TW200300553A - Manufacturing method for disk-shape optical recording medium and optical recording medium - Google Patents

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200300553 A7 B7 五、發明説明（1 ) 【技術領域】 該發明是關於碟狀光記錄媒體之製造方法。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 【技術背景】 一般而酉 ’ CD ( Compact Died)或 DVD ( Digital Versatile Disc)等之碟狀光記錄媒體（光碟）是在藉由射 出成形而所形成之碟狀基材之資訊記錄面之規定區域上， 形成構成可記錄之記錄層或爲了構成可再生而所設置的反 射層等’並其上設置樹脂所形成之保護層而所構成，對整 個上述碟狀基材照射規定之雷射光，而執行資訊之記錄及 /或再生。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 並且’於最近，例如於日本特開平8-23563 8號公報 所揭示般，依據不需要使光予以透過，即是藉由將不要求 光學厚度之支援層（保護層）當作碟狀基材（基板）予以 射出成形而形成較厚之厚度，並在該基板之資訊記錄面側 上形成爲了構成可再生而所設置之反射層，或被構成可記 錄之記錄層等後，於其上方疊層形成可透過記錄再生用雷 射光之透明樹脂層的光透過層之製造方法，而所製造出之 光碟也受到注目。 於以往，光碟之製造是於基板射出成形之時，藉由與 基板中心部同時除去射出形成時固化在閘內之流道（ sprue runner )，在中心部打開圓形之中心孔而形成基板 ，並且，於錫呈上述反射膜或被呈可記錄之記錄層後，於 下一個工程中，藉由例如旋轉塗層法，形成樹脂製之保護 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） - 5 - 200300553 A7 B7 五、發明説明（2 ) 膜或由光透過性樹脂所構成之光透過層，而構成完成品。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 作爲該些光碟之上述保護層或上述光透過層之具有特 徵的製造方法之一，是如日本特開平10 — 249264號所揭示 般’有依據設覆蓋光碟之中心孔的蓋狀構件，並自其上方 旋轉塗布樹脂而使光碟全體廣泛硬化，來形成保護層（樹 脂層）的製造方法。該方法是因在塗布面內容易使樹脂層 層厚尤其半徑方向控制成爲均勻狀態，故亦可適用於如上 述曰本特開平8-23 5 63 8號公報所揭示般，形成光透過層 之時。 爲了適用上述般之樹脂層之旋轉塗布，形成更均勻狀 態之樹脂層，則需要塞住基板之中心孔的蓋狀構件，但是 於該製造方法中，因蓋狀構件爲潔淨者較理想，故經常使 用一個蓋狀構件之時，於一次使用樹脂塗布後則需執行洗 淨之工程，或者必需丟掉蓋狀構件，而採用新的（潔淨） 的蓋狀構件等之問題。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在此，本發明者是由與上述以往技術之不同觀點，發 明於形成上述樹脂層後形成中心孔周邊部的製造方法，來 作爲比起使用以往之蓋狀構件之製造方法，可簡化工程， 並提昇形成樹脂層之良率的碟狀記錄媒體之製造方法。 一般而言，對基板之濺鍍，是爲了在目的範圍內濺鍍 ，使用被覆外圈邊緣部及中心孔之罩幕來遮蔽基板之一部 分而執行濺鍍。 並且，一般介電體膜雖然是藉由RF濺鍍，金屬膜是 藉由DC濺鍍而所成膜，但是如相變化型光碟般，在具有 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -6 - 200300553 A7 _ B7 五、發明説明（3 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 多數次執行RF濺鍍和DC濺鑛之濺鍍工程之製造方法中 ’事先在載體上安裝基板和外圈罩幕及內圏罩幕，供給至 濺鍍室內而執行濺鍍。 但是，於使用上述蓋狀構件之製造方法中，無法將以 往所使用之內圏罩幕使用於成膜時，而被濺鍍到基板之中 心部。然後，當形成中心孔時，被濺鍍之膜，則露出於中 心孔端面。尤其，金屬膜是容易被水分腐鈾，由於露出至 端面，而形成了更大之問題。 【發明之揭示】 本發明是鑒於上述問題而所創造出者，其目的爲於提 供一種在濺鍍工程後形成中心孔之碟狀光記錄媒體之製造 方法中，具有多數次執行RF濺鍍（介電體膜之濺鍍）和 D C濺鍍（金屬膜之濺鍍）的濺鑛工程，並且效率佳地製 造可抑制金屬膜腐蝕之碟狀光記錄媒體之製造方法。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明者精心硏究之結果，可知僅在罩幕碟狀基材之 外圏的狀態下，利用濺鍍工程執行濺鍍介電體膜，於濺鍍 金屬膜之工程中，除了上述外圈罩幕之外，在濺鍍室內設 置遮斷基板中心部之內圏罩幕，可解決上述課題。 即是，依據以下之本發明則可以達成上述目的。 (1 ) 一種碟狀光記錄媒體之製造方法，是屬於用以 在光記錄媒體用之碟狀基材表面上疊層多數膜之具有多數 次濺鍍工程的碟狀光記錄媒體之製造方法，其特徵爲：上 述濺鍍工程至少包含有濺鍍介電體膜之工程，和濺鍍金屬 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -7- 200300553 A7 B7 五、發明説明（4 ) 膜之工程’於上述介電體膜之濺鍍工程中，將碟狀基材外 圈以外之部分予以露出，而在該露出部分上成膜。 (2 )如（1 )之碟狀光記錄媒體之製造方法，其中， 於濺鍍上述金屬膜之工程中，在濺鍍室（sputtering chamber )側上設置有遮蔽碟狀基材之中心部的內圏罩幕 〇 (3 )如（2 )之碟狀光記錄媒體之製造方法，其中， 貫通靶而配置上述內圏罩幕。 (4 )如（1 ) 、（ 2 )或（3 )之碟狀光記錄媒體之製 造方法，其中，於上述介電體之濺鍍工程和金屬膜之濺鍍 工程之至少一方的工程中，將上述碟狀基材之非濺鍍面與 保持碟狀基材之載體的平滑且水密構造之保持面接觸並加 以保持，然後藉由冷煤使該保持面從背側起予以冷卻。 (5 ) —種碟狀光記錄媒體之製造方法，是屬於用以 在光記錄媒體用之碟狀基材表面上疊層多數膜之具有多數 次濺鍍工程的碟狀光記錄媒體之製造方法，其特徵爲：上 述濺鍍工程是至少包含有濺鍍介電體膜之工程，和濺鍍金 屬膜之工程，於保持上述碟狀基材之載體上，安裝被覆該 碟狀基材之外圈的外圈罩幕，依序實行濺鍍上述介電體膜 之工程和濺鍍金屬膜之工程，在該些濺鍍工程之至少一方 工程中使上述碟狀基材之非濺鍍面接觸於上述載體之保持 面並加以保持，然後於藉由對上述碟狀基材濺鍍而予以成 膜後，自上述保持面使凸構件突出，而推出該碟狀基材予 以取出。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -8 - 200300553 A7 B7 五、發明説明（5 ) (6 )如（5 )之碟狀光記錄媒體之製造方法，其中， 上述載體之至少對應於資訊區域的部分爲平滑面。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) (7 )如（5 )或（6 )之碟狀光記錄媒體之製造方法 ’其中，貫通靶而配置上述內圏罩幕。 (8 )如（5 ) 、（ 6 )或（7 )之碟狀光記錄媒體之製 造方法，其中，於上述介電體之濺鍍工程和金屬膜之濺鍍 工程之至少一方的工程中，將上述碟狀基材之非濺鍍面與 保持碟狀基材之載體的平滑且水密構造之保持面接觸並力口 以保持，然後藉由冷煤使該保持面從背側起予以冷卻。 (9 )如（1 )至（8 )中之任一的碟狀光記錄媒體之 製造方法，其中，上述碟狀基材至少到上述濺鍍工程完成 爲止是無形成被形成在碟狀光記錄媒體之中心孔。 (1 0 )如（1 )至（9 )中之任一碟狀光記錄媒體之製 造方法，其中，在上述碟狀基材之非濺鍍面之中心附近設 置凹部，藉由上述凹部，對保持上述碟狀基材之載體，執 行該碟狀基材之定位即保持之至少一方。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (11 ) 一種光記錄媒體，是屬於在碟狀基材之表面上 ’藉由濺鍍工程疊層多數膜而所構成之碟狀光記錄媒體， 其特徵爲：上述多數膜中之至少一個是被形成到上述碟狀 光記錄媒體之中心孔邊緣部分爲止。 (1 2 )如（11 )之光記錄媒體，其中，被形成到上述 中心孔邊緣部分爲止的膜是介電體膜。 (13)如（11)或（12)之光記錄媒體，其中，上述 中心孔是於疊層上述多數膜後而被所形成，且沿著被形成 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ~ -9 - 200300553 A7 B7 五、發明説明（6 ) 到上述中心孔邊緣部分的膜中心孔的內圏端被設爲切斷端 緣。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 【圖面之簡單說明】 第1圖是表示本發明之實施形態之例所涉及之碟狀光 記錄媒體之製造方法之重要部分的斜視圖。 第2圖是表示於同製造方法中之濺鍍工程所使用之碟 狀基材保持用之載體的斜視圖。 第3圖是表示碟狀基材保持用之載體及碟狀基材的剖 面圖。 【元件對照表】 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 10 碟狀基材 10A濺鍍面 10B非濺鍍面 10C凹部 12 外圈罩幕 14 DC濺鍍室 16 內圈罩幕 18 載體 20 保持面 22 冷卻手段 24 RF濺鍍室 26 靶 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -10- 200300553 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（7 ) 28 凸構件 【用以實施本發明之最佳形態】 以下參照圖面詳細說明本發明之實施形態的例。 該實施形態之例所涉及之碟狀光記錄媒體之製造方法 ’是如第1圖所示般具有在屬於光記錄媒體用之碟狀基材 1〇之一方表面的濺鍍面10A上（參照第1圖（A))疊層 多數膜的多數次濺鍍工程，該濺鍍工程是包含有第1圖（ B )所示之濺鍍介電體膜之RF濺鍍工程，和第1圖（C ) 所示之濺鍍金屬膜之DC濺鍍工程。 於上述RF濺鍍工程中，露出上述碟狀基材1 0之外 圏以外的部分，即是藉由外圏罩幕1 2僅覆蓋外圏，於該 內側部分上予以成膜。 再者，上述DC濺鍍工程是在DC濺鍍室14側上設置 遮蔽上述碟狀基材1 0之中心部的內圈罩幕1 6，依此，形 成僅在碟狀基材之無被上述外圏罩幕1 2及內圈罩幕1 6所 遮蔽之部分上成膜。 上述碟狀基材10是在被安裝在第2圖中放大所表示 之載體1 8上之狀態下被進行濺鍍。於該載體1 8上，安裝 有上述外圏罩幕12,構成可遮蔽被安裝在載體18之碟狀 基材1 0的外圈。 再者，於載體1 8上，爲了接觸並保持上述碟狀基材 1 0之非濺鍍面1 0B，至少在對應於碟狀光記錄媒體之資訊 區域的部分，具備有平滑且水密構造之保持面20。在此 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） f請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁)

-11 - 200300553 A7 B7 五、發明説明（8 ) ，水密構造是指液體、氣體不透過之形狀。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 再者，在上述載體1 8之上述保持面20之背面側上， 設置有使氣體冷煤、液態冷煤循環之冷卻工程22。 對於上述RF濺鍍工程中之RF濺鍍室24，是被設成 可藉由將上述載體18安裝在規定位置上，而定位碟狀基 材10。 同樣的，在DC濺鍍室14中，於使碟狀基材10予以 定位之時，也使載體1 6成爲定位基準。 於該定位之時，則如第3圖所示般，藉由在碟狀基材 1 0之非濺鍍面1 0B之略中心形成凹部1 0C，在載體1 8側 上設置對應於此之凸構件28，來定位碟狀基材10，並且 加以保持。該凹凸部分爲了用於定位雖然僅爲凹凸亦可， 但是亦可使用機械緊固方式來嵌合凹凸，可以使保持力成 爲更大。 上述內圏罩幕16是如第1圖（C)所不般，是將DC 濺鍍室1 4中之靶26配置在對應於碟狀基材1 0之中心部 的位置上。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 再者，上述凸構件28在上述保持面20之略中央位置 ’該前端是藉由自背後推壓成膜後的碟狀基材10，而使 得可自保持面20推出而分開，從上述定位之狀態又成爲 突出自如。 於該實施形態之例的碟狀光記錄媒體之製造方法中， 首先’將碟狀基材1 〇安裝在載體1 8使成爲該非濺鍍面 10B可密著於保持面20，並且藉由外圏罩幕12，遮蔽碟 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -12- 200300553 A7 B7 五、發明説明（9 ) 狀基材1 0之外圏。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 以往，碟狀基材之非濺鍍面因成爲光碟之時爲射入面 ，故將該部分直接接觸於載體，則有使光射入面受損之問 題，但是於本發明之光碟中，因於濺鍍工程後，在其上方 設置將成爲光射入面之光透過層而所構成，故即使非濺鍍 面直接接觸於載體也不會造成問題。若使用如此之保持方 法，於濺鍍之時，因可有效率冷卻碟狀基材（溫度管理） ，故爲有效。 接著，同時置位載體1 8與碟狀基材10於RF濺鍍室 24。此時定位碟狀基材10，是透過載體18及外圈罩幕12 而被設定。 於此狀態下，一面使冷卻手段22循環冷煤，透過保 持面20冷卻非濺鍍面，一面執行RF濺鍍。 RF濺鍍完成後，自RF濺鍍室24同時取出碟狀基材 10和載體18後，裝著於DC濺鍍室14內。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於DC濺鍍室14中，因於靶26之中央位置上設置有 內圈罩幕16，故於DC濺鍍之時，藉由內圏罩幕16遮蔽 碟狀基材10之濺鍍面10A之中央部，於該中央部則不被 濺鍍成膜。 又，碟狀基材10之外圈部也被外圈罩幕遮蔽之狀態 ，故該部分也不被成膜。 於上述RF濺鍍工程及DC濺鍍工程中，上述載體18 之保持面20因於背面全環冷煤而被冷卻，故密著於該保 持面之碟狀基材1 〇是從非濺鍍面1 〇 B最佳地被冷卻，而 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） 13- 200300553 A7 B7 五、發明説明（10 ) 成爲效率性的成膜。 再者，與上述非濺鍍面10B接觸之保持面20爲平滑 且水密構造，氣體不會貫通，故不會影響濺鍍，可以良好 地冷卻碟狀基材。 於上述RF濺鍍工程及DC濺鍍工程中，於藉由各濺 鍍的成膜結束時，使載體1 8之凹構件28突出，可以將碟 狀基材11容易地自保持面分開。 再者，用以保持碟狀基材1 0之載體1 8，是若爲可以 將碟狀基材101維持平面狀即可，不一定要設置如上述實 施形態之例中的保持面20亦可。又，也不一定需要藉由 冷煤的冷卻。而且，成膜後之碟狀基材10的凸出，不一 定要中央凸起部28亦可。 【產業上之利用可行性】 本發明因如上述般之構成，故具有可以在碟狀光記錄 媒體用之碟狀基材上效率佳地實行濺鍍工程，而予以成膜 的優良效果。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -14 -

Claims (1)

1. 200300553 ——— 第9] 133754號專利申請案 A8 # $ ， , 中文申請專利範圍修正本民國92年2月21曰修正a /* D8 !箱充 I 一 六、申請專利範圍 1·一種碟狀光記錄媒體之製造方法，是屬於用以在光 記錄媒體用之碟狀基材表面上疊層多數膜之具有多數次濺 鍍工程的碟狀光記錄媒體之製造方法，其特徵爲： 上述濺鍍工程至少包含有濺鍍介電體膜之工程，和濺 鍍金屬膜之工程，於上述介電體膜之濺鍍工程中，將碟狀 基材外圈以外之部分予以露出，而在該露出部分上成膜。 2·如申請專利範圍第1項所記載之碟狀光記錄媒體之 製造方法，其中，於濺鍍上述金屬膜之工程中，在濺鍍室 (sputtering chamber )側上設置有遮蔽碟狀基材之中心部 的內圈罩幕。 3·如申請專利範圍第2項所記載之碟狀光記錄媒體之 製造方法，其中，貫通靶而配置上述內圈罩幕。 4·如申請專利範圍第1、2或3項所記載之碟狀光記 錄媒體之製造方法，其中，於上述介電體之濺鍍工程和金 屬膜之濺鍍工程之至少一方的工程中，將上述碟狀基材之 非濺鍍面與保持碟狀基材之載體的平滑且水密構造之保持 面接觸並加以保持，然後藉由冷煤使該保持面從背側起予 以冷卻。 5.—種碟狀光記錄媒體之製造方法，是屬於用以在光 記錄媒體用之碟狀基材表面上疊層多數膜之具.有多數次濺 鍍工程的碟狀光記錄媒體之製造方法，其特徵爲：上述濺 鍍工程是至少包含有濺鍍介電體膜之工程，和濺鍍金屬膜 之工程’於保持上述碟狀基材之載體上，安裝被·覆該碟狀 基材之外圈的外圈罩幕，依序實行濺鍍上述介電體膜之工 本紙張尺度逋用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) r 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 200300553 A8 B8 C8 D8 々、申請專利範圍 程和濺鑛金屬膜之工程，在該些濺鍍工程之至少一方工程 中使上述碟狀基材之非濺鍍面接觸於上述載體之保持面並 加以保持，然後於藉由對上述碟狀基材濺鍍而予以成膜後 ，自上述保持面使凸構件突出，而推出該碟狀基材予以取 出。 6. 如申請專利範圍第5項之碟狀光記錄媒體之製造方 法，其中，上述載體之至少對應於資訊區域的部分爲平滑 面。 7. 如申請專利範圍第5項或第6項所記載之碟狀光記 錄媒體之製造方法，其中，貫通靶而配置上述內圈罩幕。 8. 如申請專利範圍第5或6項所記載之碟狀光記錄媒 體之製造方法，其中，於上述介電體之濺鍍工程和金屬膜 之濺鍍工程之至少一方的工程中，將上述碟狀基材之非濺 鍍面與保持碟狀基材之載體的平滑且水密構造之保持面接 觸並加以保持，然後藉由冷煤使該保持面從背側起予以冷 9. 如申請專利範圍第7項所記載之碟狀光記錄媒體之 製造方法，其中，於上述介電體之濺鍍工程和金屬膜之濺 鍍工程之至少一方的工程中，將上述碟狀基材之非濺鍍面 與保持碟狀基材之載體的平滑且水密構造之保持面接觸並 加以保持，然後藉由冷煤使該保持面從背側起予以冷卻。 1 0.如申請專利範圍第1、2、3、5、6項中之任一項 所記載之碟狀光記錄媒體之製造方法，其中，上述碟狀基 材至少到上述濺鍍工程完成爲止是無形成被形成在碟狀光 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、?! 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -2- 200300553 A8 B8 C8 D8 々、申請專利範圍 記錄媒體之中心孔。 1 1.如申請專利第4項之碟狀光記錄媒體之製造方法 ，其中，前述碟狀基材，係在至少前述濺鍍工程完成之前 ，未形成形成於碟狀光記錄媒體之中心孔者。 12_如申請專利第7項所記載之碟狀光記錄媒體之製 造方法，其中，前述碟狀基材，係在至少前述濺鍍工程完 成之’未形成形成於碟狀光記錄媒體之中心孔者。 1 3 ·如申請專利第8項所記載之碟狀光記錄媒體之製 造方法，其中，前述碟狀基材，係在至少前述濺鍍工程完 成之前，未形成形成於碟狀光記錄媒體之中心孔者。 14 ·如申請專利範圍第1、2、3、5、6項中之任一項 所記載之碟狀光記錄媒體之製造方法，其中，在上述碟狀 基材之非濺鍍面之中心附近設置凹部，藉由上述凹部，對 保持上述碟狀基材之載體，執行該碟狀基材之定位即保持 之至少·一方。 15·如申請專利範圍第4項所記載之碟狀光記錄媒體 之製造方法，其中，在上述碟狀基材之非濺鍍面之中心附 近設置凹部，藉由上述凹部，對保持上述碟狀基材之載體 ’執行該碟狀基材之定位即保持之至少一方。 16.如申請專利範圍第7項所記載之碟狀光記錄媒體 之製造方法，其中，在上述碟狀基材之非濺鍍面之中心附 近設置凹部，藉由上述凹部，對保持上述碟狀基材之載體 ’藉由上述凹部執行該碟狀基材之定位即保持之至少一方 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1Τ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -3 - 200300553 8 8 8 8 ABCD 々、申請專利範圍 17·$α $胃專利範圍第8項所記載之碟狀光記錄媒體 t Μ造$ & ’其中’在上述碟狀基材之非濺鍍面之中心附 ώ & g Η部’藉由上述凹部，對保持上述碟狀基材之載體 ’ _ ή ±述凹部執行該碟狀基材之定位即保持之至少一方 〇 18. ¾甲請專利範圍第1〇項所記載之碟狀光記錄媒體 t Μ Β力法’其中，在上述碟狀基材之非濺鍍面之中心附 近設置凹部’藉由上述凹部，對保持上述碟狀基材之載體 ’ S ±述凹部執行該碟狀基材之定位即保持之至少一方 〇 19. 一®光記錄媒體，是屬於在碟狀基材之表面上， 藉由濺鍍工程疊層多數膜而所構成之碟狀光記錄媒體，其 特徵爲··上述多數膜中之至少一個是被形成到上述碟狀光 記錄媒體之中心孔邊緣部分爲止。 20·如申請專利範圍第19項所記載之光記錄媒體，其 中’被形成到上述中心孔邊緣部分爲止的膜是介電體膜。 21.如申請專利範圍第19項或第20項所記載之光記 錄媒體，其中，上述中心孔是於疊層上述多數膜後而被所 形成，且沿著被形成到上述中心孔邊緣部分的膜中心孔的 內圈端被設爲切斷端緣。 ’ 本紙張尺度適用中國國家榡準（CNS ) Α4規格（210X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -4-