SE432097B - Sintrad kropp av halvledande keramikmaterial, forfarande for tillverkning av kroppen samt en anvendning av kroppen - Google Patents
Sintrad kropp av halvledande keramikmaterial, forfarande for tillverkning av kroppen samt en anvendning av kroppenInfo
- Publication number
- SE432097B SE432097B SE7902124A SE7902124A SE432097B SE 432097 B SE432097 B SE 432097B SE 7902124 A SE7902124 A SE 7902124A SE 7902124 A SE7902124 A SE 7902124A SE 432097 B SE432097 B SE 432097B
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- weight
- strontium titanate
- sintered body
- mixture
- oxide
- Prior art date
Links
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 title claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 17
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 15
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 13
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 8
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 6
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 4
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 3
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 3
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910018404 Al2 O3 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BDAGIHXWWSANSR-NJFSPNSNSA-N hydroxyformaldehyde Chemical compound O[14CH]=O BDAGIHXWWSANSR-NJFSPNSNSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 2
- 229910000018 strontium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims description 2
- IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N strontium oxide Chemical compound [O-2].[Sr+2] IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- NQKXFODBPINZFK-UHFFFAOYSA-N dioxotantalum Chemical compound O=[Ta]=O NQKXFODBPINZFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N bismuth(iii) oxide Chemical compound O=[Bi]O[Bi]=O WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 2
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910016264 Bi2 O3 Inorganic materials 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002367 SrTiO Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002370 SrTiO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- -1 metal oxide compound Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 150000003438 strontium compounds Chemical class 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/46—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates
- C04B35/462—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates
- C04B35/465—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates
- C04B35/47—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates based on strontium titanates
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/018—Dielectrics
- H01G4/06—Solid dielectrics
- H01G4/08—Inorganic dielectrics
- H01G4/12—Ceramic dielectrics
- H01G4/1272—Semiconductive ceramic capacitors
- H01G4/1281—Semiconductive ceramic capacitors with grain boundary layer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Ceramic Capacitors (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
Description
790^212lr2 ' 2 -kännetecknade av att det dopade strontiumtitanatet innehåller 0,1-2 viktprocent kiseldioxid och 0,1-2 viktprocent aluminiumoxid båda räknade på mängden strontium~ titanat. Det har kunnat fastställas att tillväxten av vissa kristallbildningar kraftigt befrämjas under sintringen genom förekomsten av kiseldioxid, vilket med- för att den sintrade produkten innehåller större kristallbildningar i anslutning till mindre kristallbildningar.
Det har visat sig att förekomsten av både kiseldioxid och aluminiumoxid un- der sintringen i ovan angivna mängder, medför en reglerad och homogen tillväxt av kristallbildningarna, vilket resulterar i en mer jämn kornfördelning. Genom förekomsten av Al203 stimuleras korntillväxten till följd av den förekommande ki- seldioxiden mera likformigt. Genom att variera de relativa mängderna av kiseldi- oxid och aluminiumoxid är det möjligt att åstadkomma en önskad, likformig korn- storlek i produkten som helhet. Ett stort dielektricitetskonstantområde (ungefär 5000 till ungefär 50000) kan intäckas med keramikmaterialet enligt uppfinningen.
De isolerande skikten vid korngränserna âstadkommes på vanligt sätt genom indif- fusion av metalloxider, t.ex. vismutoxid eller vismutoxid innehållande metalloxid- blandningar. Isolerande vitrösa skikt bildas vid korngränserna, vilka skikt helt el- ler delvis glaskristalliseras genom den samtidiga förekomsten av titanoxid, kiseloxid och eventuellt aluminiumoxid förutom de ovan nämnda metalloxiderna som indiffunderats i korngränserna. Den minskade temperaturkänsligheten hos materialet enligt uppfin- ningen synes kunna tillskrivas detta faktum. Vid användning av mängder av kiseldioxid och aluminiumoxid som är mindre än 0,1 viktsprocent kan nämnda inverkan på korntill- växten och den lägre temperaturkänsligheten visa sig bli otillräcklig för tekniska ändamål. Vid användning av mängder som.är större än 2 viktsprocent kan ingen ytterli- gare inverkan på nämnda parametrar konstateras. 7 Vid framtagning av det halvledande keramikmaterialet enligt uppfinningen kan .företrädesvis utgâs ifrån sådana mängder av strontiumförening (oxid, karbonat), ti- tanoxid och oxider av niobium eller tantal, att i gramatomer av slutprodukten räknat förhållandet mellan Ti + dopningsämne (Nb eller Ta) och Sr ligger mellan 0,98 och 1,04. Blandningen av utgångsmaterialen, som består av exempelvis strontiumkarbonat, titandioxid, niobiumbentoxid (Nb205), kiseldioxid och aluminiumoxid får undergå försintring under 2-20 timmar vid en temperatur som ligger mellan 1000 och 1200°C, och därvid exempelvis i luft. Därefter pulversiseras materialet och blandas med ett organiskt bindemedel, vilket försvinner fullständigt under sintringsförloppet, t.ex. polyvinylalkohol. Den sålunda âstadkomna blandningen formas, t.ex. genom pressning eller sprutning till kroppar och därefter sintras de âstadkomna kropparna vid en tem- peratur som ligger mellan 1350 och l500°C i en reducerande atmosfär. Därefter be- lägges kropparna med en metalloxid eller blandning av metalloxider som bildar ett 7902124-2 isolerande skikt vid indiffusion i korngränserna. Lämpliga metalloxider är exempelvis Cu0, Mn02, Bi203. Emellertid utnyttjas företrädesvis en blandning av blyoxid, vismutoxid och boroxid, vilken blandning exempelvis innehåller 50 viktsprocent bly- oxid, 45 viktsprocent vismutoxid och 5 viktsprocent boroxid.
Bildandet av de isolerande skikten sker genom uppvärmning av metalloxidbelagda kroppar av halvledande keramikmaterial till en temperatur av 1000 - 1300° i en oxi- derande atmosfär, under vilket förlopp det halvledande keramikmaterialet absorberar metalloxiden.
Därefter anbringas metallskikt, t.ex. koppar eller silver, vilka fungerar som elektrod, på två motstående ytor.
Uppfinningen kommer att beskrivas nännare nedan i anslutning till nâgra utfö- ringsexempel.
Utföringsexempel 1.
Tillverkning av en sintrad kropp av halvledarande keramikmaterial med <'èff lika med 6000. Keramikmaterialet förberedes enligt följande: 183.5 g SrTi03 2.0 g Nb205 0.8 g Si02$: 0,4 viktsprocent} beräknat i förhållande till mängden 1,1 g Al203::0,6 viktsprocent bildat strontium-titanat-niobat. Ämnena blandades noggrant och försintrades därefter under 15 timmar vid tempera- turen 1150°C i luft. Den åstadkomna produkten pulveriserades och pressades, efter uppblandning med polyvinylalkohol, till plattor med diametern 6 mm och tjockleken 0,6 mm. Plattorna sintrades vid 1450°C under 4 timmar i en reducerande atmosfär bestående av en blandning av 80 volymprocent kväve och 20 volymprocent väte, som fick passera genom vatten med temperaturen 25°C. Förhållandet (Ti+Nb)/Sr i gramatomer räknat var 1.015. Halvledande plattor med diametern 5,0 nm och tjockleken 0,5 mm tillverkades. Plattorna belades på ena sidan med ett 10 mg av en metalloxidblandning (sammansättning: 50 viktsprocent Pb0 + 45 viktsprocent Bi203 + 5 viktsprocent B20) och uppvärmdes under en halvtimme i luft till temperaturen l100°C efter vil- ken tid metalloxidblandningen indiffunderats i plattorna. Därefter anbringades kop- parelektroder på båda sidor av plattorna genom förångningsdeposition i vakuum. De âstadkomna plattorna uppvisade följande väl producerbara egenskaper: c/czo =_»¿ 1% menar. ~2s och + ss°c 5 e” = sooo (1 kHz) Tg §= 0,4% (1 kHz) ß-sov = 101m. m. 790212li-2 q 4 Mest utmärkande är att kapacitansen uppvisar ett synnerligen lågt temperaturbe- roende, vilket innebär att materialet är särskilt lämpligt för användning i kondensa~ torer som kräver låg temperaturkänslighet.
Utföringsexempel II.
Tillverkning av en sintrad kropp av ett halvledande keramikmaterial (¿feff lika med 5000-15000). Det keramiska materialet förberedes enligt följande: Av en blandning innehållande 147,6 g SrC03 79.5 g Ti02 2,0 g Nb205 samt varierande mängder av Si0¿ och Al203 tillverkades plattor på samma sätt som beskrivits i utföringsexemplet I med undantag för att försintringen, till skill- nad från det tidigare beskrivna förfarandet, utfördes under 4 timmar vid temperaturen 1100°C i luft. Uttryckt i gramatomer var förhållandet (Ti + Nb)/Sr lika med 1.01.
Plattorna försågs med silverelektroder. Av nedan följande tabell framgår de elektris- ka egenskaperna för de tillverkade spärrskiktkondensatorerna (mängderna Si02 och Al203 är beräknade på mängden strontium-titanat-niobat som bildas under sint- ringen).
Tabell. 5l°2 i ^12°3 ”C20 feff '195 fsov viktz vfktz -25 tm +s5°c vid 1| z z 0,5 1,5 i 1 5000 0,4 44011 1,0 1,0 3 0,5 5000 0,5 4.10” 0,5 1,0 3 2 9000 0,6 44011 0,5 0,5 + 1 15000 0,7 64010 0,2 0 + 2 10000 0,5 1.10 s 79Ü212í+~2 Det låga temperaturberoendet hos kapacitansen framgår klart även av de i tabellen redovisade materialen.
Utföringsexempgl III.
Tillverkning av en sintrad kropp av halvledande keramikmaterial (efëff = 8000). Keramikmaterialet förbereddes enligt följande: 183.5 g SrTi03 0-3 9 5lÛ2?=0,4 V1Kt%:) beräknat på mängden bildat strontium 1,1 g Al203Q:0,6 vikt% -titanat-tantalat. 3.3 g Ta2O5 ' Dessa ämnen blandades omsorgsfullt och försintrades sedan under 15 timmar vid tempe- raturen 1150°C i luft. Den åstadkomna produkten maldes därefter. Det erhållna pulv- ret blandades med polyvinylalkohol och formpressades till plattor'med diametern 6 mm och tjockleken 0,6 mm. Plattorna sintrades under 4 timmar vid temperaturen 1450°C i en reducerande atmosfär enligt utföringsexemplet I. I gramatomer räknat var förhål- landet (Ti + Ta)/Sr lika med 1,015. Halvledande plattor med diametern 5 mm och tjock- leken 0,5 mn tillverkades. Plattorna belades på ena sidan med 10 mg av en metalloxid- förening av samma slag som i utföringsexemplet I och uppvärmdes under en halv timme i luft till temperaturen 1100°C. Därefter anbringades elektroder på plattans båda sidor såsom beskrivits i utföringsexemplet I. Följande elektriska egenskaper kunde uppmätas: áeff = sooo (1 kHz) A c/czo =<¿ 1% mellan -2s°c och + ss°c tg<§= 0,41, (1 kHz) 350V = s.1o1°.n cm.
De sintrade kropparna kan ges varje önskad fonu, t.ex. skivfonm, cylinderfonn eller rörform.
Claims (6)
1. 79Û212ë-2 i 6 Patentkrav l. Sintrad kropp av halvledande keramikmaterial uppbyggd på grundval av I niobium- eller tantaldopat strontiumtitanat, varvid kroppen uppvisar ett elek- triskt isolerande skikt vid korngränserna, k ä n n e t e c k n a d av att det dopade strontiumtitanatet innehåller 0,1-2 viktsprocent kiseldioxid och 0,1-2 viktsprocent aluminiumoxid båda beräknade på mängden dopat strontiumtitanat.
2. Sintrad kropp av halvledande keramikmaterial enligt patentkravet l, k ä n n e t e c k n a d av att i det dopade strontiumtítanatet räknat, i gram- atomer, förhållandet (titan + dopningsmetall Nb eller Ta) /strontium ligger mel- lan 0,98 och 1,04.
3. Förfarande för tillverkning av en sintrad kropp enligt patentkravet 1, k ä n n e t e c k n a t av att en blandning av strontiumoxid eller en strontium- oxid-bildande förening, t ex strontiumkarbonat, titandioxid, niobium- eller tan- taldioxid, kiseldioxid och aluminiumoxid eller en blandning av strontiumtitanat, nobiumpentoxid eller tantalpentoxid samt kiseldioxid och aluminiumoxid sintras i önskad form i en reducerande atmosfär vid en temperatur som ligger mellan l350°C och l500°C och att därefter en metalloxid eller blandning av metalloxider, som bildar ett isolerande skikt vid korngränserna, indiffunderas vid en tempera- tur som ligger mellan 1000 och l300°C. lå.
4. Förfarande enligt patentkravet 3, k ä n n e t e c k n a t av att utgångs- blandningen innehåller 0,1-2 viktsprocent kiseldioxid räknat på mängden av dopat strontiumtitanat som bildas,
5. Förfarande enligt patentkravet 3, k ä n n e t e c k n a t av att utgångs- blandningen innehåller 0,1-2 viktsprocent aluminiumoxid beräknat på mängden do- pat strontiumtitanat som bildas,
6. Användning av en sintrad kropp enligt patentkravet l i en spärrskiktskon- densator, varvid kroppen är försedd med elektroder på mostående sidoytor. 7902124-2 Sammandrag. Sintrad kropp av ha1v1edande strontiumtitanat, som dopats med niobium- e11er tantaïoxid och innehålïer me11an 0,1 och 2 viktsprocent Sí02 och i förekommande fa11 0,1 ti11 2 viktsprocent A1203. Efter indiffusion av en metaïïoxidbïandning som biïdar ett isoïerande skikt vid korngränserna, och appïícering av e1ektroder er~ håï ïes en spärr-ski ktskondensator.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL7802690A NL7802690A (nl) | 1978-03-13 | 1978-03-13 | Sinterlichaam uit halfgeleidend keramisch ma- teriaal op basis van met nioob of tantaal ge- doteerd strontium-titanaat, met elektrisch isolerende lagen op de korrelgrenzen. |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SE7902124L SE7902124L (sv) | 1979-09-14 |
SE432097B true SE432097B (sv) | 1984-03-19 |
Family
ID=19830480
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SE7902124A SE432097B (sv) | 1978-03-13 | 1979-03-09 | Sintrad kropp av halvledande keramikmaterial, forfarande for tillverkning av kroppen samt en anvendning av kroppen |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JPS54129398A (sv) |
DE (1) | DE2909098C3 (sv) |
FR (1) | FR2419923B1 (sv) |
GB (1) | GB2015977B (sv) |
NL (1) | NL7802690A (sv) |
SE (1) | SE432097B (sv) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5651820A (en) * | 1979-10-04 | 1981-05-09 | Murata Manufacturing Co | Grain boundary insulating type semiconductor porcelain composition |
US4309295A (en) * | 1980-02-08 | 1982-01-05 | U.S. Philips Corporation | Grain boundary barrier layer ceramic dielectrics and the method of manufacturing capacitors therefrom |
JPS56144522A (en) * | 1980-04-11 | 1981-11-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Grain boundary dielectric layer type semiconductor porcelain composition |
JPS56162820A (en) * | 1980-05-20 | 1981-12-15 | Kiyoshi Okazaki | Vapor bank layered laminated ceramic capacitor and method of manufacturing same |
US4347167A (en) * | 1980-10-01 | 1982-08-31 | University Of Illinois Foundation | Fine-grain semiconducting ceramic compositions |
US4367265A (en) * | 1981-04-06 | 1983-01-04 | North American Philips Corporation | Intergranular insulation type semiconductive ceramic and method of producing same |
DE3274734D1 (en) * | 1981-10-01 | 1987-01-29 | Taiyo Yuden Kk | Dielectric ceramic materials with insulated boundaries between crystal grains, and process for preparation |
JPS5891602A (ja) * | 1981-11-26 | 1983-05-31 | 太陽誘電株式会社 | 電圧非直線磁器組成物 |
JPS5935402A (ja) * | 1982-08-24 | 1984-02-27 | 太陽誘電株式会社 | 電圧依存非直線抵抗特性を有する半導体磁器物質 |
DE3723051A1 (de) * | 1987-07-11 | 1989-01-19 | Kernforschungsz Karlsruhe | Halbleiter fuer einen resistiven gassensor mit hoher ansprechgeschwindigkeit |
DE4225920A1 (de) * | 1992-08-05 | 1994-02-10 | Roederstein Kondensatoren | Kondensator, insbesondere Elektrolytkondensator |
JP2000161354A (ja) | 1998-11-25 | 2000-06-13 | Nsk Ltd | リニアガイド装置 |
CN111908914B (zh) * | 2020-07-16 | 2021-06-18 | 广州天极电子科技股份有限公司 | 一种晶界层陶瓷材料、晶界层陶瓷基片的制备方法及其应用 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3933668A (en) * | 1973-07-16 | 1976-01-20 | Sony Corporation | Intergranular insulation type polycrystalline ceramic semiconductive composition |
JPS5210597U (sv) * | 1975-07-08 | 1977-01-25 | ||
JPS5210596A (en) * | 1975-07-16 | 1977-01-26 | Sony Corp | Insulated grain boundary type piezo-electric substance of polycrystall ine ceramic semiconductor |
JPS5210597A (en) * | 1975-07-16 | 1977-01-26 | Sony Corp | Insulated grain boundary type piezo-electric substance of polycrystall ine ceramic semiconductor |
JPS6029211B2 (ja) * | 1975-09-10 | 1985-07-09 | 松下電器産業株式会社 | 半導体磁器コンデンサの製造方法 |
-
1978
- 1978-03-13 NL NL7802690A patent/NL7802690A/xx not_active Application Discontinuation
-
1979
- 1979-03-08 DE DE19792909098 patent/DE2909098C3/de not_active Expired
- 1979-03-09 GB GB7908350A patent/GB2015977B/en not_active Expired
- 1979-03-09 SE SE7902124A patent/SE432097B/sv not_active IP Right Cessation
- 1979-03-10 JP JP2817379A patent/JPS54129398A/ja active Pending
- 1979-03-12 FR FR7906283A patent/FR2419923B1/fr not_active Expired
-
1986
- 1986-07-21 JP JP61171472A patent/JPS6211215A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2909098B2 (de) | 1980-06-12 |
SE7902124L (sv) | 1979-09-14 |
DE2909098C3 (de) | 1981-02-19 |
DE2909098A1 (de) | 1979-09-20 |
FR2419923B1 (fr) | 1986-05-09 |
NL7802690A (nl) | 1979-09-17 |
FR2419923A1 (fr) | 1979-10-12 |
GB2015977B (en) | 1982-06-23 |
JPS6211215A (ja) | 1987-01-20 |
GB2015977A (en) | 1979-09-19 |
JPS54129398A (en) | 1979-10-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4027209A (en) | Ceramic capacitor having a silver doped dielectric of (Pb,La)(Zr,Ti)O3 | |
JPS637012B2 (sv) | ||
JPS6257245B2 (sv) | ||
SE432097B (sv) | Sintrad kropp av halvledande keramikmaterial, forfarande for tillverkning av kroppen samt en anvendning av kroppen | |
JPH0524646B2 (sv) | ||
JPS6249977B2 (sv) | ||
JPS623569B2 (sv) | ||
JP2934387B2 (ja) | 半導体磁器の製造方法 | |
JPS6257241B2 (sv) | ||
JPH0570242B2 (sv) | ||
JPS606535B2 (ja) | 磁器組成物 | |
JP2821768B2 (ja) | 積層セラミックコンデンサ | |
JPS6032344B2 (ja) | 粒界絶縁型半導体磁器コンデンサ材料 | |
JPS5828726B2 (ja) | 半導体コンデンサ用磁器 | |
JPS6128209B2 (sv) | ||
JPS6128208B2 (sv) | ||
JP2934388B2 (ja) | 半導体磁器の製造方法 | |
JP2984115B2 (ja) | 粒界絶縁型半導体磁器コンデンサの製造方法 | |
JP2679065B2 (ja) | 半導体磁器物質 | |
JP2605314B2 (ja) | 半導体磁器物質 | |
JP2900687B2 (ja) | 半導体磁器組成物及びその製造方法 | |
JPS5823729B2 (ja) | 半導体コンデンサ用磁器 | |
JPS5823922B2 (ja) | 半導体コンデンサ用磁器 | |
JP2788925B2 (ja) | 圧電性磁器組成物 | |
JPH03285870A (ja) | 粒界絶縁型半導体磁器組成物及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
NUG | Patent has lapsed |
Ref document number: 7902124-2 Effective date: 19900125 Format of ref document f/p: F |