140的磁束，從輛92、
200409107 五、發明說明（12) 通過聚焦線圈72的邊72a及追蹤線圈82的邊82a ,到達磁鐵， 140 的S 極140b 〇 藉由電流流過聚焦線圈7 1、7 2，如在第一實施型態說 明的產生Z軸方向的電磁力，透鏡支架丨〇 〇沿支轴丨〇 6移 動，而實施焦點偏差的修正控制。又，伴隨透鏡支架丨〇 〇 的移動，如在第一實施型態所說明，產生Z軸方向的回復 力0
藉由電流流過追縱線圈8 1、8 2，如第一實施型態中所 說明，產生X軸方向的電磁力，透鏡支架1〇〇以支軸1〇6為 中心而轉動’而貫施軌跡偏差的修正控制。又，伴隨透鏡 支架1 0 0的轉動，如第一實施型態所說明，於轉動方向產 生回復力。但是，於該第二實施型態中，可使產生比第一 實施型態更有效的回復力。即，在磁鐵丨40上未形成貫通 孔141的場合中，磁鐵140内部之X軸方向的磁束分佈成為X 軸中央部分高的分佈，但由於磁鐵1 4 〇在X軸方向中央部具 有貫通孔1 4 1，磁束分佈橫過X軸方向為均一。因此，通過 磁鐵140的磁束中，通過軛91、92的延伸部91b、92b的磁 束的分配比例變大，結果，可有效地產生回復力。
又，插通於磁鐵140之貫通孔141的支軸1〇6係由磁性 材料所形成的緣故’磁鐵1 4 0與支軸1 〇 6之間產生磁氣的吸 引力。由於貫通孔1 4 1具有槽1 4 2，貫通孔1 4 1的形狀係相 對於支軸1 0 6的中心軸線於Y軸方向為非對稱。即，支軸 1 〇 6係由磁鐵1 4 0之槽1 4 2之相反側較強力地被吸引。但 是，由於支軸1 0 6係固定於基座5上，磁鐵1 4 0以箭號所示
200409107 五、發明說明（13) - 的方向作用。結果，在透鏡支架1上，將軸孔13抵接於支、 轴1 0 6的方向的力作用，防止由軸孔1 a與支軸丨〇 6之間的間 隙所造成的碰撞。藉此抑制物鏡的傾斜及振動。 如此，在第二實施形態中，由於磁鐵丨4 〇與透鏡支架 1 0 0係一體成形’構件數量減少，組裝變得容易。此外， 將磁鐵安裝於透鏡支架外側的場合中，由於可動部分的重 量及慣性矩（moment )變大而消耗電流增加，在此第二實 施形態中，由於磁鐵140與透鏡支架1〇〇係為一體，可動部 分輕量化，慣性矩變小。結果，以少量的消耗電力可產生 大的電磁力。即’消耗電力少，且響應性可提升。 更進一步，單一的磁鐵140由於與透鏡支架1〇〇的支軸 1 0 6做同軸的設計’可產生軸對稱的驅動力，可防止不必 要的共振產生。此外，藉由將剛性高的磁鐵丨4〇配置於透 鏡支架1 0 0的中央部，提升可動部的剛性，可確實地防止 不必要的共振產生。 又，利用由磁性材料構成的支軸丨〇 6與磁鐵丨4 〇的磁氣 吸引力，由於使透鏡支架1〇〇的軸孔la對支軸1〇6做抵接， 防止由軸孔1 a與支軸1 〇 6的間隙所造成的碰撞，可抑制物 鏡3的傾斜及振動。更進一步，在此構造中，在不影塑透 鏡支架1的驅動力與回復力的產生下，軸孔la對支軸1；)6偏 壓力的大小及方向不因透鏡支架丨的位置而保持一定，在 相當穩定的狀恶下，可防止透鏡支架丨〇 〇的碰撞。 而且，在上述的第二實施形態中，雖然磁鐵14〇與透 鏡支架100形成一體，如第14圖所示，磁鐵14()與透鏡支架
200409107
1 0 0個別形成亦可。在該場合，使透鏡支架i 〇 〇的凸部丨〇 5 R 卡合於磁鐵140的槽142，並使透鏡支架loo的圓筒部分1〇4 插入於磁鐵140的貫通孔141而接合，藉此，磁鐵14〇與透 鏡支架100可相互固定。 第三實施形態 第1 5圖為本發明第三實施形態之物鏡驅動裝置3〇從上 方觀之的立體圖。第16圖為物鏡驅動裝置3〇的側視圖。第 17圖為物鏡驅動裝置3 〇的立體分解圖。在第15圖至第丨了圖 中，與表不於第1圖至第14圖的構成要素同一或相當的構θ 成要素給予同一符號。 在第二貫施形態中，軛的構造與上述第一及第二實施 形態不同。除了軛以外的構成要素與第一及第二實施ς = 相同。 ^ 如第1 5圖所示，第三實施形態中的軛除了軛91、92 外，具有磁性材料構成的連結部3〇()，連結該等輛91、 92。連結部300具有長尺部分；^，沿基座5的後方側（即 與物鏡3側之相反側）的端部延伸於γ軸方向。長尺部分 301於Ζ轴方向上的位置與輛91、92略同的位置配置。 長尺部分30 1的一端部302係沿基座5的側部延伸於前 方侧（即，物鏡3側），並一體地連接於輛9丨的後方側的 I伸。Ρ 9 1 b。I尺部分3 〇 J的另一端部3 〇 3係沿基座5的側部 =伸於前方側，並一體地連接於軛92的後方側的延伸部 92b。如此，連結部3〇〇從2軸方向觀之不與磁鐵14〇重疊配 置。當磁鐵140向資訊記錄媒體2接近的方向移動時，連結
200409107 五、發明說明（15) 部3 0 0不會被吸附於磁鐵1 4 〇上。 ， 從連結部300的長尺部分3〇1的長度方向中心部，於z 軸方向從基座5分離的方向上，延伸有位置限制部3 〇 5。位 置限制部305從長尺部分3〇1隨著愈向上方而愈向透鏡支架 100側彎曲，在透鏡支架1〇〇的上方略成水平（即，與χγ平 面略平行）。該略水平的部分（水平部分3〇6 ).抵接於支 軸106的上端。又，位置限制部3〇5的上述彎曲部分3〇7對 水平部分306施予向基座5側偏壓的偏壓力。由於該連結部 300與軛91、92共同構成磁路，可使通過聚焦線圈71、72 及追縱線圈81、82的磁束密度變大。 _
於此’扼藉由連結部3 〇 〇，由於以支軸丨〇 6為中心在X 軸方向上以非對稱配置，磁鐵14〇於χ軸方向上在連結部 3 0 0側叉到吸引力。因此，在透鏡支架丨〇 〇上，使軸孔丨&抵 壓於支軸1 0 6#的力作用，防止軸孔丨a與支軸丨〇 6的間隙所造 成的碰撞。藉此抑制物鏡的傾斜及振動。更進一步，由於 無須設置另外供防止碰撞的構件，構件數量減少，組裝變 得簡單。 如此’第三實施形態中，藉由設置連結軛9 1、9 2的連 結部=0，由於通過聚焦線圈71、72及追蹤線圈81、82的 磁束密度變大，可以少的消耗電力產生大的電磁力。即， 可使消耗電力少，且響應性提升。 又’由+於位置限制部3 0 5抵接於支軸1 〇 6上，透鏡支架 1 〇〇作為限定向接近資訊記錄媒體2的方向（z軸方向）驅 動時的移動界線的止動器（stopper )。因此，止動器亦
2096-5859.PF(Nl)；Chentf.ptd 第19頁 200409107 五、發明說明（16) 有其他用途，可防止物鏡3與資訊記錄媒體2得衝突 更進一步，藉由位置限制部3 0 5，可防止塵埃入侵於 支軸1 0 6與軸孔1 a的間隙。因此，無須防止塵埃入侵於支 轴1 06與軸孔ia的間隙的蓋（c〇ver )構件，可減少構件數 量。又，由於位置限制部305使支軸1〇6對基座5偏壓，可 抑制支軸1 06自體的震動，可得到良好的伺服特性。 Μ极=ί ’纟第三實施形態中’雖然輛的位置限制部305 軸106的上端’但位置限制部30 5若及於透鏡支架 =而不及於支軸106的上端亦可’可實施透鏡支架 1 0 0的移動限制。
200409107 圖式簡單說明 第1圖為本發明第一實施形態之物鏡驅動裝置從上方 觀之的立體圖。 第2圖為本發明第一實施形態之物鏡驅動裝置從下方 觀之的立體圖。 第3圖為本發明第一實施形態之物鏡驅動裝置的俯視 圖。 第4圖為本發明第一實施形態之物鏡驅動裝置在第3圖 中I V-I V線的剖視圖。 第5圖為本發明第一實施形態之物鏡驅動裝置的立體 分解圖。 第6圖為本發明第一實施形態之物鏡驅動裝置分成可 動部與固定部的立體圖。 第7圖表示本發明第一實施形態之物鏡驅動裝置中的 輒、磁鐵以及各線圈的位置關係圖。 第8圖表示本發明第一實施形態之物鏡驅動裝置中的 軛、磁鐵以及各線圈的位置關係圖。 、 第9圖為本發明第二實施形態之物鏡驅動襄置從 觀之的立體圖。 攸上方 弟1 0圖為本發明第二貫施形悲之物鏡驅動筆置 鏡支架及物鏡的立體圖。 ’透 第11圖為本發明第二實施形態之物鏡驅動裝 支架及磁鐵的立體圖。 x置的透鏡 第1 2圖表示本發明第二實施形態之物鏡驅動 軛、磁鐵以及各線圈的位置關係圖。 、置中的
2096-5859-PF(Nl);Chentf.ptd 第21頁 200409107 圖式簡單說明 第1 3圖表示本發明第二實施形態之物鏡驅動裝置中的Λ 軛、磁鐵以及各線圈的位置關係圖。 第1 4圖為本發明第二實施形態之物鏡驅動裝置中透鏡 支架之另一構造例的圖。 第1 5圖為本發明第三實施形態之物鏡驅動奘 仅夏彳欠卜士 觀之的立體圖。 上万 第1 6圖為本發明第三實施形態之物鏡驅動 圖。 、置的側視 第1 7圖為本發明第三實施形態之物鏡驅動裝 分解圖。 衣置的立體
符號說明
5 7 "58 71、72 第22頁 1〜透鏡支架； 2〜^訊記錄媒體； 5〜基座； 5b〜孑L ; 1 〇〜物鏡驅動裝置 1 2〜透鏡支持部； 2 0〜物鏡驅動裝置 4 1 a〜N極； 4 2 a〜N極; 1 a〜軸孔； 3〜物鏡； 5 a〜貫通孔； 6〜支軸； 11〜支架本體部. 13'14〜安骏面·’ 4 1、4 2〜礙織；， 4 1 b〜S極； 4 2 b〜S極； 5 0〜凹部 ；
匈壁； 聚隹括 …、線圈；
200409107 圖式簡單說明 71c、 72c、 v端線 部； 81、 8 2〜追蹤線圈 81c、 82c、 -端線 部； 9卜 9 2〜輛； 91a、 9 2a、 ^相向 部； 91b 、9 2 b〜延伸部 91c、 92c、 ^相向 面； 1 00〜透鏡支架； 1 0 1〜 長尺 部分 102广 〜透鏡安裝部； 103〜 屈曲 部； 104产 〜圓筒部分； 105〜 凸部 106产 ^支軸； 1 10〜 一 早兀 131 、1 3 2、1 3 3 〜框 140〜 磁鐵 140a 〜N極； 1 4 0 b〜S極 1 4 1〜貫通孔； 142〜 槽； 3 0 0， …連結部； 301〜 長尺 部分； ) 3 0 2〜端部； 303〜 端部 3 0 5〜位置限制部； 30 7〜 彎曲 部分； 71a、 7 1 b〜聚焦 線圈7 1 於X軸方向 的兩邊； 72a、 72b、 “聚焦 線圈7 2 於X轴方向 的兩邊； 81a、 8 1 b〜追蹤 線圈8 1 於Z轴方向 的兩邊； 82a、 82b、 -聚焦 線圈8 2 於Z轴方向 的兩邊。 #
2096-5359-PF(Nl);Qientf.ptd 第23頁

Claims (1)

  1. 200409107
    一種物鏡驅動裝置，包括： 物鏡（3 )，將光線匯聚於資訊記錄媒體； 透鏡支架（lens holder ) (1) ’支持上述物鏡 一基座（5)，具有可使上述透鏡支架（1)於上述 轴方向上移動…平行於上述光軸的軸線為中： 可叙轉支持的支軸（6 ); 一具有磁極的磁鐵（41、42)，安裝於上述透鏡支尹 (1) ’與上述光軸略呈直交的方向上施加磁場； 木 、一聚焦線圈（71、72)，安裝於上述基座，具有與上 磁鐵（41、42)的上述磁極相向並相對於上述支軸略呈 的邊（71a 、 72a); 、—追蹤線圈（81、82)，安裝於上述基座（5)，具有與 上述磁鐵（41、42)的上述磁極相向並相對於上述支軸略呈 平行的邊（81a、82a); =輛（91、92)，具有一相向部（91a、92a)，具備相向 於上述磁鐵的上述磁極的相向面（91c、g2c)，以及一延伸 邙（、91b、92b)，從上述相向部（9ia、92a)在從上述磁鐵的 ^述磁極分離的方向上延伸；使上述聚焦線圈的上述的邊 & 72a)及上述追縱線圈的上述的邊（81a、82a)配置於 上述相向面（91C、92c)與上述磁鐵（41、42)的上述磁極之 2 ·如申請專利範圍第丄 在相對於上述支軸（6 )的 項所述之物鏡驅動裝置，其中 二個位置上，設有不同磁極相
    200409107 六、申請專利範圍 向對準的磁鐵（41、42)，為了使與上述兩個磁鐵（41 4 2 )相向對準的磁極側之相反側的磁極分別相向，設有二 個上述軛（91、92)。 3 ·如申睛專利範圍第1項所述之物鏡驅動裝置，其中 上述磁鐵（140)具有供插通上述支軸（106)的孔（141 )’以及形成於相對於上述孔（6 )對稱位置上的二個磁 極’為了使上述磁鐵（1 4 〇 )的二個磁極相向，設有二個 上述的軛（9 1、9 2 )。 4 ·如申請專利範圍第3項所述之物鏡驅動裝置，其中 上述支軸（1 〇 6 )係由磁性材料所構成，上述磁鐵（1 & 〇 ) 之上述孔（141)，於上述施加磁場的方向上，具有相對 於上述支軸（1 〇 6 )之中心軸線非對稱的形狀。 5·如申請專利範圍第2、3或4項所述之物鏡驅動裝 置，其中上述二個軛（91、92)係配置成離上 )的距離不同。 又平田1 〇 6·如申請專利範圍第2、3或4項所述之物鏡驅動裝 置，其更包括一連結部（3〇5)，連結上述二個軛（^、 92)，並與上述二個軛共同形成一個磁路。 7 ·如申清專利範圍第6項所述之物鏡驅動裝置，其中 上述連結部（ 30 5 )於上述物鏡（3 )的光軸方向上/配 於不與上述磁鐵（140 )重疊對準的位置上。 8 ·如申清專利範圍第6項所述之物鏡驅動裝置，1 包括位置限制構件（3 0 6 )，從上述連結部（141 )延伸於 上述透鏡支架（100 )的上述資訊記錄媒體側，並限制上、 II I麵 苐25頁 2096-5859-PF(Nl);Chentf.ptd 200409107
    述透鏡支架（100)接近上述資訊釔錄媒體方向的位置。 、9 ·如申請專利範圍第8項所述之物鏡驅動裝置，其中 亡述位置限制構件（ 3 0 6 )抵接於上述支軸（106 )之上述 資訊記錄媒體側的端部。 士 1 0 ·如申請專利範圍第1、2、3或4項所述之物鏡驅動 叙置’其中上述磁鐵（140)含有塑膠。 11 ·如申請專利範圍第1、2、3或4項所述之物鏡驅動 裝置’其中上述磁鐵（14〇)與上述透鏡支架（1〇〇)係一 體成形。
    2096-5859-PF(Nl);Chentf.ptd 第26頁
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