JPH0991772A - 光記録媒体の製造装置および製造方法 - Google Patents
光記録媒体の製造装置および製造方法Info
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- JPH0991772A JPH0991772A JP27184695A JP27184695A JPH0991772A JP H0991772 A JPH0991772 A JP H0991772A JP 27184695 A JP27184695 A JP 27184695A JP 27184695 A JP27184695 A JP 27184695A JP H0991772 A JPH0991772 A JP H0991772A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板用ホルダに対し外周マスクを容易にかつ
正確に所定状態に位置決めできるようにし、スパッタリ
ング等において確実に所望のマスキングを行うことがで
きるようにする。 【解決手段】 光記録媒体の基板を保持する円板状ホル
ダと、該ホルダの外周部に嵌合され、ホルダ上に保持さ
れた基板の外周端部を覆う環状の外周マスクとを有する
光記録媒体の製造装置において、前記外周マスクが、前
記ホルダに対し、周方向において３点以上実質的に点接
触することにより位置決めされていることを特徴とす
る、光記録媒体の製造装置および製造方法。
正確に所定状態に位置決めできるようにし、スパッタリ
ング等において確実に所望のマスキングを行うことがで
きるようにする。 【解決手段】 光記録媒体の基板を保持する円板状ホル
ダと、該ホルダの外周部に嵌合され、ホルダ上に保持さ
れた基板の外周端部を覆う環状の外周マスクとを有する
光記録媒体の製造装置において、前記外周マスクが、前
記ホルダに対し、周方向において３点以上実質的に点接
触することにより位置決めされていることを特徴とす
る、光記録媒体の製造装置および製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体の製造
装置および製造方法に関し、とくに基板の外周端部をス
パッタリング時等にマスキングするための装置の改良お
よびその装置を用いた光記録媒体の製造方法に関する。
装置および製造方法に関し、とくに基板の外周端部をス
パッタリング時等にマスキングするための装置の改良お
よびその装置を用いた光記録媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光記録媒体は、基板上に光学的に記録再
生可能な情報記録部を設け、文書やデータ等のファイル
用ディスクとして用いられている。光記録媒体を高速で
回転させながら、１μｍ程度に絞り込んだレーザ光を照
射し、焦点調整および位置検出を行いながら、記録層か
らデータを読み出したり記録層にデータを記録したりし
ている。
生可能な情報記録部を設け、文書やデータ等のファイル
用ディスクとして用いられている。光記録媒体を高速で
回転させながら、１μｍ程度に絞り込んだレーザ光を照
射し、焦点調整および位置検出を行いながら、記録層か
らデータを読み出したり記録層にデータを記録したりし
ている。
【０００３】このような光記録媒体においては、成形さ
れたディスク基板上に、記録層等の所定の層を形成する
ために、スパッタリング等により膜付けが行われる。
れたディスク基板上に、記録層等の所定の層を形成する
ために、スパッタリング等により膜付けが行われる。
【０００４】スパッタリング等による膜付けは、基板上
の所定の領域について行えばよいから、通常、基板の外
周端部にはマスキングが施される。このマスキングによ
り基板の外周端部への膜付けを防止できるため、ＵＶ
（紫外線）硬化樹脂等の保護被膜層を塗布し、ＵＶ硬化
させて保護コートを施した際、スパッタ膜端面が完全に
覆われ、膜付端部からの酸化、腐食の進行が防止できる
という効果も期待できる。
の所定の領域について行えばよいから、通常、基板の外
周端部にはマスキングが施される。このマスキングによ
り基板の外周端部への膜付けを防止できるため、ＵＶ
（紫外線）硬化樹脂等の保護被膜層を塗布し、ＵＶ硬化
させて保護コートを施した際、スパッタ膜端面が完全に
覆われ、膜付端部からの酸化、腐食の進行が防止できる
という効果も期待できる。
【０００５】このマスキングは、従来、たとえば図４に
示すように行われている。すなわち、円板状のホルダ１
１上に光記録媒体用のディスク基板１２が保持され、基
板１２の外周端部が環状の外周マスク１３によって覆わ
れることによってマスキングが施される。外周マスク１
３は、その内周面がホルダ１１の外周面に嵌合されて、
外周マスク１３とホルダ１１との位置決め、および、基
板１２に対する外周マスク１３の位置決めが行われるよ
うになっている。これらの位置決めには、０．１ｍｍオ
ーダー程度の厳格な精度が要求されることが多い。した
がって、ホルダ１１の外周面と外周マスク１３の内周面
とのクリアランスの公差についても、同様に厳格な精度
が要求される。
示すように行われている。すなわち、円板状のホルダ１
１上に光記録媒体用のディスク基板１２が保持され、基
板１２の外周端部が環状の外周マスク１３によって覆わ
れることによってマスキングが施される。外周マスク１
３は、その内周面がホルダ１１の外周面に嵌合されて、
外周マスク１３とホルダ１１との位置決め、および、基
板１２に対する外周マスク１３の位置決めが行われるよ
うになっている。これらの位置決めには、０．１ｍｍオ
ーダー程度の厳格な精度が要求されることが多い。した
がって、ホルダ１１の外周面と外周マスク１３の内周面
とのクリアランスの公差についても、同様に厳格な精度
が要求される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
に、位置決めがホルダ１１の外周面と外周マスク１３の
内周面との面同士間で行われる場合、ホルダ１１あるい
は外周マスク１３に僅かな変形が生じても、外周マスク
１３をホルダ１１に装着できなくなることがある。ま
た、外周マスク１３は、ホルダ１１に対して、その上に
保持されている基板１２の外周端部が正確に覆われるよ
う、外周マスク１３の軸方向に所定の位置まで押し込ま
れる必要があるが、上記のようにホルダ１１あるいは外
周マスク１３に変形が生じると、こじれて、所定の位置
まで押し込めないことがある。このような状態になる
と、スパッタリング等に対する所望のマスキングは行わ
れない。また、例え所定の位置まで押し込めても、変形
により嵌合がきつくなり、外周マスクの脱着が容易でな
くなる等の不都合が生じやすい。特に多量の光ディスク
を連続的に処理する場合には、このような不都合は装置
トラブルとなる重大な支障であり、生産性を大きく阻害
する。
に、位置決めがホルダ１１の外周面と外周マスク１３の
内周面との面同士間で行われる場合、ホルダ１１あるい
は外周マスク１３に僅かな変形が生じても、外周マスク
１３をホルダ１１に装着できなくなることがある。ま
た、外周マスク１３は、ホルダ１１に対して、その上に
保持されている基板１２の外周端部が正確に覆われるよ
う、外周マスク１３の軸方向に所定の位置まで押し込ま
れる必要があるが、上記のようにホルダ１１あるいは外
周マスク１３に変形が生じると、こじれて、所定の位置
まで押し込めないことがある。このような状態になる
と、スパッタリング等に対する所望のマスキングは行わ
れない。また、例え所定の位置まで押し込めても、変形
により嵌合がきつくなり、外周マスクの脱着が容易でな
くなる等の不都合が生じやすい。特に多量の光ディスク
を連続的に処理する場合には、このような不都合は装置
トラブルとなる重大な支障であり、生産性を大きく阻害
する。
【０００７】本発明の課題は、上記のような問題点に着
目し、基板用ホルダに対し外周マスクを容易にかつ正確
に所定状態に嵌合できるようにし、スパッタリング等に
おいて確実に所望のマスキングを行わしめることにあ
る。
目し、基板用ホルダに対し外周マスクを容易にかつ正確
に所定状態に嵌合できるようにし、スパッタリング等に
おいて確実に所望のマスキングを行わしめることにあ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に、本発明の光記録媒体の製造装置は、光記録媒体の基
板を保持する円板状ホルダと、該ホルダの外周部に嵌合
され、ホルダ上に保持された基板の外周端部を覆う環状
の外周マスクとを有する光記録媒体の製造装置におい
て、前記外周マスクが、前記ホルダに対し、周方向にお
いて３点以上実質的に点接触することにより位置決めさ
れていることを特徴とするものからなる。また、本発明
に係る光記録媒体の製造方法は、このような光記録媒体
の製造装置を用いて光記録媒体を製造することを特徴と
する方法からなる。
に、本発明の光記録媒体の製造装置は、光記録媒体の基
板を保持する円板状ホルダと、該ホルダの外周部に嵌合
され、ホルダ上に保持された基板の外周端部を覆う環状
の外周マスクとを有する光記録媒体の製造装置におい
て、前記外周マスクが、前記ホルダに対し、周方向にお
いて３点以上実質的に点接触することにより位置決めさ
れていることを特徴とするものからなる。また、本発明
に係る光記録媒体の製造方法は、このような光記録媒体
の製造装置を用いて光記録媒体を製造することを特徴と
する方法からなる。
【０００９】上記のような点接触は、外周マスクの内周
面あるいはホルダの外周面に、突起あるいは突条を設け
ることにより達成できる。先端が比較的鋭利な突起を設
けて点接触状態を作ることにより本発明の効果を発現さ
せうるが、より効果的に発現させる方法として、外周マ
スクあるいはホルダの軸方向に延びる突条を設ける方法
がある。この突条により、周方向において点接触状態を
達成しつつ、軸方向には実質的に線接触状態として軸方
向におけるガイド機能をもたせることができる。
面あるいはホルダの外周面に、突起あるいは突条を設け
ることにより達成できる。先端が比較的鋭利な突起を設
けて点接触状態を作ることにより本発明の効果を発現さ
せうるが、より効果的に発現させる方法として、外周マ
スクあるいはホルダの軸方向に延びる突条を設ける方法
がある。この突条により、周方向において点接触状態を
達成しつつ、軸方向には実質的に線接触状態として軸方
向におけるガイド機能をもたせることができる。
【００１０】つまり上記のような周方向における点接触
を達成するより好ましい態様は、前記外周マスクの内周
面に、前記点接触を行う、外周マスクの軸方向に延びる
突条が設けられている構造、あるいは、前記ホルダの外
周面に、前記点接触を行う、ホルダの軸方向に延びる突
条が設けられている構造である。
を達成するより好ましい態様は、前記外周マスクの内周
面に、前記点接触を行う、外周マスクの軸方向に延びる
突条が設けられている構造、あるいは、前記ホルダの外
周面に、前記点接触を行う、ホルダの軸方向に延びる突
条が設けられている構造である。
【００１１】本発明は、とくに基板上にスパッタリング
により膜付けを施す工程に好適であり、この場合、上記
外周マスクは、スパッタ膜が基板の外周端部に付着しな
いように該基板の外周端部を覆うマスクである。
により膜付けを施す工程に好適であり、この場合、上記
外周マスクは、スパッタ膜が基板の外周端部に付着しな
いように該基板の外周端部を覆うマスクである。
【００１２】このような光記録媒体の製造装置において
は、ホルダの外周と外周マスクの内周とが点接触による
嵌合構造とされるので、ホルダや外周マスクにたとえ僅
かな変形がある場合にも、外周マスクは、ホルダに対
し、容易にかつ確実に嵌合、装着される。この点接触
は、周方向において少なくとも３点で行われるから、ホ
ルダに対する外周マスクの位置、ひいてはホルダ上の基
板に対する外周マスクの位置が、自然にかつ正確に決め
られる。
は、ホルダの外周と外周マスクの内周とが点接触による
嵌合構造とされるので、ホルダや外周マスクにたとえ僅
かな変形がある場合にも、外周マスクは、ホルダに対
し、容易にかつ確実に嵌合、装着される。この点接触
は、周方向において少なくとも３点で行われるから、ホ
ルダに対する外周マスクの位置、ひいてはホルダ上の基
板に対する外周マスクの位置が、自然にかつ正確に決め
られる。
【００１３】また、上記周方向における点接触を、外周
マスクの内周面あるいはホルダの外周面に設けた軸方向
に延びる突条で行うようにすれば、周方向における点接
触状態を確保しつつ、軸方向にはガイド機能をもたせる
ことができるので、外周マスクはホルダに対し極めて円
滑に所定位置まで押し込まれる。
マスクの内周面あるいはホルダの外周面に設けた軸方向
に延びる突条で行うようにすれば、周方向における点接
触状態を確保しつつ、軸方向にはガイド機能をもたせる
ことができるので、外周マスクはホルダに対し極めて円
滑に所定位置まで押し込まれる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の望ましい実施の
形態について、図面を参照して説明する。図１および図
２は、本発明の一実施態様に係る光記録媒体の製造装置
を示しており、とくに、基板上にスパッタリングにより
所定の膜付けを行うスパッタ工程に用いられるマスク装
置を示している。
形態について、図面を参照して説明する。図１および図
２は、本発明の一実施態様に係る光記録媒体の製造装置
を示しており、とくに、基板上にスパッタリングにより
所定の膜付けを行うスパッタ工程に用いられるマスク装
置を示している。
【００１５】図において、１は、その上面上にディスク
基板２を保持する円板状のホルダを示している。ホルダ
１上の所定位置に基板２を保持した状態にて、環状の外
周マスク３がホルダ１に装着される。外周マスク３は、
縦断面が逆Ｌ字形状の部分が環状に延びるものから構成
されており、マスク部３ａにて、基板２の上面の外周端
部２ａを覆ってマスキングするようになっている。した
がって、マスキングされた基板２の外周端部２ａにはス
パッタ膜は形成されない。
基板２を保持する円板状のホルダを示している。ホルダ
１上の所定位置に基板２を保持した状態にて、環状の外
周マスク３がホルダ１に装着される。外周マスク３は、
縦断面が逆Ｌ字形状の部分が環状に延びるものから構成
されており、マスク部３ａにて、基板２の上面の外周端
部２ａを覆ってマスキングするようになっている。した
がって、マスキングされた基板２の外周端部２ａにはス
パッタ膜は形成されない。
【００１６】外周マスク３の内周部位がホルダ１の外周
部位に嵌合されて、ホルダ１に対する外周マスク３の位
置、および基板２に対する外周マスク３の位置が決めら
れる。本実施態様では、外周マスク３の内周面３ｂに、
先端が比較的鋭利な突条４が設けられている。突条４
は、外周マスク３と一体に形成されているが、別体とし
てもよい。突条４は、外周マスク３の軸方向には直線的
に延びており、ホルダ１の外周面１ａに対し、周方向に
おいては実質的に点接触し、軸方向においては実質的に
線接触できるようになっている。
部位に嵌合されて、ホルダ１に対する外周マスク３の位
置、および基板２に対する外周マスク３の位置が決めら
れる。本実施態様では、外周マスク３の内周面３ｂに、
先端が比較的鋭利な突条４が設けられている。突条４
は、外周マスク３と一体に形成されているが、別体とし
てもよい。突条４は、外周マスク３の軸方向には直線的
に延びており、ホルダ１の外周面１ａに対し、周方向に
おいては実質的に点接触し、軸方向においては実質的に
線接触できるようになっている。
【００１７】突条４は、外周マスク３の内周面３ｂに３
箇所、周方向において等配（１２０度間隔）されてい
る。この突条４は、４箇所以上設けてもよい。
箇所、周方向において等配（１２０度間隔）されてい
る。この突条４は、４箇所以上設けてもよい。
【００１８】このように構成された実施態様において
は、ホルダ１の外周面１ａに対して、外周マスク３の内
周面３ｂに設けられた突条４の先端部が、周方向におい
て点接触されながら、外周マスク３がホルダ１に装着さ
れるので、従来の面接触の場合に比べ、互いの接触部の
面積が極めて小さく保たれつつ、互いの位置関係が決め
られる。
は、ホルダ１の外周面１ａに対して、外周マスク３の内
周面３ｂに設けられた突条４の先端部が、周方向におい
て点接触されながら、外周マスク３がホルダ１に装着さ
れるので、従来の面接触の場合に比べ、互いの接触部の
面積が極めて小さく保たれつつ、互いの位置関係が決め
られる。
【００１９】したがって、ホルダ１や外周マスク３にた
とえ僅かな変形がある場合にあっても、外周マスク３は
ホルダ１に対しこじれたりすることなく容易に嵌合され
る。
とえ僅かな変形がある場合にあっても、外周マスク３は
ホルダ１に対しこじれたりすることなく容易に嵌合され
る。
【００２０】また、突条４は周方向に少なくとも３箇所
設けられるので、ホルダ１と外周マスク３との相対位置
関係は、実質的に一義的にかつ正確に所定の位置関係に
決められる。また、この位置決めは、単に外周マスク３
をホルダ１に嵌合させるだけで自然に行われる。
設けられるので、ホルダ１と外周マスク３との相対位置
関係は、実質的に一義的にかつ正確に所定の位置関係に
決められる。また、この位置決めは、単に外周マスク３
をホルダ１に嵌合させるだけで自然に行われる。
【００２１】さらに、本実施態様では、各突条４は外周
マスク３の軸方向に延びているので、該軸方向にみれ
ば、各突条４はホルダ１の外周面１ａに対し線接触でき
る状態となっている。したがって、ホルダ１に外周マス
ク３を押し込む際にも、ホルダ１に対して外周マスク３
が傾いたりすることが防止される。また、外周マスク３
は、突条４を介して軸方向に円滑に案内される。その結
果、外周マスク３は、所定位置まで、つまり基板２の外
周端部を所望の状態でマスクできる位置まで、容易にか
つ円滑に、しかも精度よく案内され、目標とするマスキ
ング状態が達成される。
マスク３の軸方向に延びているので、該軸方向にみれ
ば、各突条４はホルダ１の外周面１ａに対し線接触でき
る状態となっている。したがって、ホルダ１に外周マス
ク３を押し込む際にも、ホルダ１に対して外周マスク３
が傾いたりすることが防止される。また、外周マスク３
は、突条４を介して軸方向に円滑に案内される。その結
果、外周マスク３は、所定位置まで、つまり基板２の外
周端部を所望の状態でマスクできる位置まで、容易にか
つ円滑に、しかも精度よく案内され、目標とするマスキ
ング状態が達成される。
【００２２】図３は、本発明の別の実施態様に係る装置
を示している。本実施態様においては、突条５が、外周
マスク６の内周面側ではなく、ホルダ７の外周面７ａ上
に設けられている。このような態様においても、実質的
に、前述の実施態様におけるのと同様の作用、効果が得
られる。
を示している。本実施態様においては、突条５が、外周
マスク６の内周面側ではなく、ホルダ７の外周面７ａ上
に設けられている。このような態様においても、実質的
に、前述の実施態様におけるのと同様の作用、効果が得
られる。
【００２３】なお、本発明においては、光記録媒体自身
の構成は特に限定されるものではないが、その一例につ
いて説明しておく。本発明に係る光記録媒体の形式とし
ては特に限定されないが、たとえば相変化型光記録媒体
を対象とすることができる。相変化型光記録媒体は、通
常透明な基板上に記録層を設けたものであり、記録層構
成に、レーザ光により結晶とアモルファスとの可逆変化
が可能な特定の金属が用いられている。基板上の層構成
としては、たとえば、透明な基板上に、少なくとも第１
保護層／記録層／第２保護層／反射層を有する層構成と
することができる。これらの各層形成後に、硬化性樹脂
等を用いてオーバーコート層を設けることができる。ま
た、各層形成前の基板の反記録面側に、オーバーコート
層と同様の樹脂を用いてハードコート層を設けることが
できる。
の構成は特に限定されるものではないが、その一例につ
いて説明しておく。本発明に係る光記録媒体の形式とし
ては特に限定されないが、たとえば相変化型光記録媒体
を対象とすることができる。相変化型光記録媒体は、通
常透明な基板上に記録層を設けたものであり、記録層構
成に、レーザ光により結晶とアモルファスとの可逆変化
が可能な特定の金属が用いられている。基板上の層構成
としては、たとえば、透明な基板上に、少なくとも第１
保護層／記録層／第２保護層／反射層を有する層構成と
することができる。これらの各層形成後に、硬化性樹脂
等を用いてオーバーコート層を設けることができる。ま
た、各層形成前の基板の反記録面側に、オーバーコート
層と同様の樹脂を用いてハードコート層を設けることが
できる。
【００２４】相変化型光記録媒体の記録層には、たとえ
ば、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ合金、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−
Ｐｄ−Ｎｂ合金、Ｎｂ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｐｔ−
Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｎｉ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、
Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｃｏ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、
Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｉｎ−Ｓｅ合金、およびこれら
を主成分とする合金が用いられる。とくにＴｅ−Ｇｅ−
Ｓｂ−Ｐｄ合金、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ−Ｎｂ合金
が、記録消去再生を繰り返しても劣化が起こり難く、さ
らに熱安定性が優れているので好ましい。
ば、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ合金、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−
Ｐｄ−Ｎｂ合金、Ｎｂ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｐｔ−
Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｎｉ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、
Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｃｏ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、
Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｉｎ−Ｓｅ合金、およびこれら
を主成分とする合金が用いられる。とくにＴｅ−Ｇｅ−
Ｓｂ−Ｐｄ合金、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ−Ｎｂ合金
が、記録消去再生を繰り返しても劣化が起こり難く、さ
らに熱安定性が優れているので好ましい。
【００２５】また、上記組成は次式で表される範囲にあ
ることが熱安定性と繰り返し安定性に優れている点から
好ましい。 Ｍz （Ｓｂx Ｔｅ(1-x) ）1-y-z （Ｇｅ0.5 Ｔｅ0.5 ）y ０．３５≦ｘ≦０．５ ０．２０≦ｙ≦０．５ ０ ≦ｚ≦０．０５ ここでＭはパラジウム、ニオブ、白金、銀、金、コバル
トから選ばれる少なくとも一種の金属を表す。また、
ｘ、ｙ、ｚおよび数字は各元素の原子の数（各元素のモ
ル数）を表す。とくにパラジウム、ニオブについては少
なくとも一種を含むことが好ましい。これら合金を、基
板上に設けられた第１保護層上に、たとえばスパッタリ
ングで膜付けし、記録層が形成される。
ることが熱安定性と繰り返し安定性に優れている点から
好ましい。 Ｍz （Ｓｂx Ｔｅ(1-x) ）1-y-z （Ｇｅ0.5 Ｔｅ0.5 ）y ０．３５≦ｘ≦０．５ ０．２０≦ｙ≦０．５ ０ ≦ｚ≦０．０５ ここでＭはパラジウム、ニオブ、白金、銀、金、コバル
トから選ばれる少なくとも一種の金属を表す。また、
ｘ、ｙ、ｚおよび数字は各元素の原子の数（各元素のモ
ル数）を表す。とくにパラジウム、ニオブについては少
なくとも一種を含むことが好ましい。これら合金を、基
板上に設けられた第１保護層上に、たとえばスパッタリ
ングで膜付けし、記録層が形成される。
【００２６】第１保護層および第２保護層は、記録層を
機械的に保護するとともに、基板や記録層が記録による
熱によって変形したり記録消去再生特性が劣化したりす
るのを防止したり、記録層に耐湿熱性や耐酸化性を持た
せる役割を果たす。このような保護層としてはＺｎＳ、
ＳｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 、ＩＴＯ、ＺｒＣ、ＴｉＣ、Ｍｇ
Ｆ2 などの無機膜やそれらの混合膜が使用できる。とく
にＺｎＳとＳｉＯ2 およびＺｎＳとＭｇＦ2 の混合膜は
耐湿熱性に優れており、さらに記録消去再生時の記録層
の劣化を抑制するので好ましい。
機械的に保護するとともに、基板や記録層が記録による
熱によって変形したり記録消去再生特性が劣化したりす
るのを防止したり、記録層に耐湿熱性や耐酸化性を持た
せる役割を果たす。このような保護層としてはＺｎＳ、
ＳｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 、ＩＴＯ、ＺｒＣ、ＴｉＣ、Ｍｇ
Ｆ2 などの無機膜やそれらの混合膜が使用できる。とく
にＺｎＳとＳｉＯ2 およびＺｎＳとＭｇＦ2 の混合膜は
耐湿熱性に優れており、さらに記録消去再生時の記録層
の劣化を抑制するので好ましい。
【００２７】反射層としては、金属または、金属酸化
物、金属窒化物、金属炭化物などと金属との混合物、例
えばＺｒ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ａｌ、Ａｕ、Ｐ
ｄ、Ｈｆなどの金属やこれらの合金、これらとＺｒ酸化
物、Ｓｉ酸化物、Ｓｉ窒化物、Ａｌ酸化物などを混合し
たものを使用できる。特にＡｌ、Ａｕ、Ｔａやそれらの
合金やＡｌ、Ｈｆ、Ｐｄの合金などは膜の形成が容易で
あり好ましい。
物、金属窒化物、金属炭化物などと金属との混合物、例
えばＺｒ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ａｌ、Ａｕ、Ｐ
ｄ、Ｈｆなどの金属やこれらの合金、これらとＺｒ酸化
物、Ｓｉ酸化物、Ｓｉ窒化物、Ａｌ酸化物などを混合し
たものを使用できる。特にＡｌ、Ａｕ、Ｔａやそれらの
合金やＡｌ、Ｈｆ、Ｐｄの合金などは膜の形成が容易で
あり好ましい。
【００２８】基板上に、第１保護層、記録層、第２保護
層、反射層を形成する方法としては、真空雰囲気中での
薄膜形成方法、たとえばスパッタリング法、真空蒸着
法、イオンプレーティング法などを用いることができ
る。特に組成、膜厚のコントロールが容易なことからス
パッタリング法が好ましい。
層、反射層を形成する方法としては、真空雰囲気中での
薄膜形成方法、たとえばスパッタリング法、真空蒸着
法、イオンプレーティング法などを用いることができ
る。特に組成、膜厚のコントロールが容易なことからス
パッタリング法が好ましい。
【００２９】基板としては、基板側から記録再生を行う
ためにはレーザ光が良好に透過する材料を用いることが
好ましく、たとえばポリメチルメタアクリレート樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、エポキシ
樹脂などの有機高分子樹脂、それらの混合物、共重合体
物などやガラスなどを用いることができる。中でも、昨
今はポリカーボネート樹脂が主流となっている。
ためにはレーザ光が良好に透過する材料を用いることが
好ましく、たとえばポリメチルメタアクリレート樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、エポキシ
樹脂などの有機高分子樹脂、それらの混合物、共重合体
物などやガラスなどを用いることができる。中でも、昨
今はポリカーボネート樹脂が主流となっている。
【００３０】基板は、円盤体に成形されるものである。
成形方法は特に限定しないが、たとえば射出成形による
ことができ、金型内に、表面に所定のグルーブやピット
雄型が形成されたスタンパを装着し、スタンパからの転
写により、表面に所望のトラックが形成された基板を形
成できる。
成形方法は特に限定しないが、たとえば射出成形による
ことができ、金型内に、表面に所定のグルーブやピット
雄型が形成されたスタンパを装着し、スタンパからの転
写により、表面に所望のトラックが形成された基板を形
成できる。
【００３１】基板の大きさは、光記録媒体ドライブ装置
からの要求規格に合わせる必要がある。たとえば、直径
９０ｍｍや１２０ｍｍ、１３０ｍｍの基板に成形するこ
となどが規定される。
からの要求規格に合わせる必要がある。たとえば、直径
９０ｍｍや１２０ｍｍ、１３０ｍｍの基板に成形するこ
となどが規定される。
【００３２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の光記録媒
体の製造装置および製造方法によるときは、外周マスク
の内周面あるいはホルダの外周面に、ホルダの外周面ま
たは外周マスクの内周面に点接触可能な突起や突条を設
けるようにしたので、ホルダに対し外周マスクを容易に
かつ正確に、しかも確実かつ円滑に位置決めできるよう
になり、ホルダや外周マスクの変形に起因する不都合を
除去し、スパッタリング等において、基板に対し所望の
マスキングを精度よく行うことができる。また、本発明
の装置を用いることにより、記録、再生特性の優れた光
記録媒体を安定して、精度良く製造することができる。
体の製造装置および製造方法によるときは、外周マスク
の内周面あるいはホルダの外周面に、ホルダの外周面ま
たは外周マスクの内周面に点接触可能な突起や突条を設
けるようにしたので、ホルダに対し外周マスクを容易に
かつ正確に、しかも確実かつ円滑に位置決めできるよう
になり、ホルダや外周マスクの変形に起因する不都合を
除去し、スパッタリング等において、基板に対し所望の
マスキングを精度よく行うことができる。また、本発明
の装置を用いることにより、記録、再生特性の優れた光
記録媒体を安定して、精度良く製造することができる。
【図１】本発明の一実施態様に係る光記録媒体の製造装
置の概略構成図である。
置の概略構成図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線に沿う概略横断面図であ
る。
る。
【図３】本発明の別の実施態様に係る光記録媒体の製造
装置の概略横断面図である。
装置の概略横断面図である。
【図４】従来の光記録媒体の製造装置の概略構成図であ
る。
る。
１、７ ホルダ １ａ、７ａ ホルダの外周面 ２ 基板 ２ａ 基板の外周端部 ３、６ 外周マスク ３ａ マスク部 ３ｂ 外周マスクの内周面 ４、５ 突条
Claims (5)
- 【請求項１】 光記録媒体の基板を保持する円板状ホル
ダと、該ホルダの外周部に嵌合され、ホルダ上に保持さ
れた基板の外周端部を覆う環状の外周マスクとを有する
光記録媒体の製造装置において、前記外周マスクが、前
記ホルダに対し、周方向において３点以上実質的に点接
触することにより位置決めされていることを特徴とす
る、光記録媒体の製造装置。 - 【請求項２】 前記外周マスクの内周面に、前記点接触
を行う、突起あるいは外周マスクの軸方向に延びる突条
が設けられている、請求項１の光記録媒体の製造装置。 - 【請求項３】 前記ホルダの外周面に、前記点接触を行
う、突起あるいはホルダの軸方向に延びる突条が設けら
れている、請求項１の光記録媒体の製造装置。 - 【請求項４】 前記外周マスクが、基板上にスパッタリ
ングにより膜付けを行う際に用いられるマスクである、
請求項１ないし３のいずれかに記載の光記録媒体の製造
装置。 - 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれかに記載の光
記録媒体の製造装置を用いて光記録媒体を製造すること
を特徴とする、光記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27184695A JPH0991772A (ja) | 1995-09-26 | 1995-09-26 | 光記録媒体の製造装置および製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27184695A JPH0991772A (ja) | 1995-09-26 | 1995-09-26 | 光記録媒体の製造装置および製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0991772A true JPH0991772A (ja) | 1997-04-04 |
Family
ID=17505697
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27184695A Pending JPH0991772A (ja) | 1995-09-26 | 1995-09-26 | 光記録媒体の製造装置および製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0991772A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003046903A1 (fr) * | 2001-11-28 | 2003-06-05 | Tdk Corporation | Procede de fabrication de support d'enregistrement optique de type disque et support d'enregistrement optique |
-
1995
- 1995-09-26 JP JP27184695A patent/JPH0991772A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003046903A1 (fr) * | 2001-11-28 | 2003-06-05 | Tdk Corporation | Procede de fabrication de support d'enregistrement optique de type disque et support d'enregistrement optique |
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