TW200403149A - Surface protection film for optical film - Google Patents

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TW200403149A TW092117083A TW92117083A TW200403149A TW 200403149 A TW200403149 A TW 200403149A TW 092117083 A TW092117083 A TW 092117083A TW 92117083 A TW92117083 A TW 92117083A TW 200403149 A TW200403149 A TW 200403149A
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Kazuhito Okumura
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Nitto Denko Corp
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Description

200403149 玖、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種光學膜之表面保護膜。本發明之光學 膜之表面保護膜可使用於各種光學膜包括偏光膜、阻滯膜 (retardation film)、及抗反射膜之表面保護。此表面保 護膜亦可使用於保護各種影像顯示裝置諸如,比方說,液 晶顯示裝置(其中將表面保護膜塗布至具有光學膜作為最 外層之液晶模組之顯示表面)、及有機E L顯示裝置及P D P。 【先前技術】 一般將表面保護膜塗布至各種光學膜諸如,比方說,偏 光膜、阻滯膜、及抗反射膜之表面,以防止損傷及防止積 垢。迄今為止使用包括一撓性塑膠膜及形成於其一面之整 個表面上之可剝離感壓黏著層之表面保護感壓黏著片作為 此一表面保護膜。 液晶顯示裝置係經由將液晶及各種光學膜諸如,比方 說,偏光膜、阻滯膜、及抗反射膜重疊於玻璃基材上,利 用由例如,不銹鋼製成之金屬板所構成的固定框架,其稱 為「聚光圈(b e z e 1 )」,將所得結構之周邊固定,而得液晶 模組,將模組及其他組件組合,及將組合裝於盒中而製得。 一般將此種液晶顯示裝置(其具有光學膜作為最外層)之顯 示表面覆蓋表面保護膜,以防止在組合步驟或配銷過程中 被灰塵顆粒或其類似物黏著或積垢。換言之,在液晶模組 之製造步驟中將顯示表面覆蓋表面保護膜。使用於此顯示 表面保護之技術包括一種將包括一撓性塑膠膜及形成於其 5 312/發明說明書(補件)/92-09/921Π083 200403149 一面之整個表面上之可再剝離感壓黏著層之表面保護 黏著片塗布至液晶模組之顯示表面作為表面保護膜之 法。在另一技術中,將顯示表面覆蓋一塑膠膜(不具有 黏著層),接著再利用感壓黏著帶將膜固定。 塗布至光學膜(例如,偏光膜)之表面保護膜在運送 膜或其類似物時,係處於均勻黏著的狀態。通常亦將 面保護膜使用於液晶模組製造步驟中,以防止表面損 積垢。然而,在液晶模組製造步驟中,將表面保護膜 地剝離/黏貼,且經再黏貼之表面保護膜通常係呈起 皺摺狀態。會有當將此一狀態之表面保護膜最終剝除 在顯示表面上觀察到亮度之不均勻的情況(顯示表面 表面保護膜接觸之區域及未與其接觸之區域之間有亮 差異)。此亮度不均勻會減損液晶顯示裝置之可靠度 再者,亦會有當將由顯示表面經覆蓋表面保護膜之 模組製得之液晶顯示裝置實際使用時(即當使用於配4 後將表面保護膜剝離之液晶顯示裝置時),在顯示表面 觀察到亮度不均勻的情況。 【發明内容】 本發明之一目的為提供一種光學膜之表面保護膜, 當將其塗布至各種光學膜,例如,偏光膜,及將此等 蓋表面保護膜之光學膜加工及儲存時,其亦不會造成 亮度的不均勻。 本發明之另一目的為提供一種經覆蓋表面保護膜之 學膜及一種各具有塗布於其上之表面保護膜之經覆蓋 312/發明說明書(補件)/92-09/92117083 感壓 方 感壓 偏光 此表 傷/ 重複 泡或 時, L與 度的 液晶 ί之 上會 即使 經覆 影像 光 表面 6 200403149 保護膜的影像顯示裝置。 本發明之又另一目的為提供一種利用表面保護膜保護 光學膜之表面之方法,及一種利用表面保護膜保護影像顯 示裝置之顯示表面之方法。 本發明人進行密集的研究,以消除前述之問題。結果, 其發現該等目的可利用說明於下之光學膜之表面保護膜完 成。因此完成本發明。 本發明係關於一種光學膜之表面保護膜,其包括含聚 (乳酸)基薄膜之基礎材料膜。 此光學膜之表面保護膜可具有設置於基礎材料膜之一 面上之感壓黏著層。 本發明更關於一種具有塗布於其上之表面保護膜的光 學膜,其中此表面保護膜係說明於上之表面保護膜。本發 明又更關於一種具有塗布於其上之表面保護膜的影像顯示 裝置,其中此表面保護膜係說明於上之表面保護膜。 本發明更關於一種保護光學膜之表面之方法,其包括將 光學膜之表面覆蓋如上述之表面保護膜。本發明更關於一 種保護影像顯示裝置之顯示表面之方法,其包括將影像顯 示裝置之顯示表面覆蓋如上述之表面保護膜。 本發明之光學膜之表面保護膜包含聚(乳酸)基薄膜作 為基礎材料膜。因此,即使當將各種黏附有此表面保護膜 之光學膜加工及儲存,及其後將表面保護膜剝除時,光學 膜亦不會有光學色調的變化(亮度不均勻)。結果,可提供 沒有亮度不均勻及具高可靠度之影像顯示裝置。 7 312/發明說明書(補件)/92-09/92117083 200403149 本發明之光學膜之表面保護膜(以下通常簡稱為「表面 保護膜」)除了有用於具有各種功能之個別光學膜,諸如, 比方說,偏光膜、阻滯膜、及抗反射膜的表面保護之外, 其亦可應用至其他用途。舉例來說,表面保護膜可用於保 護包含此等光學膜為組成材料之液晶模組的顯示表面,及 用於保護各種影像顯示裝置諸如經由將液晶模組與其他組 件一起安裝至盒或其類似物中而製得之液晶顯示裝置(完 成產品)的顯示表面。本發明之光學膜之表面保護膜亦可以 帶材之形態使用。 【實施方式】 本發明之光學膜之表面保護膜包括含聚(乳酸)基薄膜 之基礎材料膜。此聚(乳酸)基薄膜包含一或多種乳酸聚合 物作為主成分。乳酸聚合物之例子包括聚(乳酸)及乳酸與 一或多種其他羥羧酸之共聚物。此種乳酸聚合物可單獨或 以其兩者以上之混合物使用。 乳酸之例子包括L -乳酸及D -乳酸。其中L -乳酸為較佳。 其他羥羧酸之例子包括羥乙酸、3 -羥丁酸、4 -羥丁酸、3 -羥戊酸、4 -羥戊酸、及6 -羥己酸、構成本發明之基礎材料 膜之乳酸聚合物係由僅衍生自一或多種乳酸之單體單元所 組成之聚(乳酸)最佳。 製造乳酸聚合物之聚合方法並無特殊之限制。舉例來 說,可使用任何已知之方法諸如縮合聚合及開環聚合。乳 酸聚合物之重量平均分子量係約自1 0,0 0 0至1,0 0 0,0 0 0 較佳。乳酸聚合物可為使用小量之鏈增長劑或交聯劑諸 8 312/發明說明書(補件)/92-09/92117083 200403149 如,比方說,聚異氰酸酯化合物、聚環氧基 酐,於進一步提高分子量而製得者。 雖然聚(乳酸)基薄膜包含乳酸聚合物為主 可包含其他聚合材料,只要本發明之效果不 可。非必需之聚合材料的例子包括除聚(乳西: 聚烯烴、聚苯乙烯、聚(曱基)丙烯腈、纖維: 烯醇)、聚醯胺、聚(乙酸乙烯酯)、及聚(苯i 免將脂族聚酯加入至乳酸聚合物中較佳。在 之情況中,當儲存於高溫高濕條件下時,聚 易泛白。因此,在此應用中不希望加入脂族 可將添加劑諸如,比方說,塑化劑、潤滑齊 紫外吸收劑、及抗靜電劑,加至聚(乳酸)基 可成型性及薄膜性質。 製造聚(乳酸)基薄膜之方法並無特殊之限 說,可經由利用熔融擠塑方法將乳酸聚合物 為主成分之組成物形成為薄膜而製得薄膜。 膜可經由輥壓、繃伸等等而單軸或雙軸拉伸 膜由於其之優異強度而為較佳。雙軸拉伸薄 然拉伸比並無特殊之限制,但其係至多5較 更佳。 由加工性(表面保護膜之可操作性)之觀點 礎材料膜之聚(乳酸)基薄膜之厚度一般係1 上,以1 5微米或以上較佳,2 0至2 0 0微米 本發明之表面保護膜可僅由包含聚(乳酸) 312/發明說明書(補件)/92-09/92117083 化合物、或酸 成分,但其亦 會因而減損即 t )外之聚酯、 爹材料、聚(乙 逑)。然而,避 加入脂族聚酯 (乳酸)基薄膜 聚酉旨。 丨、無機填料、 薄膜,以調整 制。舉例來 或包含聚合物 聚(乳酸)基薄 。此一拉伸薄 膜為特佳。雖 佳,1 . 5至5 來看,作為基 0微米或以 更佳。 基薄膜之基 9 200403149 礎材料膜所組成,或其可具有設置於聚(乳酸)基薄膜之一 面上之感壓黏著層。 使用於構成感壓黏著層之感壓黏著劑可適當地選自使 用於表面保護膜中之感壓黏著劑。舉例來說,可使用丙烯 酸系、聚酯、胺基曱酸酯、聚醚、及橡膠基型之感壓黏著 劑。一般而言,使用丙婦酸系感壓黏著劑由於透明度、加 工性、耐用性等等優異而有利。為製得具有期望黏著力之 感壓黏著層,利用一般的塗布方法諸如輥塗機方法、口模 式塗布機方法、刮條塗布機方法及其類似方法,以每平方 米薄膜之乾基計一般約自1至5 0克,3至3 0克較佳之量 塗布感壓黏著劑。感壓黏著層之厚度係自0 . 5至5 0微米較 佳,自2至3 0微米更佳。 可使本發明之表面保護膜中之基礎材料膜或感壓黏著 層進行抗靜電處理,或可將背側處理層形成於表面保護膜 上。在將感壓黏著層形成於基礎材料膜上之情況中,將背 側處理層形成在與感壓黏著層相對之側中。 抗靜電處理通常係例如,經由透過捏合將抗靜電劑加入 至基礎材料膜及/或感壓黏著層中,或經由在形成感壓黏 著層及/或背側處理層之前將底漆層(抗靜電層)形成於基 礎材料膜上而完成。關於抗靜電處理,可使用利用於聚合 材料中之已知之抗靜電劑。以下之抗靜電劑為特佳。 抗靜電劑之例子包括各種表面活性劑諸如陽離子表面 活性劑(例如,第四銨鹽型、鱗鹽型、及鹽型)、陰離子 表面活性劑(例如,羧酸型、磺酸酯型、硫酸酯型、磷酸酯 10 312/發明說明書(補件)/92-09/92117083 200403149 型、及亞填酸s旨型)、兩性表面活性劑(例如,橫酸甜菜驗 型、烷基甜菜鹼型、及烷基咪唑啉錄甜菜鹼型)、及非離子 表面活性劑(例如,多經醇衍生物、Θ -環糊精晶籠化合物、 脫水山梨糖醇脂肪酸單元酯及二元酯、聚(環氧烷)衍生 物、及胺氧化物)。此種抗靜電劑係透過捏合加入於基礎材 料膜及/或感壓黏著層中,或使用於形成抗靜電層。 其之例子更包括具有離子導電性之聚合物,諸如具有離 子傳導性基團之單體的均聚物,例如,陽離子單體(例如, 第四銨鹽)、兩性單體(例如,甜菜鹼化合物)、陰離子單體 (例如,磺酸鹽)、或非離子單體(例如,甘油)、此單體與 其他單體之共聚物、及具有衍生自具第四銨鹽基團之丙烯 酸酯或曱基丙烯酸酯之單元的聚合物。使用此等抗靜電劑 於形成抗靜電層。 抗靜電劑之例子更包括含諸如聚酯、胺基甲酸酯、丙烯 酸系、或丙烯酸系-三聚氰胺之聚合物作為黏合劑之抗靜電 塗布材料。使用此等抗靜電劑於形成抗靜電層。 其之例子更包括經由利用丙烯酸系樹脂或其類似物將 親水性聚合物,例如,乙烯/曱基丙烯酸酯共聚物合金化 而製得之類型的永久抗靜電劑。此等抗靜電劑係透過捏合 加入至基礎材料膜及/或感壓黏著層中。 抗靜電劑之例子更包括導電性填料諸如乙炔黑、導電黑 煙(K e t j e η B 1 a c k )、天然石墨、人工石墨、鈦黑、氧化鋅、 氧化錫、經塗布錫之氧化鈦、鎳薄片、經摻雜磷之氧化錫、 及經摻雜銻之氧化錫。此等抗靜電劑係透過捏合加入至基 11 312/發明說明書(補件)/92-09/92117083 200403149 礎材料膜及/或感壓黏著層中。 說明於上之抗靜電塗布材料一般包含導電性填料。使用 於此等塗布材料中之導電性填料基本上係與前述用於透過 捏合加入至基礎材料膜及/或感壓黏著層中之導電性填料 相同。換言之,乙炔黑、導電黑煙、天然石墨、人工石墨、 及鈦黑係使用作為黑色抗靜電塗布材料之導電性填料。氧 化鋅、氧化錫、及經塗布錫之氧化鈦係使用作為白色抗靜 電塗布材料之導電性填料。鎳薄片係使用作為銀色抗靜電 塗布材料之導電性填料。經摻雜磷之氧化錫及經摻雜銻之 氧化錫係使用作為透明抗靜電塗布材料之導電性填料。 不管將抗靜電劑使用於形成抗靜電層之使用方式為 何,經由捏合加入至基礎材料膜中,或經由捏合加入至感 壓黏著層中之抗靜電劑的使用量一般而言小。在形成抗靜 電層之情況中,每平方米薄膜之抗靜電劑之塗布量(乾燥後 之沈積量)一般係約自0. 0 1至5克,以約自0. 0 5至2克較 佳。當透過捏合將抗靜電劑加入至基礎材料膜中時,其係 以基礎材料膜計,一般約自0 . 1至5重量百分比,約自0 · 2 至2重量百分比較佳之量使用。當透過捏合將抗靜電劑加 入至感壓黏著層中時,其係以感壓黏著劑計,一般約自0. 1 至5重量百分比,約自0 . 2至2重量百分比較佳之量使用。 使用於形成背側處理層之背側處理劑(釋離劑)可為任 何在感壓黏著帶及其類似物之領域中使用作為背側處理劑 (釋離劑)之已知材料。其中較佳者為烷基側基型釋離劑及 聚矽氧釋離劑。特佳者為烷基侧基型釋離劑。烷基側基型 12 312/發明說明書(補件)/92-09/92117083 200403149 釋離劑之較佳例子包括主要由長鏈烧基丙稀酸酯之共聚 物、全敗烧基丙烤酸s旨之共聚物、(長鏈烧基)丙烤醯胺之 共聚物、順丁烯二酸之長鏈烷基衍生物之共聚物、含羥基 聚合物之長鏈烧基酯、含經基聚合物之(長鏈烧基)胺基甲 酸酯、含羥基聚合物之全氟烷基胺基甲酸酯等等所組成之 釋離劑。在此等聚合物中,各長鏈烷基具有1 8至3 0個碳 原子較佳。聚矽氧釋離劑可為縮合型聚矽氧或加成型聚矽 氧。每平方米基礎材料膜所塗布之背側處理劑(釋離劑)之 量一般係約自0 . 0 0 5至2克,以0 . 0 1至1克較佳。 本發明將經由參照實施例及比較例更詳細說明於下,但 不應將本發明解釋為受此等實施例所限制。 (實施例1 ) 將雙轴拉伸聚(乳酸)薄膜(E c ο 1 〇 j u S E P,M i t s u b i s h i Plastics IndustriesLtd.製造;100% 乳酸聚合物;厚度, 2 5微米)使用作為基礎材料膜。將此膜使用作為表面保護 膜。 (實施例2 ) 使說明於實施例1中之基礎材料膜的一面進行電暈處 理。其後利用# 9金屬絲纏棒將背側處理劑塗布至薄膜之未 經處理面,及將塗層在8 0 °C下乾燥1分鐘,以形成背側處 理層。關於背側處理劑,其係使用經由將烷基胺基甲酸酯 型釋離劑(Peel Oil 1010,Ipposha Oil Industries Co., Ltd.製造)以0.3重量百分比之固體含量溶解於甲苯中而 製備得之溶液。 13 312/發明說明書(補件)/92-09/92117083 200403149 接著利用# 6金屬絲纏棒將抗靜電劑塗布至薄膜之經電 暈處理面,及將塗層在8 0 °C下乾燥1分鐘,以形成底漆層。 關於抗靜電劑,其係使用包含離子導電性聚合物 (B0NDEIP,Konishi Co.,Ltd.製造)之抗靜電劑(即包含1 克B0NDEIPPX主成分(固體含量約32%)、1克B0NDEIPPX 硬化劑(固體含量約8 % )、1 2克異丙醇、及6克水之抗靜電 劑)。 接著利用塗布機將底漆層塗布感壓黏著劑溶液,及將塗 層在8 0 °C下乾 '燥2分鐘,以形成具有5微米乾基厚度之感 壓黏著層。如此製得表面保護膜。關於感壓黏著劑溶液, 其係使用包含1 0 0份重量之丙烯酸系聚合物(丙烯酸丁酯 /丙烯酸2-乙基己酯/丙烯腈/丙烯酸= 85/10/2/3(以重 量計)共聚物;重量平均分子量,6 0 0,0 0 0 ;普通的溶液聚 合)及3份重量之環氧交聯劑(Tetrad C,Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.製造)之溶液。 (比較例1 ) 將雙軸拉伸聚(對苯二曱酸乙二酯)薄膜(Lumirror S10,Toray Industries, Inc.製造;厚度,25 微米)使用 作為基礎材料膜。將此膜使用作為表面保護膜。 (比較例2 ) 以與實施例2相同之方式形成背側處理層、底漆層、及 感壓黏著層,而製得表面保護膜,除了使用於比較例1中 所使用之基礎材料膜。 (比較例3 ) 14 312/發明說明書(補件)/92-09/92117083 200403149 將聚缚烴薄膜(經由自Sumikathene 12吹脹而形成之 膜,S u m i t 〇 m ο M i t s u i Ρ ο 1 y ο 1 e f i n C 〇 ·, L t d .製造;厚度 6 0微米)使用作為基礎材料膜。將此膜使用作為表面保護 膜。 (比較例4 ) 以與實施例2相同之方式形成背側處理層、底漆層、及 感壓黏著層,而製得表面保護膜,除了使用於比較例3中 所使用之基礎材料膜。 使於實施例及比較例中製得之表面保護膜進行以下評 估。所得結果示於表1。 1.亮度不均勻之評估 (試驗方法) 如圖1所示,將其上經形成感壓黏著層之由NittoDenko Corp.製造之偏光膜10(NWF-SEG1425WVARC150K)黏貼至玻 璃板1 1。接著將表面保護膜1置於偏光膜1 0之大約一半 上(在實施例2及比較例2及4中,膜1係經放置成使感壓 黏著層面對偏光膜)。利用Nitto Denko Corp.製造之膠帶 1 2 ( N 〇 . 3 1 B )將表面保護膜1之邊緣固定。將如此製得之樣 品置於4 0 °C之恒溫恒濕室中,於其中儲存1 0小時,然後 再取出。 (評估方法) 將固定膠帶1 2及表面保護膜1剝除。接著於暗室中自 玻璃板1 1之下方將其照明,及使用另一偏光膜(N P F HEG1425DU,Nitto Denko Corp.製造)於建立交叉尼科耳 15 312/發明說明書(補件)/92-09/92117083 200403149 (crossednicol)狀態。自正上方及自各種角度以視覺檢查 重疊的偏光膜。將在未黏著表面保護膜1之區域1 0 a (自由 部分)與經黏著表面保護膜1之區域1 〇 b之間沒有亮度差異 的偏光膜評定為「〇」,而將其間具有亮度差異之偏光膜評 定為「X」。 2 . 於加熱及濕化後之外觀評估 使各表面保護膜在溫度6 0 °C及相對濕度9 0 % R Η之恒溫 恒濕室中靜置7天,接著使其回到室溫,然後再檢查外觀。 將沒有異常的表面保護膜評定為「〇」,而將有異常的表面 保護膜評定為「X」。 表1 基礎材料 膜之材料 感壓黏著層等 等之存在與否 亮度不 均勻 外觀 實施例1 聚(乳酸) 不存在 〇 〇 實施例2 聚(乳酸) 存在 〇 〇 比較例1 聚酯 不存在 X 〇 比較例2 聚醋 存在 X 〇 比較例3 聚烯烴 不存在 X 〇 比較例4 聚烯烴 存在 X 〇 雖然本發明已經詳細說明並參照其之特定具體例,但熟 悉技藝人士當明白可不脫離其之精神及範圍而於其中進行 各種變化及修改。 【圖式簡單說明】 圖1係說明於將偏光膜之表面保護膜剝離之後之亮度不 均勻之評估的示意圖。 (元件符號說明) 1 表面保護膜 16 312/發明說明書(補件)/92-09/92】丨7083 200403149 ίο 偏光膜 1 0 a 未黏著表面保護膜之區域 I Ob 經黏著表面保護膜之區域 II 玻璃板 12 膠帶
312/發明說明書(補件)/92-09/92117083 17

Claims (1)

  1. 200403149 拾、申請專利範圍: 1. 一種光學膜之表面保護膜,其包括含聚(乳酸)基薄膜 之基礎材料膜。 2 .如申請專利範圍第1項之光學膜之表面保護膜,其包 含設置於該基礎材料膜之一面上之感壓黏著層。 3. —種光學膜,具有塗布於其上之表面保護膜,其中該 表面保護膜係如申請專利範圍第1項之表面保護膜。 4. 一種光學膜,具有塗布於其上之表面保護膜,其中該 表面保護膜係如申請專利範圍第2項之表面保護膜。 5. —種影像顯示裝置,具有塗布於其上之表面保護膜, 其中該表面保護膜係如申請專利範圍第1項之表面保護 膜。 6 . —種影像顯示裝置,具有塗布於其上之表面保護膜, 其中該表面保護膜係如申請專利範圍第2項之表面保護 膜。 7. —種保護光學膜之表面之方法,其包括將光學膜之表 面覆蓋如申請專利範圍第1項之表面保護膜。 8. —種保護光學膜之表面之方法,其包括將光學膜之表 面覆蓋如申請專利範圍第2項之表面保護膜。 9 . 一種保護影像顯示裝置之顯示表面之方法,其包括將 影像顯示裝置之顯示表面覆蓋如申請專利範圍第1項之表 面保護膜。 1 0 . —種保護影像顯示裝置之顯示表面之方法,其包括 將影像顯示裝置之顯示表面覆蓋如申請專利範圍第2項之 18 312/發明說明書(補件)/92-09/92117083 200403149 表面保護膜。
    312/發明說明書(補件)/92-09/92117083 19
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