SA519402309B1 - أوتوكلاف وطريقة لإزالة الملح من أوتوكلاف - Google Patents

أوتوكلاف وطريقة لإزالة الملح من أوتوكلاف Download PDF

Info

Publication number
SA519402309B1
SA519402309B1 SA519402309A SA519402309A SA519402309B1 SA 519402309 B1 SA519402309 B1 SA 519402309B1 SA 519402309 A SA519402309 A SA 519402309A SA 519402309 A SA519402309 A SA 519402309A SA 519402309 B1 SA519402309 B1 SA 519402309B1
Authority
SA
Saudi Arabia
Prior art keywords
autoclave
solution
acid
wall
vertical
Prior art date
Application number
SA519402309A
Other languages
English (en)
Inventor
جى جونج لى
Original Assignee
كوريا زينك كو. ليمتد
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by كوريا زينك كو. ليمتد filed Critical كوريا زينك كو. ليمتد
Publication of SA519402309B1 publication Critical patent/SA519402309B1/ar

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J3/00Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
    • B01J3/02Feed or outlet devices therefor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22BPRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B3/00Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
    • C22B3/02Apparatus therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/0053Details of the reactor
    • B01J19/0066Stirrers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/02Apparatus characterised by being constructed of material selected for its chemically-resistant properties
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/18Stationary reactors having moving elements inside
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J3/00Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
    • B01J3/04Pressure vessels, e.g. autoclaves
    • B01J3/048Multiwall, strip or filament wound vessels
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22BPRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B19/00Obtaining zinc or zinc oxide
    • C22B19/20Obtaining zinc otherwise than by distilling
    • C22B19/22Obtaining zinc otherwise than by distilling with leaching with acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22BPRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B3/00Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
    • C22B3/04Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes by leaching
    • C22B3/06Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes by leaching in inorganic acid solutions, e.g. with acids generated in situ; in inorganic salt solutions other than ammonium salt solutions
    • C22B3/08Sulfuric acid, other sulfurated acids or salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22BPRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B3/00Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
    • C22B3/20Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2203/00Processes utilising sub- or super atmospheric pressure
    • B01J2203/06High pressure synthesis
    • B01J2203/0605Composition of the material to be processed
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/00761Details of the reactor
    • B01J2219/00763Baffles
    • B01J2219/00765Baffles attached to the reactor wall
    • B01J2219/00768Baffles attached to the reactor wall vertical
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/00761Details of the reactor
    • B01J2219/00763Baffles
    • B01J2219/00779Baffles attached to the stirring means
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/02Apparatus characterised by their chemically-resistant properties
    • B01J2219/0204Apparatus characterised by their chemically-resistant properties comprising coatings on the surfaces in direct contact with the reactive components
    • B01J2219/0218Apparatus characterised by their chemically-resistant properties comprising coatings on the surfaces in direct contact with the reactive components of ceramic
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/02Apparatus characterised by their chemically-resistant properties
    • B01J2219/0204Apparatus characterised by their chemically-resistant properties comprising coatings on the surfaces in direct contact with the reactive components
    • B01J2219/0236Metal based
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/18Details relating to the spatial orientation of the reactor
    • B01J2219/185Details relating to the spatial orientation of the reactor vertical
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J3/00Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
    • B01J3/04Pressure vessels, e.g. autoclaves

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Geology (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
  • Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Accessories For Mixers (AREA)
  • Mixers Of The Rotary Stirring Type (AREA)
  • Processing Of Solid Wastes (AREA)

Abstract

يتعلق الاختراع الحالي بأوتوكلاف autoclave عمودي وفقا لأحد نماذج الكشف الحالي وهو عبارة عن أوتوكلاف عمودي شاملا فتحة مدخل يتم خلالها إدخال محلول عملية process solution، فتحة مخرج التي يتم خلالها تفريغ محلول العملية، فتحة مدخل أوكسيجين oxygen يتم خلالها توفير الأوكسيجين إلى محلول العملية، قلاب مهيأ مهيأة لخلط محلول العملية، جدار داخلي، طبقة من الطوب المقاومة للحمض acid-resistant مبطنة على جزء سفلي وجزء جانبي من الجدار الداخلي، وطبقة معدنية metal layer مقاومة للحمض مبطنة على جزء علوي من الجدار الداخلي. تتضمن طريقة إزالة الملح من أوتوكلاف رفع مستوى سطحي لمحلول في الأوتوكلاف من مستوى أول إلى مستوى ثاني بحيث يتم غمر الملح في الأوتوكلاف في المحلول، والحفاظ على المستوى السطحي للمحلول عند المستوى الثاني. تتم إذابة الملح في المحلول مع الحفاظ على المستوى السطحي للمحلول عند المستوى الثاني. شكل1أ

Description

أوتوكلاف وطربقة لإزالة الملح من أوتوكلاف ‎AUTOCLAVE AND METHOD FOR REMOVING SALT FROM AUTOCLAVE‏ الوصف الكامل خلفية الاختراع يتعلق الكشف الحالي بأوتوكلاف ‎autoclave‏ وطريقة لإزالة الملح من الأوتوكلاف؛ وبشكل أكثر تحديدا» بأوتوكلاف عمودي وطريقة لإزالة الملح من الأوتوكلاف العمودي. لتنفيذ التفاعل تحت ظروف عالية الحرارة وعالية الضغط؛ ستكون هناك حاجة إلى جهاز أوتوكلاف والذي هو ‎le‏ عن مفاعل عالي الضغط. بشكل تقليدي؛ تم استخدام أجهزة أوتوكلاف عمودية قادرة على زيادة السعة بواسطة زيادة طولها مع الحفاظ على أو حتى تقليل قطرها بشكل واسع لتصنيع جهاز أوتوكلاف عالي السعة. تم الكشف عن أجهزة الأوتوكلاف العمودية التقليدية في منشور براءة الاختراع الدولية رقم 021524/2015 منشور براءة الاختراع الأمريكية المفتوحة رقم 5 براءة الاختراع الأمريكية رقم 9:732400؛ وما شابه.
0 هناك سمة مشتركة بين ‎Beal‏ الأوتوكلاف العمودية هذه هي أنه يتم تقسيم ‎gal‏ الداخلي لأي أوتوكلاف إلى العديد من الحجيرات الصغيرة؛ ويتم توفير كل من الحجيرات مع أداة تقليب منفصلة؛ وبالتالي يتم دمج العديد من أجهزة أوتوكلاف في وحدة فردية. يمكن أن يكون الأوتوكلاف العمودي هذا مفيدا في أنه من السهل تصنيع الأوتوكلاف العمودي حيث أنه من الممكن زيادة سعة الجهاز بواسطة زيادة عدد الحجيرات حتى إذا كان قطره ‎cha‏ ومن الممكن تشغيل جهاز كبير السعة
5 باستخدام أدوات تقليب صغيرة الحجم. مع ذلك»؛ في حالة ‎Beal‏ أوتوكلاف عمودية؛ من الضروري تنصيب مجموعة من أدوات تقليب في جهاز وتنصيب جهاز لإدخال أوكسيجين ‎oxygen‏ أو ما شابه بشكل منفصل لكل حجيرة؛ بحيث يمكن أن يزيد عدد الفوهات الضرورية أو ما شابه ويمكن تقليل معدل تشغيل الجهاز بسبب فشل الجهاز المتكرر.
0 أيضاء في حالة ‎Beal‏ أوتوكلاف عمودية؛ يجب توصيل محلول العملية؛ الذي تم تفاعله في كل حجيرة؛ عبر ‎all‏ العلوي من جدار إعاقة تم تنصيبه بين الحجيرات المتجاورة ليتم تحريكه إلى الحجيرة التالية. مع ذلك؛ بسبب كشف الجزء العلوي من جدار الإعاقة إلى جزءِ غاز ساخن؛ مقدار كبير من الملح بسبب أن ظاهرة تبخير محلول العملية ‎process solution‏ يمكن أن تتم في الجزء
العلوي من جدار ‎BY)‏
علاوة على ذلك؛ بسبب خواص الأوتوكلاف العمودي؛ سطح تلامس بيني بين محلول العملية وطبقة
الغاز ‎gas layer‏ في الجزهٍ العلوي واسعة. بسبب الحفاظ على طبقة الغاز عند درجة حرارة عالية؛
يتم ترسيب مقدار كبير من الملح بواسطة ظاهرة تبخير محلول العملية على سطح محلول العملية وجزء الجدار. عند تنامي الملح المرسب في صورة كتل؛ يمكن أن تتسبب في فشل جهاز. بالتالي؛
قد يكون من الضروري إيقاف تشغيل الجهاز دوريا وتنفيذ الصيانة لإزالة الملح المرسب. بالتالي؛
تتضمن أجهزة الأوتوكلاف العمودية خلل في أنه يتم تقليل فعالية تشغيل الجهاز بشكل ملحوظ.
علاوة على ذلك؛ لأن أجهزة الأوتوكلاف العمودية تتضمن بنية داخلية والتي يتم تجزيئها بواسطة
جدران تقسيم ويتم تكوين أركان زاوية في الحجيرات المناظرة؛ لا يتم تقليب محلول العملية جيدا.
0 الوصف للاختراع أحد جوانب الكشف الحالي هو توفير أوتوكلاف عمودي للاستخدام في عملية زنك ‎zinc process‏ وما شابه؛ قابلة للتصنيع بحيث يكون لها قدرة كبيرة؛ تكلفة تصنيع منخفضة»؛ ومقاومة تأكل ‎abrasion‏ ‎resistance‏ عالية ضد الملاط. هناك جانب آخر للكشف الحالي يتمثل في توفير أوتوكلاف عمودي للاستخدام في عملية زنك وما
5 شابه؛ قابلة للتصنيع بحيث يكون لها قدرة كبيرة وقادرة على التغلب على المشاكل؛ مثل تشقق وسقوط الطوب المقاوم للحمض ‎acid-resistant‏ والذي تم تجميعه فيها. هناك جانب آخر للكشف الحالي يتمثل في توفير أوتوكلاف عمودي للاستخدام في عملية زنك وما شابه؛ قابلة للتصنيع إلى سعة كبيرة؛ قادرة على تسهيل تصنيع عمود تدوير أداة تقليب»؛ وقادرة على قمع حدوث ثني عمود تدوير أداة تقليب أو ما شابه.
0 أوتوكلاف عمودي وفقا لأحد نماذج الكشف ‎Jad)‏ عبارة عن أوتوكلاف عمودي شاملا فتحة مدخل يتم خلالها إدخال محلول عملية؛ فتحة مخرج يتم خلالها إدخال محلول العملية؛ فتحة مدخل أوكسيجين يتم خلاله توفير الأوكسيجين إلى محلول العملية؛ أداة تقليب مهيأة لخلط محلول العملية؛ جدار داخلي؛ طبقة من الطوب المقاومة للحمض مبطنة على ‎sia‏ سفلي ‎ag‏ جانبي من الجدار الداخلي؛ وطبقة معدنية ‎metal layer‏ مقاومة للحمض مبطنة على جزءٍ علوي من الجدار الداخلي.
‎Sar 5‏ أن يتضمن الأوتوكلاف العمودي قطر ‎als‏ 5.5 م أو أكثر. يمكن أن يتضمن الأوتوكلاف العمودي حجم داخلي 150 م أو أكثر.
يمكن أن يبلغ حجم محلول العملية 100 م3 أو أكثر عند تشغيل الأوتوكلاف العمودي. ‎(Sa‏ أن يتضمن الأوتوكلاف حلقة غطائية ‎lly‏ تغطي ‎ein‏ علوي من طبقة الطوب المقاومة للحمض على ‎gal)‏ الجانبي من الجدار الداخلي. يمكن أن يتضمن الأوتوكلاف طبقة غشائية ‎membrane layer‏ مقدمة بين الجدار الداخلي وطبقة الطوب المقاومة للحمض؛ ويمكن توفير الطبقة الغشائية لتمتد بين الجزء العلوي من طبقة الطوب المقاومة للحمض والحلقة الغطائية. يمكن أن يتضمن الأوتوكلاف مجموعة من الأضلاع التي توصل الحلقة الغطائية والطبقة المعدنية المقاومة للحمض. يمكن تكوين الحلقة الغطائية ومجموعة الأضلاع من نفس المادة كطبقة معدنية مقاومة للحمض. 0 يمكن تكوين الفراغات بين مجموعة الأضلاع؛ الحلقة الغطائية؛ والطبقة المعدنية المقاومة للحمض. يمكن وضع فتحة المدخل في الجزء العلوي من الجدار الداخلي؛ ويمكن وضع فتحة المخرج في الجزء الجانبي من الجدار الداخلي. يمكن أن تمتد فتحة المدخل إلى داخل الأوتوكلاف العمودي؛ وعند تشغيل الأوتوكلاف العمودي؛ يمكن غمر أحد أطراف فتحة المدخل في محلول العملية. 5 وضع فتحة المدخل وفتحة المخرج في ‎gall‏ الجانبي من الجدار الداخلي؛ ويمكن وضع فتحة المدخل عند موضع أعلى من فتحة المخرج. يمكن وضع فتحة مدخل الأوكسيجين في ‎gall‏ السفلي للجدار الداخلي؛ ‎(Sarg‏ أن يتضمن الأوتوكلاف العمودي أيضا خط إدخال الأوكسيجين متصل بفتحة مدخل الأوكسيجين؛ ومسار ماء تبريد موضوع ليحيط بفتحة مدخل الأوكسيجين. يمكن أن يتضمن الأوتوكلاف العمودي ‎Lad‏ خط بخار ‎Je‏ الضغط متصلة بخط ‎Jay‏ ‏الأوكسيجين ‎٠‏ يتم توفير البخار خلال خط البخار ‎le‏ الضغط ‎high-pressure steam‏ إلى فتحة مدخل الأوكسيجين. عند تشغيل الأوتوكلاف العمودي؛ يمكن تعديل مستوى ماء محلول العملية في الأوتوكلاف العمودي لتكون أقل من جزءٍ علوي من طبقة الطوب المقاومة للحمض المتوفرة على ‎gall‏ الجانبي من الجدار 5 الداخلي. يمكن تبطين الطبقة المعدنية المقاومة للحمض لتمتد إلى طرف علوي من ‎gall‏ الجانبي من الجدار
الداخلي. عند الطرف العلوي للجزءِ الجانبي من الجدار الداخلي؛ يمكن أن تمتد الطبقة المعدنية المقاومة للحمض بين الجدار الداخلي وطبقة الطوب المقاومة للحمض. يتضمن جهاز أوتوكلاف وفقا لأحد نماذج الكشف الحالي أوتوكلاف أول وأوتوكلاف ثاني؛ متصلين بالتسلسل. كل من الأوتوكلاف الأول والأوتوكلاف الثاني عبارة عن أوتوكلاف عمودي شاملا فتحة مدخل يتم خلالها إدخال محلول عملية؛ فتحة مخرج والتي يتم خلالها تفريغ محلول العملية؛ فتحة مدخل أوكسيجين يتم خلاله توفير الأوكسيجين إلى محلول العملية؛ أداة تقليب مهيأة لخلط محلول العملية؛ وجدار داخلي؛ طبقة من الطوب المقاومة للحمض مبطنة على جزء سفلي وجزء جانبي من الجدار الداخلي؛ وطبقة معدنية مقاومة للحمض مبطنة على جزء علوي. 0 يمكن أن يتضمن جهاز الأوتوكلاف أيضا أنبوب توصيل الذي يوصل الأوتوكلاف الأول والأوتوكلاف ‎J‏ يمكن أن يتناظر جانب التيار العلوي لأنبوب التوصيل مع فتحة مخرج الأوتوكلاف الأول؛ ويمكن أن يتناظر جانب التيار السفلي لأنبوب التوصيل مع فتحة مدخل الأوتوكلاف الثاني. عند تشغيل الأوتوكلاف الأول والأوتوكلاف الثاني يمكن غمر فتحة مخرج الأوتوكلاف الأول في محلول في الأوتوكلاف الأول؛ ويمكن غمر فتحة مدخل الأوتوكلاف الثاني في محلول في الأوتوكلاف 5 الثاني. يمكن تثبيت الأوتوكلاف الأول عند موضع أعلى من الأوتوكلاف الثاني. يمكن أن يتضمن جهاز الأوتوكلاف أيضا وعاء ومضي واحد على الأقل متصل بفتحة مخرج الأوتوكلاف الثاني. تتضمن طريقة إزالة الملح من أوتوكلاف وفقا لأحد نماذج الكشف الحالي رفع مستوى سطحي لمحلول 0 في الأوتوكلاف من مستوى أول إلى مستوى ثاني بحيث يتم غمر الملح من الأوتوكلاف في المحلول؛ والحفاظ على المستوى السطحي للمحلول عند المستوى ‎SE‏ تتم إذابة الملح في المحلول مع الحفاظ على المستوى السطحي للمحلول عند المستوى الثاني. يمكن أن يكون الملح قابل للحل في الماء. يتم تنفيذ الحفاظ على المستوى السطحي للمحلول عند المستوى الثاني لمدة ساعة إلى ست ساعات. 5 يمكن أن تتضمن الطريقة ‎Lad‏ خفض المستوى السطحي للمحلول من المستوى الثاني إلى المستوى الأول مرة أخرى .
الأوتوكلاف عبارة عن أوتوكلاف عمودي شاملا فتحة مدخل يتم خلالها إدخال محلول عملية؛ فتحة مخرج والتي يتم خلالها تفريغ محلول العملية؛ فتحة مدخل أوكسيجين يتم خلاله توفير الأوكسيجين إلى محلول العملية؛ أداة تقليب مهيأة لخلط محلول العملية؛ جدار داخلي؛ طبقة من الطوب المقاومة للحمض مبطنة على ‎gia‏ سفلي وجزءٍ جانبي من الجدار الداخلي؛ وطبقة معدنية مقاومة للحمض مبطنة على ‎oa‏ علوي.
يمكن أن يكون المستوى الثاني أقل من المستوى السطحي الأعلى لطبقة الطوب المقاومة للحمض. يمكن أن يتضمن الأوتوكلاف حلقة غطائية تغطي الجزءِ العلوي من طبقة الطوب المقاومة للحمض على الجزء الجانبي من الجدار الداخلي.
يمكن أن يكون المستوى الثاني أقل من المستوى السطحي الأدنى للحلقة الغطائية.
0 بتبطين الجزءِ السفلي ‎galls‏ الجانبي من الجدار الداخلي للأوتوكلاف؛ المتلامس مع محلول العملية؛ مع الطوب المقاوم للحمض؛ من الممكن خفض تكلفة التصنيع لجهاز الأوتوكلاف وزيادة مقاومة التآكل ضد الملاط الموجود في محلول العملية. أيضاء بواسطة تبطين الجزءِ المقبب العلوي؛ الذي يصعب أن يتحاذى مع الطوب المقاوم للحمض بين الجدار الداخلي للأوتوكلاف وحيث يمكن توليد الشقوق بسهولة في الطوب المجمع أو يمكن أن
5 يقع الطوب المقاوم للحمض بسهولة؛ مع معدن مقاوم للحمض؛ يمكن تقليل صعوبة تصنيع جهاز أوتوكلاف عالي السعة ‎(Sag‏ تحسين ثبات جهاز الأوتوكلاف. أيضاء في تصنيع أوتوكلاف عمودي عالي السعة؛ يمكن تقليل ارتفاع الأوتوكلاف؛ مع زيادة قطر الأوتوكلاف. بالتالي؛ بواسطة منع طول عمود تدوير أداة تقليب من الزيادة بشكل مفرط؛ من الممكن منع عمود تدوير أداة تقليب من الثني.
0 علاوة على ذلك؛ إدخال محلول العملية في الأوتوكلاف ومحلول العملية المفرغ من الأوتوكلاف غير معرضة لجزءِ الطور الغازي ‎gas-phase‏ بالتالي؛ من الممكن منع إنتاج الملح في فتحة المدخل؛ ‎dan‏ المخرج؛ أنبوب المدخل» و/أو أنبوب المخرج؛ ولمنع فتحة المدخل؛ فتحة المخرج؛ أنبوب المدخل» و/أو أنبوب المخرج من الانسداد بواسطة الملح. علاوة على ‎ell‏ ارتفاع محلول الأوتوكلاف ‎lef‏ نسبيا من ذلك الخاص بأوتوكلاف عمودي نسبة
5 إلى مقدار محلول نفس محلول العملية. بالتالي»؛ من الممكن ضمان وقت بقاء ‎residence time‏ مناسب (أو وقت تفاعل مناسب) للأوكسيجين؛ والذي يتم إدخاله من الجزء السفلي للأوتوكلاف؛ في
محلول العملية؛ بحيث يمكن تحسين فعالية تفاعل الأوكسيجين. ‎cla‏ مساحة السطح البيني بين المحلول وجزء الطور الغازي في الأوتوكلاف صغيرة نسبيا؛ مقارنة بأوتوكلاف عمودي. بالتالي؛ يمكن تقليل مقدار الملح الناتج عند السطح البيني بين المحلول ‎Sas‏ ‏الطور الغازي.
أيضاء يتضمن الجزء الداخلي للأوتوكلاف مقطع عرضي دائري أفقي. بالتالي» لا يتضمن الأوتوكلاف فيه أركان زاوية كحجيرات الأوتوكلاف العمودي. بالتالي» يمكن تحسين فعالية التقليب. ‎(Lad‏ يمكن تعديل المستوى السطحي للمحلول بسهولة فقط بواسطة عملية بسيطة. بالتالي؛ يمكن إزالة الملح الناتج بسهولة بواسطة رفع المستوى السطحي للمحلول ليكون أعلى من الملح الناتج لمدة
0 زمنية محددة. شرح مختصر. للرسومات الأشكال ‎TT‏ إلى ‎al‏ عبارة عن مناظر مقطعية عرضية كل منها يشرح أوتوكلاف وفقا لنماذج الكشف الحالي الشكل 2 عبارة عن منظر مكبر ‎oad‏ (أ) في الأوتوكلاف في الشكل 1أ؛
5 الشكل 3 عبارة عن منظر مكبر لفتحة مدخل أوكسيجين في الأوتوكلاف وفقا لنماذج الكشف الحالي؛ الأشكال 4 إلى 4د عبارة عن مناظر لشرح طريقة لإزالة الملح المولد في أوتوكلاف وفقا لنماذج الكشف الحالي؛ الشكل 5 عبارة عن منظر يشرح بنية حيث أجهزة أوتوكلاف وفقا لنماذج الكشف الحالي متصلة بشكل متسلسل؛
0 الشكل 6 عبارة عن مخطط تدفق عملية لاستخلاص هيماتايت وفقا لأحد نماذج الكشف الحالي؛ الشكل 7 عبارة عن مخطط ‎Jia‏ أطياف وفقا لطيف حيود الآشعة السينية ‎X-ray diffraction‏ ‎(XRD) spectroscopy‏ لرواسب الحديد وفقا لدرجة حرارة التفاعل؛ الشكل 8 عبارة عن مخطط يمثل أطياف وفقا لطيف حيود الآشعة السينية للمادة الناتجة والملتصقة بجدار المفاعل؛ و
5 والشكل 9 عبارة عن مخطط تثبيت جهاز أوتوكلاف وفقا لأحد نماذج الكشف الحالي.
الأشكال 1 إلى ‎al‏ عبارة عن مناظر مقطعية عرضية كل منها يشرح أوتوكلاف 100 وفقا لنماذج
الكشف الحالي.
بالإشارة إلى الأشكال ‎TT‏ إلى 1د؛ يتضمن الأوتوكلاف 100 بنية عمودية. بمعنى آخرء على عكس
الأوتوكلاف العمودي حيث ‎gall‏ الداخلي له مقسم إلى مجموعة من الحجيرات وبتم توفير أداة تقليب بشكل منفصل في كل حجيرة؛ تم توفير الجزء الداخلي للأوتوكلاف العمودي 100 كفراغ فردي؛ بدلا
من التقسيم إلى مجموعة من الحجيرات.
يتضمن الأوتوكلاف 100 وفقا للكشف الحالي فتحة مدخل 10؛ 13؛ ¢15 أو 17 يتم خلالها إدخال
محلول عملية؛ فتحة مخرج 20 أو 25 التي يتم خلالها تفريغ محلول العملية؛ فتحة مدخل أوكسيجين
0 يتم خلاله توفير الأوكسيجين إلى محلول العملية؛ أداة تقليب 40 ‎shige‏ لخلط محلول العملية؛
0 غلاف خارجي 50( طبقة من الطوب المقاومة للحمض 60؛ طبقة معدنية مقاومة للحمض 70؛ وحلقة غطائية 80. يتم تحديد شكل الأوتوكلاف 100 بواسطة الغلاف الخارجي 50 والذي يتضمن جدار خارجي 50( والذي يتلامس مع الجانب الخارجي للأوتوكلاف 100( وجدار داخلي 50 والذي يحدد الفراغ الداخلي للأوتوكلاف 100.
5 يتضمن ‎gal‏ الداخلي للأوتوكلاف 100 مقطع عرضي دائري أفقي. بالتالي؛ لا يتضمن ‎pall‏ ‏الداخلي للأوتوكلاف 100 أركان زاوية كما في حالة الحجيرات للأوتوكلاف العمودي؛ بحيث يمكن تحسين فعالية لتقليب. يمكن تقسيم الأوتوكلاف 100 في جزء علوي (ر)ء ‎Bn‏ جانبي (ق)؛ ‎en‏ سفلي (ب)؛ حيث يمكن أن يتضمن ‎ad)‏ العلوي (ر) ‎sally‏ السفلي (ب) بنية على شكل قبة. أيضاء يمكن تكوين الجزء
0 الجانبي (ق) المكون عموديا على سطح الأرض. يمكن تبطين ‎gall‏ السفلي (ب) ‎galls‏ الجانبي (ق) للجدار الداخلي 50 للأوتوكلاف 100 مع طبقة الطوب المقاومة للحمض 60. عند تنفيذ عملية تصفية بالحمض ‎acid-leaching process‏ عند درجة حرارة عالية وضغط عالي في الأوتوكلاف 100 يمكن تعديل مستوى ماء المحلول ‎(J)‏ شاملا محلول العملية في الأوتوكلاف 100 لتكون أقل من الجزء العلوي من ‎dish‏ الطوب المقاومة للحمض 60
5 المجمع على الجزء الجانبي (ق) من الجدار الداخلي 50أ. ذلك أن؛ المحلول ‎(J)‏ متلامس مع ‎dish‏ ‏الطوب المقاومة للحمض 60؛ ولكن يمكن ألا يتلامس مع الطبقة المعدنية المقاومة للحمض 70.
‎Lad‏ يمكن ملامسة جزءِ الطور الغازي (ز) أساسا في تلامس مع الطبقة المعدنية المقاومة للحمض
‏70 ‏يتم إنتاج مقدار كبير من الملاط في المحلول ‎(J)‏ بواسطة عملية التصفية بالحمض المنفذة عند درجة حرارة عالية وضغط عالي. لتحمل التآكل الناتج بواسطة تدوير الملاط والحالة الحمضية؛ يتم تكوين طبقة الطوب المقاومة للحمض 60 بواسطة تجميع القوالب؛ وهو الممتاز في مقاومة الحمض ومقاومة التآكل. كطوب؛ يمكن استخدام العديد من أنواع الطوب المقاوم للحمض المتاح تجارياء ويمكن اختياره بشكل مختلف ومعتمد على نوع الحمض المستخدم؛ خواص التأكل للملاط؛ وما شابه. كما هو مبين أعلاه؛ بواسطة تبطين ‎all‏ السفلي (ب) والجزء الجانبي (ق) للجدار الداخلي 150 للأوتوكلاف 100 والذي يتلامس مع المحلول (ل)؛ مع طبقة الطوب المقاومة للحمض 60؛ يمكن
‏0 تحسين المقاومة للتآكل الناتج بواسطة الملاط المتضمن في المحلول ويمكن تقليل تكلفة تصنيع جهاز الأوتوكلاف. يمكن تبطين ‎ial)‏ العلوي (ر) للجدار الداخلي 150 للأوتوكلاف 100 مع الطبقة المعدنية المقاومة للحمض 70. يمكن تكوين الطبقة المعدنية المقاومة للحمض 70 للصلب المقاوم للصداً ‎stainless‏ ‎¢steel‏ درع تيتانيوم ‎(Ti-Clad) titanium clad‏ ‘ أو ما شابه؛ ويتمتع بمقاومة للحمض.
‏5 بشكل ‎ple‏ يتضمن الجزء العلوي من الأوتوكلاف شكل مقوس» وبتم تجميع القوالب منها. حيث كلما زادت سعة الأوتوكلاف؛ كلما زاد قطر انحناء الجزء العلوي من الأوتوكلاف؛ بالتالي من الصعب أكثر تجميع الطوب المقاوم للحمض في ‎eral‏ العلوي من الأوتوكلاف الذي له سعة أكبر. أيضاء بسبب اهتزاز أداة تقليب تم تنصيبها في الجزء العلوي من الأوتوكلاف؛ يمكن أن ‎Lan‏ شقوق في طبقة الطوب المقاومة للحمض مجمعة في الجزءٍ العلوي؛ أو يمكن فك القوالب وتسقط من طبقة الطوب
‏0 المقاومة للحمض؛ والتي يمكن أن تتصادم مع عناصر التحريك الدوارة عند سرعة عالية. لهذا السبب؛ في المجال ذو الصلة؛ تم تحديد بنية الأوتوكلاف العمودي على أنها هي الطريقة الوحيدة القادرة على زيادة سعة المعالجة بواسطة زيادة الطور في الاتجاه العمودي بينما تتم متابعة ثبات الطبقة العلوية من الطوب بواسطة تقليل قطر انحناء الطبقة المقوسة من الطوب المجمع على الجزء العلوي. وفقا لنماذج الكشف الحالي؛ بواسطة تبطين الجزء العلوي (ر) للأوتوكلاف 100 والتي تكون صعبة
‏5 التبطين مع طبقة الطوب المقاومة للحمض بين الجدار الداخلي 50 للأوتوكلاف 100( مع الطبقة المعدنية المقاومة للحمض 70 من الممكن استبعاد خطورة فك الطوب العلوي مع الحفاظ على
مقاومة التأكل في مقابل الملاط في محلول العملية. أيضاء حتى إذا لم يتم تمديد فراغ الأوتوكلاف أفقياء بواسطة زيادة الأوتوكلاف قطر والطول العمودي؛ من الممكن تشغيل أوتوكلاف عمودي عالي السعة بشكل مستقرء وهي عملية لم يتم تجريبها فيما سبق. على سبيل المثال؛ وفقا لنماذج الكشف الحالي؛ يمكن أن يبلغ القطر الداخلي للأوتوكلاف 100 على الأقل حوالي 5.5 م أو أكثر.
وفقا لنماذج الكشف الحالي؛ بواسطة تبطين ‎ead)‏ العلوي (ر) للأوتوكلاف 100 مع الطبقة المعدنية المقاومة للحمض 70 والتسبب في تكثيف ‎oda‏ من بخار الماء المشبع في جزءٍ الطور الغازي (ز) ليتم تكثيفه والتدفق حيث الماء المكثئف من سطح الطبقة المعدنية المقاومة للحمض 70 من الممكن أيضا ألا يكون فقط لمنع الملح من الترسيب على الجدار الداخلي 150 للأوتوكلاف 100؛ وليس أيضا لتتم إذابة مقدار صغير من الملح المكون سلفا. ‎(Sano JL‏ تحسين معدل تشغيل الجهاز.
0 يمكن تبطين الطبقة المعدنية المقاومة للحمض 70 لتمتد إلى طرف علوي من ‎all‏ الجانبي (ق) للجدار الداخلي 50أ. علاوة على ذلك؛ يمكن أن تمتد الطبقة المعدنية المقاومة للحمض 70 بين الجدار الداخلي 150 وطبقة الطوب المقاومة للحمض 60 عند الطرف العلوي للجزء الجانبي (ق) للجدار الداخلي 50أ. يتم إدخال محلول العملية في الأوتوكلاف 100 خلال فتحة المدخل 10( ¢13 15؛ أو 17 ويتم
5 التفريغ إلى الجانب الخارجي للأوتوكلاف 100 خلال فتحة المخرج 20 أو 25. بالإشارة إلى الأشكال 1آ إلى 1ج؛ يمكن تكوين فتحة المدخل 10 13( أو 15 في ‎Gold) all‏ (ر) للجدار الداخلي 50أ. بالإشارة إلى الشكل ‎of]‏ يمكن إدخال محلول العملية خلال فتحة المدخل 10 في المحلول ‎(J)‏ عبر ‎en‏ الطور الغازي (ز).
0 بالإشارة إلى الشكل ‎cal‏ تمتد فتحة المدخل 13 في الجزءِ الداخلي للأوتوكلاف 100؛ ويمكن وضع أحد أطراف فتحة المدخل 13 الممتدة في ‎gall‏ الداخلي للأوتوكلاف 100 في ‎ga‏ الطور الغازي (ز) بدون الغمر في المحلول (ل). علاوة على ذلك؛ يمكن وضع أحد أطراف فتحة المدخل 13 بجوار السطح البيني بين المحلول ‎L‏ وجزء الطور الغازي (ز). في الأوتوكلاف وفقا للأشكال 11 5 ‎ca]‏ حيث يتم تعريض محلول العملية المدخل خلال فتحة المدخل
5 10 أو 13 إلى جزء الطور الغازي (ز) لمدة قصيرة؛ لم يتم إنتاج الملح. بالإشارة إلى الشكل 1ج؛ تمتد فتحة المدخل 15 في ‎ial)‏ الداخلي للأوتوكلاف 100؛ ويمكن غمر
أحد أطراف فتحة المدخل 15 الممتدة في ‎jal)‏ الداخلي للأوتوكلاف 100 في المحلول (ل). علاوة على ذلك يمكن وضع أحد أطراف فتحة المدخل 15 بجوار السطح البيني بين المحلول ‎(J)‏ وجزء الطور الغازي (ز). يقوم هذا بإتاحة منع فتحة المدخل 15 من الثني أو الإتلاف بواسطة محلول العملية المقلب حتى إذا تم تقليب محلول العملية (أي؛ المحلول ‎(J)‏ في الأوتوكلاف 100 عند سرعة عالية. بالإشارة إلى الشكل ‎al‏ يمكن تكوين فتحة المدخل 17 في الجزءِ الجانبي (ق) للجدار الداخلي 50أ. ذلك أن؛ يمكن وضع نهاية فتحة المدخل 17 في المحلول (ل). بالتالي؛ يمكن ألا يتم تعريض محلول العملية المدخل في الأوتوكلاف 100 إلى ‎ga‏ الطور الغازي (ز). في الأوتوكلاف وفقا للأشكال 1ج و1د؛ لا يتم تعريض محلول العملية المدخل في الأوتوكلاف إلى 0 جزء الطور الغازي؛ بحيث يمكن منع إنتاج الملح في فتحة المدخل ويمكن منع انسداد فتحة المدخل بالملح. بالإشارة إلى الأشكال 1آ إلى 1د مرة أخرى؛ يمكن تكوين فتحة المخرج 20 أو 25 في ‎all‏ الجانبي (ق) للجدار الداخلي 50أ. يتم تكوين فتحة المخرج 20 أو 25 في المحلول ‎(J)‏ للأوتوكلاف 100 وبالتالي يمكن ألا يتم تعريض محلول العملية المفرغ من الأوتوكلاف 100 إلى جزء الطور الغازي 5 (ز). أيضاء يمكن ألا تمتد فتحة المخرج 20 أو 25 في الجزء الداخلي للأوتوكلاف 100. ويقوم هذا بإتاحة منع فتحة المخرج 20 أو 25 من الثني أو الإتلاف بواسطة محلول العملية المقلب حتى إذا تم تقليب محلول العملية (أي؛ المحلول (ل) في الأوتوكلاف 100 عند سرعة عالية. بالإشارة إلى الشكل ‎a]‏ يتم تكوين فتحة المدخل 17 وفتحة المخرج 25 في الجزء الجانبي (ق) للجدار الداخلي 50أ؛ ويتم وضع فتحة المدخل 17 عند موضع أعلى من فتحة المخرج 25. 0 وفقا لنماذج الكشف الحالي؛ حيث لا يتم تعريض محلول العملية المفرغ من الأوتوكلاف إلى ‎Sa‏ ‎shal‏ الغازي؛ يمكن منع تكوين الملح في فتحة المخرج؛ ‎Sans‏ منع انسداد فتحة المخرج بواسطة الملح. فتحة مدخل الأوكسيجين 30 خاصة بإدخال الأوكسيجين كعامل أكسدة لأكسدة محلول العملية (أي؛ المحلول ‎(J)‏ ويمكن تكوين فتحة مدخل الأوكسيجين 30 في الجزءِ السفلي (ب) للجدار الداخلي 5 150 عند إدخال الأوكسيجين خلال ‎gad)‏ السفلي للأوتوكلاف 100؛ من الممكن ضمان وقت بقاء مناسب (أو وقت تفاعل مناسب) للأوكسيجين في محلول العملية؛ بحيث يمكن تحسين فعالية ‎Jolin‏
الأوكسيجين. يتصل خط إدخال الأوكسيجين 130 بفتحة مدخل الأوكسيجين 30؛ ‎Juang‏ خط بخار ‎le‏ الضغط 0ب بخط إدخال الأوكسيجين 30ا. يتدفق الأوكسيجين خلال خط إدخال الأوكسيجين ‎BO‏ إلى محلول العملية خلال فتحة مدخل الأوكسيجين 30. عند إدخال مقدار محدد سلفا من الأوكسيجين خلال فتحة مدخل الأوكسيجين؛ لا يتدفق محلول العملية عودة إلى فتحة مدخل الأوكسيجين 30 وخط إدخال الأوكسيجين 30ا. مع ذلك؛ بينما يتم تشغيل الأوتوكلاف ‎clad‏ يمكن إدخال مقدار صغير من محلول العملية في فتحة مدخل الأوكسيجين بسبب اختلاف في ضغط الإدخال؛ معدل تدفق الإدخال» أو ما شابه للأوكسيجين. يقوم يتبخر محلول عملية المدخل في فتحة مدخل أوكسيجين ‎«lal‏ وبتم تثبيت المكونات المذابة في محلول العملية بفتحة مدخل الأوكسيجين للجدار الداخلي؛ 0 وبلتالي يتم انسداد الأنبوب وإعاقة دخول الأوكسيجين. من الضروري تنفيذ الصيانة بعد إيقاف تشغيل الجهاز لتنظيف الأنبوب؛ ويمكن أن يقوم هذا بتقليل معدل تشغيل الجهاز. في الأوتوكلاف 100 وفقا للكشف الحالي؛ يتم توصيل خط بخار عالي الضغط 30ب بخط إدخال الأوكسيجين 30اً بإدخال مقدار صغير من البخار عند فاصل زمني محدد بحيث يمكن التغلب على ظاهرة انسداد ‎clogging‏ ‎phenomenon‏ فتحة مدخل الأوكسيجين بواسطة ‎sale)‏ إدخال التدفق الراجع لمحلول العملية في 5 الأوتوكلاف 100 وإعادة إذابة الملح الملتصق بواسطة بخار الماء المكثف. يتم توفير أداة تقليب 40 لتمتد في ‎sal)‏ الداخلي للأوتوكلاف 100 خلال الجزءِ العلوي (ر) للجدار الداخلي 50أ. تقوم أداة تقليب 40 بتسهيل تفاعل محلول العملية بواسطة تقليب المحلول ‎(J)‏ عند وقت تنفيذ عملية التصفية. يتضمن القلاب 40 شفرة تقليب ‎Jo agitating blade‏ 140 وشفرة تقليب ثانية 40« حيث تقوم شفرة التقليب الأولى ‎MO‏ بتقليب الجزء العلوي للمحلول ‎(J)‏ وتقوم شفرة 0 التتقليب الثانية 40ب بتقليب ‎gia)‏ السفلي للمحلول (ل). مقارنة بالنموذج التقليدي؛ سيكون الأوتوكلاف 100 وفقا لنماذج الكشف الحالي قابل للتصنيع بحيث يكون له قدرة كبيرة؛ وقادرة على التحسين في ثبات الجهاز. يمكن أن يبلغ القطر الداخلي للأوتوكلاف 0 حوالي 5.5 م أو أكثر؛ ويمكن أن يبلغ الحجم الداخلي للأوتوكلاف 100 حوالي 150 م أو أكثر. أيضاء عند وقت تشغيل الأوتوكلاف 100( يمكن أن يبلغ ‎ana‏ محلول العملية (أي؛ المحلول 5 (ل)) 100 م أو أكثر. علاوة على ذلك؛ يمكن استخدام الأوتوكلاف 100 وفقا لنماذج الكشف الحالي في عملية رطبة
للمعدن ‎metal‏ ‏الشكل 2 عبارة عن منظر مكبر ‎sal‏ لم في الأوتوكلاف 100 في الشكل 1أ. بالإشارة إلى الشكل 2 يتم توفير طبقة غشائية 90 بين الجدار الداخلي 150 وطبقة الطوب المقاومة للحمض 60. تقوم الطبقة الغشائية 90 بمنع محلول العملية في الأوتوكلاف 100 من التدفق في
الجدار الداخلي 150 ويمكن أن يتضمن مادة واقية ضد الماء .
على جانب الجدار الداخلي 150( تم توفير حلقة غطائية 80 لتغطية ‎yall‏ العلوي من طبقة الطوب المقاومة للحمض 60. يمكن تكوين الحلقة الغطائية 80 من نفس المادة كطبقة معدنية مقاومة للحمض 70. يتم تكوين الحلقة الغطائية 80 على طول الجدار الداخلي 150 للأوتوكلاف 100 عند الجزء العلوي من طبقة الطوب المقاومة للحمض 60.
0 يمكن تبطين الطرف العلوي للجزء الجانبي (ق) للجدار الداخلي 150 مع الطبقة المعدنية المقاومة للحمض 70؛ ويمكن تكوين الطبقة الغشائية 90 بين الطبقة المعدنية المقاومة للحمض 70 وطبقة الطوب المقاومة للحمض 60 عند الطرف العلوي ‎gall‏ الجانبي (ق) للجدار الداخلي 50أ. علاوة على ذلك؛ يمكن تكوين الطبقة الغشائية 90 لتمتد بين الجزء العلوي من طبقة الطوب المقاومة للحمض 60 والحلقة الغطائية 80.
5 يتم توصيل الحلقة الغطائية 80 والطبقة المعدنية المقاومة للحمض 70 ببعضهما البعض بواسطة مجموعة من الأضلاع 83. تعمل الأضلاع 83 كدعامات لدعم الحلقة الغطائية 80« ويمكن تكوبنها من نفس المادة كطبقة معدنية مقاومة للحمض 70. يمكن تكوين الفراغات 85 بين مجموعة الأضلاع 83( الحلقة الغطائية 80( والطبقة المعدنية المقاومة للحمض 70. عند تنفيذ العملية باستخدام الأوتوكلاف 100( ‎(Sa‏ أن ترتفع درجة الحرارة الداخلية
0 لأوتوكلاف 100 إلى 150 درجة ‎Augie‏ أو ‎el‏ وبالتالي يمكن أن تتمدد أو تتكمش طبقة الطوب المقاومة للحمض 60. الفراغات 85 قادرة على العمل على تنظيم التكسير الميكانيكي ‎mechanical‏ ‎fracture‏ للحلقة الغطائية 80 والأضلاع 83 عند تمديد أو انكماش طبقة الطوب المقاومة للحمض 60. الشكل 3 عبارة عن منظر مكبر لفتحة مدخل أوكسيجين في الأوتوكلاف وفقا لنماذج الكشف الحالي.
5 بالإشارة إلى الشكل 3؛ يمكن أن يتضمن الأوتوكلاف مسار ماء تبريد 31 تم توفيره ليحيط بفتحة مدخل الأوكسيجين 30. يمكن أن يتدفق ماء تبريد خلال مسار ماء التبريد 31 عند الضرورة.
في درجة ‎lal)‏ العالية والحالات الحمضية؛ يمكن تسارع تآكل جهاز الأوتوكلاف. مسار ماء التبريد 1 قادر على خفض حرارة فتحة مدخل الأوكسيجين 30 باستخدام التبادل الحراري خلال التدفق الداخل والخارج لماء التبريد. بالتالي؛ يمكن أن يعمل مسار ‎ele‏ التبريد 31 على تخفيف تأكل جهاز الأوتوكلاف حول فتحة مدخل الأوكسيجين 30.
الأشكال 4ا إلى 4د عبارة عن مناظر لشرح طريقة لإزالة الملح المولد في أوتوكلاف وفقا لنماذج الكشف الحالي. للشرح»؛ سوف يتم وصف طريقة إزالة الملح بالإشارة إلى الأوتوكلاف 100 الموضح بالإشارة إلى الشكل 1أ. مع ذلك؛ يمكن أن يفهم الخبير في المجال أن طريقة إزالة الملح وفقا لنماذج الكشف الحالي تنطبق على أجهزة الأوتوكلاف 100 الموضحة بالإشارة إلى الأشكال 1[ب إلى ‎Sl‏ ‏بالإشارة إلى الشكل 4أ؛ يمكن توليد الملح ,51 في الأوتوكلاف 100 مع تنفيذ عملية طبيعية باستخدام
0 الأوتوكلاف 100. يمكن إنتاج الملح ‎SL‏ عند تبخير جزء من محلول العملية وبالتالي يمكن إنتاجها أساسا بالقرب من السطح البيني 17 بين المحلول .1 ‎sag‏ الطور الغازي (ز). على سبيل المثال؛ يمكن إنتاج الملح ‎SL‏ على سطح طبقة الطوب المقاومة للحمض 60 أو على سطح أداة تقليب 40 بالقرب من السطح البيني ‎TF‏ بين المحلول ‎shall eng (J)‏ الغازي (ز). يمكن أن يكون الملح الناتج ‎SL‏ قابل للحل في الماء. يمكن تحديد المستوى السطحي 17 للمحلول ‎(J)‏ في الأوتوكلاف 100 5 أثناء العملية الطبيعية كمستوى أول. بالإشارة إلى الشكل ‎ccd‏ يتم رفع المستوى السطحي ‎TF‏ للمحلول ‎AL‏ الأوتوكلاف 100 إلى مستوى ثاني أعلى من المستوى الأول بحيث يمكن غمر الملح الناتج ‎SL‏ في المحلول (ل). على سبيل المتال» يمكن تنفيذ رفع المستوى السطحي 17 للمحلول ‎(J)‏ بواسطة إدخال محلول العملية في الأوتوكلاف 100 خلال فتحة المدخل 10 أثناء منع محلول العملية من التفريغ من الأوتوكلاف 100 بواسطة سد فتحة المخرج 20. كمثال ‎AT‏ يمكن تنفيذ رفع المستوى السطحي ‎IF‏ للمحلول ‎(J)‏ ‏بواسطة زيادة مقدار إدخال محلول العملية خلال فتحة المدخل 10 عن مقدار محلول العملية المفرخ خلال فتحة المخرج 20. يتم تعديل المستوى المرتفع (أي؛ المستوى الثاني) للسطح ‎IF‏ للمحلول ‎(J)‏ لتكون أقل من المستوى السطحي الأعلى لطبقة الطوب المقاومة للحمض 60. بالتالي؛ حتى عند رفع ‎gual‏ السطحي ‎IF‏ ‏5 للمحلول ‎(J)‏ إلى المستوى الثاني؛ يمكن أن يتلامس المحلول ‎(J)‏ مع الطبقة المعدنية المقاومة للحمض 70 وبالتالي يمكن منع الطبقة المعدنية المقاومة للحمض 70 من الإتلاف بواسطة الملاط
المتضمنة في المحلول (ل).
يمكن تعديل المستوى المرتفع (أي؛ المستوى الثاني) للسطح ‎TF‏ للمحلول ‎(J)‏ لتكون أقل من المستوى
السطحي الأدنى للحلقة الغطائية 80. بالتالي؛ حتى عند رفع المستوى السطحي ‎IF‏ للمحلول (ل) إلى
المستوى الثاني؛ يمكن أن ‎Sb‏ المحلول ‎(J)‏ في تلامس مع الحلقة الغطائية 80؛ ويمكن منع تلف
الحلقة الغطائية 80 بواسطة الملاط المتضمن في المحلول (ل).
بالإشارة إلى الشكل 4ج تتم إزالة الملح ‎SL‏ بواسطة الحفاظ على المستوى السطحي ‎IF‏ للمحلول
‎(J)‏ عند المستوى الثاني لمدة زمنية محددة. يمكن إذابة الملح ‎SL‏ القابل للحل في الماء وتتم إزالتها
‏في المحلول ‎(J)‏ حيث يظل مغمورا في المحلول ‎(J)‏ لمدة زمنية محددة. على سبيل ‎Jha‏ يمكن
‏الحفاظ على المستوى السطحي للمحلول (ل) عند المستوى الثاني لمدة حوالي 1 ساعة إلى حوالي 6 0 ساعات.
‏بالإشارة إلى الشكل 4د؛ بعد إزالة الملح ‎SL‏ يتم خفض المستوى السطحي ‎TF‏ للمحلول (ل) إلى
‏مستوى في عملية طبيعية (وهوء المستوى الأول). بعد ذلك؛ يمكن تنفيذ العملية الطبيعية باستخدام
‏الأوتوكلاف 100 مرة أخرى.
‏كما هو مبين أعلاه؛ وفقا لنماذج الكشف الحالي؛ من الممكن إزالة الملح من الأوتوكلاف 100 خلال 5 طريقة بسيطة لرفع المستوى السطحي للمحلول ‎(J)‏ والحفاظ على مستوى المدة الزمنية المحددة بدون
‏إزالة محلول العملية في الأوتوكلاف 100. بالتالي؛ يمكن تحسين فعالية تشغيل للأوتوكلاف 100.
‏الشكل 5 عبارة عن منظر يشرح بنية حيث أجهزة أوتوكلاف وفقا لنماذج الكشف الحالي متصلة
‏بالإشارة إلى الشكل 5؛ يتصل الأوتوكلاف الأول 1100 والأوتوكلاف الثاني 100ب بشكل متسلسل. 0 يمكن أن يكون الأوتوكلاف الأول 1100 عبارة عن أجهزة الأوتوكلاف ‎daca gall‏ بالإشارة إلى الأشكال
‏1آ إلى 1ج؛ ويمكن أن يكون الأوتوكلاف الثاني 100ب عبارة عن أوتوكلاف موضح بالإشارة إلى
‏الشكل 1د.
‏عند تشغيل الأوتوكلاف الأول والثاني 1100 و100ب؛ يمكن إدخال محلول العملية خلال فتحة
‏المدخل 10 للأوتوكلاف الأول 100 ويمكن إخضاعها إلى عملية التفاعل في الأوتوكلاف الأول 5 1100. يمكن إدخال محلول العملية؛ ‎Ally‏ يمكن إخضاعها إلى عملية التفاعل في الأوتوكلاف الأول
‏0 في الأوتوكلاف الثاني 100ب خلال أنبوب توصيل أول 110 ويمكن إخضاعه إلى عملية
التفاعل. يمكن أن يتناظر التيار العلوي لأنبوب التوصيل الأول 110 مع فتحة المخرج 20 للأوتوكلاف الأول 1100 ويمكن أن يتصل التيار التحتي لأنبوب التوصيل الأول 110 بفتحة المدخل
0 للأوتوكلاف الثاني 100ب. عند تشغيل الأوتوكلاف الأول والثاني 1100 21005« يتم غمر فتحة المخرج 20 للأوتوكلاف الأول 1100 في المحلول ‎(J)‏ في الأوتوكلاف الأول 100أ؛ ويتم غمر فتحة المدخل 10 للأوتوكلاف الثاني 0ب في المحلول ‎(J)‏ للأوتوكلاف الثاني 100ب. بالتالي؛ يمكن تعريض محلول العملية المدخل من الأوتوكلاف الأول 1100 إلى الأوتوكلاف الثاني 100ب خلال أنبوب التوصيل الأول 110 إلى جزء الطور الغازي (ز). بالتالي؛ من الممكن منع الملح من الإنتاج في أنبوب التوصيل الأول 110. يمكن تثبيت الأوتوكلاف الأول 100 عند موضع أعلى من الأوتوكلاف الثاني 100ب. على سبيل
0 المثال؛ يمكن تثبيت الأوتوكلاف الأول 1100 عند موضع حوالي 10 سم إلى حوالي 100 سم أعلى من الأوتوكلاف الثاني 100ب. يمكن أن يسمح هذا بإدخال محلول العملية من الأوتوكلاف الأول 0 إلى الأوتوكلاف الثاني 100ب مع منع محلول العملية من التدفق عودة من الأوتوكلاف الثاني 0ب في الأوتوكلاف الأول 1100. يمكن توصيل واحد أو أكثر من الأوعية الومضية ‎flash vessels‏ 1200 و200ب متصل بفتحة
5 المخرج 20 للأوتوكلاف الثاني 100ب. على سبيل المثال؛ كما هو مبين في الشكل 5؛ يمكن توصيل الوعاء الومضي ‎flash vessel‏ الأول 200 والوعاء الومضي الثاني 200ب بالأوتوكلاف الثاني 0ب بشكل متسلسل. يمكن توصيل الوعاء الومضي الأول 200 بالأوتوكلاف الثاني 100ب خلال أنبوب التوصيل الثاني 120؛ ويمكن توصيل الوعاء الومضي الثاني 200ب بالوعاء الومضي الأول 200 خلال أنبوب التوصيل الثالث 130.
‎Sa 0‏ تقليل ضغط محلول العملية عالي الضغط المفرغ من الأوتوكلاف الثاني 100ب بواسطة الأوعية الومضية الأولى والثانية 200 و200ب. على سبيل المثال؛ يمكن تقليل ضغط محلول العملية عالي الضغط المفرغ من الأوتوكلاف الثاني 100ب إلى الضغط الجوي بواسطة الأوعية الومضية الأولى والثانية 200 و200ب. في الشكل 5؛ جهازي الأوتوكلاف 100 و100ب والوعائيين الومضيين 1200 و200ب متصلين
‏5 بشكل متسلسل؛ ولكن لا يقصد بالكشف الحالي أن يتم تقييده به. على سبيل المثال؛ يمكن توصيل وعاء ومضي واحد فقط بفتحة المخرج 20 للأوتوكلاف الثاني 100ب؛ أو ثلاثة أو أكثر من الأوعية
الومضية بفتحة المخرج 20. علاوة على ذلك؛ يمكن وضع الأنواع المختلفة الموضحة من أجهزة الأوتوكلاف بشكل إضافي بشكل متسلسل بين الأوتوكلاف الثاني 100ب والوعاء الومضي الأول 1200 هناء سوف يتم وصف عملية الزنك المنفذة باستخدام أوتوكلاف وفقا لنماذج الكشف الحالي.
في عملية الزنك العامة؛ يتم ‎La‏ تصفية الحديد ‎(Fe) iron‏ والنحاس ‎(Cu) copper‏ معا بحمض الكبريتيك ‎sulfuric acid‏ في عملية تصفية ‎sale‏ الزنك الخام ‎zine raw material‏ في حمض الكبربتيك؛ ويتم اختزال الحديد في حالة الحديد ‎(ITT)‏ المتضمنة في محلول تصفية إلى الحديد ‎(I)‏ باستخدام عامل اختزال ‎reducing agent‏ مثل ‎sale‏ زنك مركزة. تتم معادلة حمض ‎clin, Sl‏ المتبقي في محلول الاختزال إلى نطاق درجة حموضة أكثر تعادلا باستخدام عامل معادلة ‎neutralizing agent‏ مثل
0 كالسين ‎ccalcine‏ ويعد ذلك يتم إخضاعها إلى فصل السائل-الصلب للحصول على محلول سلفات زنك ‎zine sulfate‏ متعادل. تتم إذابة مقدار قابل ملحوظ من الحديد ‎(I)‏ في محلول سلفات الزنك المتعادل؛ وتتم التغذية إلى عملية نزع الحديد ‎de-ironing process‏ بحيث تتم إزالة الحديد. يتم فصل النحاس الموجود في محلول عملية نزع الحديد بواسطة فصل الصلب-السائل؛ وبعد ذلك 5 تتم إضافة عامل اختزال لاختزال وترسيب النحاس المذاب في صورة سلفات نحاس ‎copper sulfate‏ ‎(CuSOs)‏ كأسمنت نحاس ‎Alls ccopper cement‏ هي عبارة عن مسحوق النحاس المعدني ‎metallic‏ ‎copper powder‏ بالتالي إزالة النحاس. مع ذلك؛ في عملية نزع الحديد المذكورة أعلاه؛ تعمل المكونات مثل النحاس ‎(II)‏ الموجود في محلول العملية كحفازات ‎catalysts‏ لأكسدة ‎(II) wall‏ بسرعة إلى الحديد ‎(II)‏ في تفاعل ترسيب الحديد لتسهيل إنتاج جاروسيت ©070516(. بالتالي؛ تم 0 طلب درجات ‎sha‏ أعلى وقيم ضغط أعلى لترسيب الحديد من محلول سلفات الزنك في صورة هيماتايت ‎hematite‏ ‏يهدف الكشف الحالي إلى تقليل درجة حرارة التفاعل وضغط عملية ترسيب الحديد ‎iron precipitation‏ 05 إلى مستوى أقل من تلك الخاصة بالمجال ذو الصلة. لتقليل درجة حرارة التفاعل والضغط من الضروري تهيئة محلول سلفات زنك متعادل لإزالة مكونات الحفاز. علاوة على ذلك؛ عندما يكون 5 هناك مقدار أثر الحديد ‎(IT)‏ في المحلول» سوف تكون عبارة عن ‎Alla‏ حيث يتم ترسيب جاروسيت. بالتالي؛ من الضروري اختزال الحديد (117) ‎LIS‏ إلى الحديد )11( في محلول سلفات الزنك ليتم الإدخال
إلى عملية ترسيب الحديد. الشكل 6 عبارة عن مخطط تدفق عملية لاستخلاص هيماتايت وفقا لأحد نماذج الكشف الحالي. في عملية الزنك؛ يتم تحضير محلول سلفات زنك بواسطة تصفية المواد الخام التي تحتوي على الزنك؛ مثل ‎sale‏ زنك مركزة ‎ezine concentrate‏ كالسين تم الحصول عليه بواسطة تحميص مادة الزنك المركزة؛ أو فيريت الزنك ‎ezine ferrite‏ في حمض الكبريتيك عند الضغط الجوي. تتم معادلة حمض الكبريتيك المتبقية في عملية التصفية أولا باستخدام كالسين لإزالة الشوائب منها. لا يتم ترسيب مكونات الحديد المبيضة معا في عملية تصفية المادة الخام في عملية المعادلة؛ وبالتالي تظل مكونات الحديد في محلول العملية بعد المعادلة. بالإشارة إلى الشكل 6؛ يتم إدخال محلول سلفات الزنك إلى عملية تهيئة كمحلول إدخال عملية تهيئة ‎conditioning process 0‏ في عملية التهيئة؛ يتم إدخال محلول إدخال عملية التهيئة إلى مفاعل تهيئة ‎aug 1‏ التفريغ كعجينة تهيئة ‎conditioning cake‏ في مرشح ‎filter‏ 3 عبر وسيلة إكساب قوام ‎thickener‏ 2؛ ‎aig‏ نقل محلول عملية التهيئة البعدية إلى عملية ترسيب الحديد بحيث يتم إدخاله كمحلول إدخال عملية ترسيب الحديد. في عملية ترسيب الحديد؛ يتم إدخال محلول إدخال عملية ترسيب الحديد إلى مفاعل ترسيب الحديد 4؛ يتم فصل ‎shall‏ الصلب كهيماتايت عبر وسيلة إكساب القوام 5 والمرشح 6؛ ويتم نقل المحلول إلى عملية المعادلة كمحلول عملية ترسيب الحديد بعدي. في الكشف الحالي؛ تتم ‎all)‏ مكونات الحفاز مثل النحاس باستخدام عامل اختزال في محلول إدخال عملية تهيئة المتعادل لاستخلاص الحديد كهيماتايت عند درجات حرارة أقل وقيم ضغط أقل من تلك الموجودة في التقنية التقليدية؛ ويتم استخدام عملية التهيئة لتقليل الحديد ‎(I)‏ الموجود في مقدار 0 الأثر في الحديد ‎(I)‏ ‏تتضمن عملية التهيئة خطوة اختزال يتم تنفيذها بواسطة إدخال عامل اختزال» يتم تعديل قدرة الأكسدة- الاختزال ‎(ORP) Oxidation-Reduction Potential‏ لمحلول عملية التهيئة البعدية بواسطة نوع ومقدار مدخل عامل الاختزال. علاوة على ذلك؛ يتم إدخال عامل الاختزال في مفاعل التهيئة ‎conditioning reactor‏ 1 حيث يتم إدخال محلول إدخال عملية التهيئة. 5 محلول عملية التهيئة البعدية عبارة عن محلول إدخال عملية ترسيب الحديد لعملية ترسيب الحديد وهي العملية التالية.
في الكشف الحالي؛ يتم تعديل قدرة الأكسدة-الاختزال لمحلول إدخال عملية ترسيب الحديد إلى -100 مل فولط أو أقل. بشكل أكثر تحديدا؛ يتم تعديل قدرة الأكسدة-الاختزال إلى -400 مل فولط أو أقل. عندما تكون قدرة الأكسدة-الاختزال ‎el‏ من -100 مل فولط يتم خلط جاروسيت جزثيا وبالتالي يمكن خلط محتوى الحديد لترسيب عجينة الحديد إلى أقل من 750. عندما تكون قدرة الأكسدة- الاختزال أعلى من -100 مل فولط» تكون هناك حاجة إلى ظروف درجة حرارة أعلى وضغط أعلى لإنتاج هيماتايت. على العكس؛ ‎Laie‏ تكون قدرة الأكسدة-الاختزال -100 مل فولط أو أقل؛ سيكون جو الاختزال مسيطر؛ ويمكن إنتاج هيماتايت عند درجة حرارة منخفضة وضغط منخفض مقارنة بحالة عندما تكون قدرة الأكسدة-الاختزال أعلى من -100 مل فولط. في هذه الحالة؛ يمكن أن يكون محتوى 0 الحديد في رواسب الحديد 750 أو أكثر. عندما تكون قدرة الأكسدة-الاختزال -400 مل فولط أو أقل؛ يتم إنتاج هيماتايت أفضل عند درجة حرارة منخفضة نسبيا وضغط منخفض. لتقليل قدرة الأكسدة-الاختزال» يمكن زيادة مقدار إدخال عامل الاختزال» بحيث يمكن تعديل قدرة الأكسدة-الاختزال بالنسبة للفاعلية الاقتصادية. 5 .يتم تعديل درجة حموضة محلول إدخال عملية ترسيب الحديد إلى حوالي 3 إلى 5.5. عندما تكون درجة حموضة محلول إدخال عملية ترسيب الحديد أقل من 3 يتفاعل حمض ‎Ai yl‏ الموجود في محلول إدخال عملية التهيئة مع عامل الاختزال؛ بالتالي زيادة مقدار عامل الاختزال الذي يتم استخدامه. عندما تتخطى درجة الحموضة 5.5؛ يمكن أن تكون رواسب الزنك في صورة سلفات زنك الملح (+020)011017050)؛ والذي يؤدي إلى فقد في الزنك في محلول العملية؛ ويمكن 0 أن يكون ملح الزنك المرسب هو سبب خفض معدل تشغيل الجهاز بواسطة الالتصاق بالمعدات في عملية ترسيب الحديد. يمكن أن يختلف مقدار إدخال عامل الاختزال بشكل معتمد على تركيبة محلول إدخال عملية التهيئة؛ ‎Jie‏ تركيزات الحديد ‎(I)‏ والنحاس الموجودة في محلول إدخال عملية التهيئة. يمكن اعتبار مقدار إدخال عامل الاختزال بشكل معتمد على قيمة قدرة الأكسدة-ا لاختزال. 5 كعامل اختزال» يمكن استخدام عامل اختزال غير عضوي؛ مثل مسحوق الزنك أو الألومنيوم ‎caluminum‏ أو عامل اختزال عضوي. مسحوق الزنك جيد كعامل اختزال بسبب مسحوق الاختزال
الممتاز الخاص به. عند استخدام مادة زنك مركزة لها مسحوق اختزال كعامل ‎(Jal‏ على عكس
الكشف الحالي؛ يتم خفض قيمة قدرة الأكسدة-الاختزال إلى مستوى حوالي 200 مل فولط ولا يمكن
تعديله إلى 0 مل فولط أو أقل.
يتم ترسيب المكونات مثل التحاس الموجود في محلول إدخال عملية التهيئة في صورة اسمنت النحاس
التي لها محتوى النحاس في عملية التهيئة ويتم تفريغها كعجينة تهيئة. بالتالي؛ بعد إخضاع محلول
إدخال عملية التهيئة إلى فصل الصلب-السائل؛ يمكن استخلاص النحاس في عملية استخلاص
النحاس. وفقا للكشف الحالي؛ يمكن الحصول على اسمنت النحاس كمنتج ثانوي في عملية تهيئة؛
والتي هي خطوة معالجة أولية لعملية ترسيب الحديد.
يتم نقل محلول عملية بعد التهيئة الناتج خلال هذه العملية إلى عملية ترسيب الحديد لإنتاج الحديد 0 الموجود في صورة هيماتايت.
تتضمن عملية ترسيب الحديد خطوة ضغط وأكسدة مع أوكسيجين والبخار.
يتم تعديل تركيز الزنك في محلول إدخال عملية ترسيب الحديد إلى حوالي 120 جم/ملل إلى 150
جم/ملل. عندما يتخطى تركيز الزنك في محلول إدخال عملية ترسيب الحديد حوالي 150 جم/ملل؛
يمكن إنتاج ملح سلفات زنك مونو هيدرات ‎(ZSM) Zinc Sulfate Monohydrate‏ عند درجة حرارة 5 يتفاوت من حوالي 135 درجة مئوية إلى 150 درجة مئوية؛ وهي ‎dlls‏ الحرارة الخاصة بعملية ترسيب
الحديد في الكشف الحالي. عندما يكون تركيز الزنك في محلول إدخال عملية ترسيب الحديد أقل من
حوالي 120 جم/ملل؛ يجب زيادة حجم الجهاز لإنتاج نفس مقدار الزنك؛ والتي تكون مطلوية بسبب
أن تشغيل الجهاز وتكاليف الجهاز عالية.
يتم تعديل تركيز الحديد في محلول إدخال عملية ترسيب الحديد إلى حوالي 5 جم/ملل إلى 20 0 جم/ملل. على الرغم من أنه لم تكن هناك مشكلة بالنسبة إلى إنتاج وجودة هيماتايت عند تركيز
الحديد المنخفض؛ عندما يكون تركيز الحديد في محلول إدخال عملية ترسيب الحديد أقل من حوالي
5 جم/ملل؛ لا تكون العملية اقتصادية من حيث فعالية التشغيل. عندما يتخطى تركيز الحديد لمحلول
عملية التهيئة البعدية 20 جم/ملل؛ تتم زيادة تركيز الحمض في محلول العملية بعد تفاعل ترسيب
الحديد وبالتالي يتم تقليل معدل ترسيب الحديد. بالتالي؛ عند إنتاج جاروسيت؛ يمكن تقليل ‎sine‏ ‏5 الحديد في رواسب الحديد.
يمكن تنفيذ خطوة تنفيذ الضغط والأكسدة عند درجة حرارة عالية وضغط عالي في خطوة ترسيب
— 1 2 — الحديد باستخدام أوتوكلاف. في الكشف الحالى؛ حتى على الرغم من استخدام محلول سلفات الزنك يتضمن تركيز زنك ‎Sle‏ ‏يتفاوت من حوالي 120 جم/ملل إلى 150 جم/ملل في محلول العملية في خطوة ترسيب الحديد باستخدام الأوتوكلاف؛ يتم استخلاص الحديد كهيماتايت عند درجة حرارة تتفاوت من ‎dss‏ 135 درجة مئوية إلى 150 درجة مثوية وعند ضغط يتفاوت من حوالي 0.6 ميجا باسكال (5 بار قياسي) إلى 1.1 ميجا باسكال (10 بار قياسي)»؛ والذي يكون أقل من درجة الحرارة والضغط في المجال ذو الصلة. في أحد النماذج المفضلة؛ يبلغ وقت عملية الأوتوكلاف لاستخلاص الحديد حوالي 30 دقيقة إلى 3 ساعات. يتم استخدام عملية ترسيب الحديد وفقا للكشف الحالي قادرة على استخلاص هيماتايت لها جودة ممتازة عند درجة حرارة أقل وضغط أقل من تلك الموجودة فى المجال ذو الصلة حتى عند 0 1 استخدام أوتوكلاف عمودي تقليدي . مع ذلك ¢ عند استخد ام أوتوكلاف عمودي عالى السعة الموضح أعلاه وفقا للكشف الحالي؛ حيث يتم تنفيذ العملية عند درجة حرارة أقل وضغط أقل من في المجال ذو الصلة؛ الثبات جزئيا حيث يتم تثبيت طوب التبطين المقاوم للحمض ومعدن التبطين المقاوم للحمض للجدار الداخلي للأوتوكلاف مع بعضها البعض أو ما شابه. عندما يكون الضغط داخل الأوتوكلاف أقل من 0.6 ميجا باسكال (5 بار قياسي)؛ يتم تقليل ضغط 5 الأوكسيجين الجزئي داخل الأوتوكلاف إلى 0.3 ميجا باسكال (2 بار قياسي) أو أقل وبتم تقليل معدل إزالة الحديد. فى الوقت الحالى؛ عندما يتخطى ضغط داخل الأوتوكلاف 1.1 ميجا باسكال (10 بار قياسي)؛ من الضروري تقليل ضغط الأوكسيجين ومحلول الزنك ليتم توفيره إلى الأوتوكلاف إلى 1.4 ميجا باسكال (13 بار قياسي) أو أعلى؛ والذي يكون أعلى من الضغط داخل الأوتوكلاف؛ والذي يمكن أن يزيد من تكلفة استثمار الجهاز. 0 عندما تكون درجة الحرارة داخل الأوتوكلاف أقل من حوالي 135 درجة مئوية؛ يبدا إنتاج جاروسيت كرسابة حديد؛ ويمكن تقليل محتوى الحديد في رسابات الحديد إلى أقل من 750. عندما تكون درجة الحرارة داخل الأوتوكلاف أعلى من 150 درجة مئوية؛ لا يوجد تأثير على إنتاج هيماتايت. مع ذلك؛ يتم ترسيب الزنك فائق التشبع في محلول العملية كسلفات زنك مونو هيدرات؛ بالتالي زيادة محتوى الزنك لراسبة الحديد وتقليل محتوى الحديد النسبي. علاوة على ذلك؛ يمكن أن يلتصق سلفات الزنك مونو هيدرات بالجدار الداخلي للأوتوكلاف أو الأنبوب في صورة الملح؛ والذي يمكن أن يؤدي إلى مشاكل فى المنشآت. باعتبار التقليل فى معدل استخلاص الزنك فى معدل استخلاص الزنك بسبب
ترسيب سلفات زنك مونو هيدرات؛ من المناسب لنطاق درجة ‎hall‏ داخل الأوتوكلاف أن يبلغ حوالي
درجة مئوية إلى 150 درجة مئوية.
علاوة على ذلك؛ عند درجة حرارة حوالي 60 درجة مئوية أو أعلى» تقل ذويانية سلفات زنك مع زيادة
درجة الحرارة. في المجال ذو الصلة؛ يبلغ نطاق درجة حرارة إنتاج هيماتايت حوالي 180 درجة مئوية
5 أو ‎(Kg Jef‏ وفقا للكشف الحالي؛ يمكن إنتاج هيماتايت عند درجة حرارة من حوالي 135 درجة
‎dase‏ إلى 150 درجة مئوية.
‏بالتالي؛ وفقا للكشف الحالي؛ من الممكن زيادة تركيز الزنك في محلول إدخال العملية بواسطة تنفيذ
‏عملية استخلاص الحديد كهيماتايت عند درجة حرارة أقل من تلك المعروفة في المجال ذو الصلة.
‏بواسطة الحفاظ على تركيز الزنك أعلى من في المجال ذو الصلة؛ من الممكن تقليل أحجام أجهزة 0 إنتاج الزنك وتقليل تكاليف التشغيل بواسطة تسهيل العملية.
‏علاوة على ذلك؛ يمكن فصل هيماتايت الناتج في عملية ترسيب الحديد من محلول سلفات الزنك
‏خلال وسيلة إكساب القوام 5 والمرشح 6؛ ويمكن ألا يتم إدخاله إلى عملية ترسيب الحديد كبذور.
‏بالتالي؛ يتغلب الكشف ‎ad)‏ على مشاكل مثل فعالية التشغيل المتدهورة ومعدل تآكل المعدات الزائد
‏بسبب الزيادة في الجسيمات الصلبة في محلول العملية؛ والذي يمكن التسبب فيه عند إدخال هيماتايت 5 الناتج مرة أخرى إلى عملية ترسيب الحديد كبذور.
‏فيما يلي سوف يتم وصف محتويات النماذج وفقا للكشف الحالي بالتفاصيل.
‏المثال 1
‏في المثال 1 باستخدام محلول سلفات زنك»؛ الذي تم تحضيره بواسطة تعديل قدرة الأكسدة-الاختزال 0 بواسطة تغيير مقدار إدخال مسحوق الزنك في كل محلول إدخال عملية تهيئة متعادل؛ حيث؛ محلول
‏تصفية سلفات زنك» تمت ملاحظة فعالية تفاعل ترسيب الحديد بشكل معتمد على قيمة قدرة الأكسدة-
‏الاختزال عند ظروف تفاعل 140 درجة مئوية و 0.8 ميجا باسكال (7 بار قياسي) في أوتوكلاف.
‏عند إدخال مسحوق الزنك؛ قدرة الأكسدة-الاختزال لمحلول سلفات الزنك أقل أيضا ويصبح الحديد
‎(II)‏ أكثر استقرارا في هذه العملية. تم تنفيذ ‎Jel‏ ترسيب الحديد في المثال 1 بدون إدخال بذور 5 هيماتايت.
‏تمت ملاحظة فعالية تفاعل ترسيب الحديد باستخدام محلول سلفات زنك؛ تم تعديل قدرة الأكسدة-
الاختزال ليقع في النتطاق من +200 إلى -400 مل فولط (في مقابل الكترود كلوريد فضة ‎silver‏ ‎[chloride‏ فضة ‎(Ag/AgCl) (silver‏ عند استخدام الكترود كلوريد فضة/فضة كالكترود مرجعي؛ تحت ظروف تفاعل 140 درجة ‎sie‏ و 0.8 ميجا باسكال (7 بار قياسي). تم تعديل قدرة الأكسدة- الاختزال في عملية التهيئة بواسطة تغيير مقدار إدخال مسحوق الزنك ومحتوى الحديد في رواسب الحديد التي تم تحليلها كميا باستخدام مطياف الانبعات الذري للبلازما المقترنة بشكل حثي ‎(ICP-AES) Inductively coupled plasma atomic emission spectroscopy‏ . الجدول 1 المثال المثال المثال المثال المثال عدا ‎20m‏ فكوا معد معد قدرة الأكسدة- +200 -100 -200 -400 الاختزال الحديد ‏ في ناتج 35.3 454 52.1 55.9 56.6 الترسيب @ د ‎LA]‏ ‎X X X‏ جاروسيت ‎on 0‏ الجدول 1 سلوك ترسيب الحديد بشكل معتمد على ‎dad‏ قدرة الأكسدة-الاختزال وفقا للمثال 1. بالإشارة إلى الجدول 1 ؛ في ‎dlls‏ محلول سلفات زنك الذي لم يخضع إلى عملية تهيئة (المتال المقارن 1)؛ تم ترسيب ناتج ترسيب الحديد كجاروسيت ‎«heal‏ وكان محتوى الحديد منخفض جداء الذي يبلغ» 735.3. على الناحية الأخرى؛ عند إخضاع محلول سلفات الزنك إلى تهيئة في ظروف حيث يتم استخدام قدرة الأكسدة-الاختزال تبلغ 0 مل فولط (في مقابل كلوريد فضة / فضة) أو أقل» كان
— 4 2 — محتوى الحديد 445.4« وكان من الممكن الحصول على هيماتايت يحتوي على مقدار صغير من جاروسيت . في ظروف أن قدرة ا لأكسدة - لاختزال يبلغ -00 1 مل فولط (في مقابل كلوريد ‎dual‏ / فضة) أو أقل؛ من الممكن الحصول على هيماتايت يتضمن محتوى حديد بمقدار 752 أو أكثر. المثال 2
فى المثال 2؛ تمت ملاحظة فعالية تفاعل ترسيب الحديد بشكل معتمد على درجة حرارة التفاعل عند نطاق درجة حرارة 120 درجة مئوية أو أعلى باستخدام محلول سلفات زنك يحتوي على 145 جم/ملل من الزنك تحت ضغط 0.8 ميجا باسكال (7 بار قياسي). تم تنفيذ تفاعل ترسيب الحديد في المثال 2 بدون إدخال بذور هيماتايت.
0 .تم تعديل قدرة الأكسدة-الاختزال إلى -400 مل فولط (في مقابل كلوريد فضة / فضة) باستخدام مسحوق الزنك كعامل ‎(Jia)‏ محلول سلفات زنك يتضمن تركيز زنك 145 جم/ملل؛ تركيز الحديد بمقدار 12.4 جم/ملل؛ وتم إدخال درجة حموضة 4.5 في أوتوكلاف؛ تم تنفيذ التفاعل لمدة ساعتين في الحالة حيث تم تعديل درجة حرارة التفاعل إلى 120 درجة مئوية إلى 160 درجة مئوية عند ضغط 0.8 ميجا باسكال (7 بار قياسي)؛ وبعد ذلك تم تقليل الحرارة إلى درجة حرارة الغرفة. تم
5 إخضاع محلول بعد التفاعل الذي يحتوي على هيماتايت إلى فصل الصلب-السائل باستخدام جهاز ترشيح في التفريغ وتم تحليل محتوى الحديد في ناتج ترسيب الحديد كميا باستخدام مطياف الانبعاث الذري للبلازما المقترنة يشكا ؛ حثي. الجدول 2
المثال | ‎egy‏ المثال | ‎JB‏ المثالك | المثال المقارن | ‎dl‏ الابتكار | الابتكار | الأبتكار | المقارن 3 4 ي 4 ي 5 ي 6 5 ‎dp‏ حرارة 120 130 135 140 150 160 (درجة ‎(sie‏ ‏محلول | الحديد التفاعل | (جم/ملل | 2.1 1.6 0.7 0.5 04 0.4 البعدي | )
— 5 2 — الكبريتيك 143 ]192 ]209 )212 215/6 21.5 (جم/ملل ( الحديد في ناتج ِ 7 453 |557 56.66 577 840 الترسيب (7) معدل | ترسيب 83.1 |87.1 944 8 9645 الحديد )7( ‎ERE‏ ‏إنتاج سلفات زنك ‎X X X X X‏ مونو هيدرات يبين الجدول 2 سلوك ترسيب الحديد بشكل ‎Mine‏ على درجة حرارة التفاعل وفقا للمثال 2. بالإشارة إلى الجدول 2 والشكل 7 تم ترسيب الحديد في صورة مسحوق بني مائل للون الأصفر عند 120 درجة مثوية؛ وتم تحليل البنية البلورية لناتج الترسيب الذي تم الحصول عليه باستخدام طريقة تحليل حيود ‎SY)‏ السينية. كنتيجة؛ تمت ملاحظة تكون جاروسيت. عند 130 درجة مئوية؛ تم ترسيب أغلب الحديد كهيماتايت ولكن في صورة حيث يتم احتواء جاروسيت مع هيماتايت. عند درجة حرارة أعلى من 135 درجة مئوية؛ تم الحصول على هيماتايت يتضمن محتوى حديد بمقدار 755 أو أكثر بغض النظر عن درجة حرارة التفاعل. مع ذلك؛ عند 160 درجة مثوية؛ كانت ذويانية سلفات زنك المتضمنة في محلول التفاعل أقل بشكل ملحوظ؛ ومكون زنك فائق التشبع والملتصق بالجدار الداخلي 0 والجزء السفلي من الأوتوكلاف. تمت ملاحظة بلورات ناتج الترسيب الملتصق باستخدام طريقة تحليل حيود الأشعة السينية؛ وكنتيجة « تمت ملاحظة أن ناتج الترسيب كان عبارة عن سلفات زنك مونو هيدرات (سلفات زنك مونو هيدرات؛ 205011:0) كما هو مبين في الشكل 8. يمكن أن يلتصق سلفات زنك مونو هيدرات المترسب بالجزء الداخلي لأنابيب وأجهزة؛ والذي يمكن أن يقلل ناتج الجهاز. بالتالي؛ عندما يكون تركيز الزنك في محلول سلفات الزنك 145 جم/ملل ¢ كان من الممكن ترسيب 5 واستخلاص الحديد فى محلول سلفات الزنك فى صورة هيماتايت عندما تكون درجة الحرارة 135 درجة مئوية أو أعلى تحت ضغط 0.8 ميجا باسكال (7 بار قياسي).
3 Judi ‏تم تعديل قدرة الأكسدة-الاختزال إلى -400 مل فولط (في مقابل كلوريد فضة / فضة) باستخدام‎ ‏محلول سلفات زنك يتضمن تركيز زنك 145 جم/ملل؛ تركيز حديد‎ (Jal ‏مسحوق الزنك كعامل‎ ‏لمدة ساعتين في‎ Je lal) ‏وتم تنفيذ‎ (CDS gig ‏جم/ملل وتم إدخال درجة حموضة 5 4 في‎ 12 4 5 15) ‏الحالة حيث تم تعديل الضغط إلى 0.6 ميجا باسكال (5 بار قياسي) إلى 1.6 ميجا باسكال‎ apd ‏بعدها يتم تقليل‎ cage ‏بار قياسي) بواسطة إدخال أوكسيجين عند درجة حرارة 145 درجة‎ ‏الحرارة إلى درجة حرارة الغرفة. تم تنفيذ تفاعل ترسيب الحديد في المثال 3 بدون إدخال بذور‎
هيماتايت.
الجدول 3 ‎١ gag‏ المثال | ‎Jud] Jad‏ | المثال | المثال ‎Tu 6‏ اي 8 اي 9 أي 10 اي !1 04 ]06 ]08 ]09 ]11 16 ضغط باسكال | باسكال | باسكال ‎Jal]‏ | باسكال | باسكال بار (3 ‎١‏ بار (5ا بار (7 | بار (8 | بار (10 | بار )15 قياسي) | قياسي) | قياسي) !| قياسي) | قياسي) | قياسي) الحديد ‎da)‏ ]35 ا12 ]05 ]05 )04 |04 محلول |( البعدي | الكبريتيك 1 )212 2127 21.5 22.1 223 (جم/ملل ( الحديد في ناتج ِ 2 50.1 5666 56.9 5727 +582 الترسيب (7)
كر أن ع ا نا ا 71.8 90.3 1 968 +971
الحديد (7)
‎Zl‏ سلفات
‎X X X X X X | ‏زنك مونو‎
‏هيدرات ‏يتعلق الجدول 3 بسلوك ترسيب الحديد بشكل معتمد على ضغط وفقا للمثال 3. بالإشارة إلى الجدول 3 تم الحصول على هيماتايت يتضمن محتوى حديد 750 أو أكثر في ناتج ترسيب الحديد عند ضغط 0.6 ميجا باسكال (5 بار قياسي) أو أكثر. في الكشوف الخاصة بالأمثلة 1 إلى 3 تم تنفيذ
‏5 عملية ترسيب الحديد في الحالة حيث لم يتم إدخال بذور هيماتايت. تمت ملاحظة أنه يتم تكوين
‏هيماتايت عند درجة حرارة عملية منخفضة نسبيا (تتفاوت من حوالي 135 درجة مئوية إلى 150 درجة مئوية) وضغط (تتفاوت من حوالي 0.6 ميجا باسكال (5 بار قياسي) إلى 1.1 ميجا باسكال (10 بار قياسي)) حتى إذا لم يتم إدخال بذور الهيماتايت. الشكل 9 عبارة عن مخطط تثبيت جهاز أوتوكلاف وفقا لأحد نماذج الكشف الحالي.
‏0 بالإشارة إلى الشكل 9 يتضمن جهاز أوتوكلاف أوتوكلاف أول وثاني 1100 و100ب مهياً لإدخال أوكسيجين فيه لأكسدة الحديد (11) الذي تم احتواؤه في محلول سلفات زنك لإنتاج هيماتايت؛ الأوعية الومضية الأولى والثانية 200 و200ب مهيأة لفك ضغط محلول تفاعل ‎Me‏ الضغط المفرغ من الأوتوكلاف الثاني 100ب إلى الضغط الجوي؛ ومبرد 300 ‎Lge‏ لتبريد محلول سلفات زنك الذي يتضمن درجة حرارة حوالي 100 درجة مئوية غير مضغوط في الأوعية الومضية الأولى والثانية
‏5 200 و200ب بحيث يمكن ترشيح محلول سلفات زنك غير المضغوط باستخدام ضاغط مرشح. يمكن أن تكون البنية؛ حيث يتم توصيل الأوتوكلاف الأول والثاني 1100 و100ب والأوعية الومضية الأولى والثانية 1200 و200ب؛ أساسا هي نفس تلك الموضحة بالإشارة إلى الشكل 5. يتم تسخين محلول العملية الذي يعمل كمحلول مبادل حراري للمبرد 300 ويعد ذلك يتم تسخينه بواسطة السخانات الأولى والثانية 310 و320 باستخدام البخار المستخلص في السخانات الأولى
‏0 ولثانية 310 و320. بعد ذلك؛ يتم تسخين محلول العملية إلى درجة حرارة التفاعل النهائية في مبادل
حراري 330 مهياً لمبادلة ‎shall‏ باستخدام ‎GA‏ وبعد ذلك يتم الإدخال في الأوتوكلاف الأول 1100 في النموذج ‎Jal)‏ تتم تهيئة الوعاء الومضي ليتم تقسيمه في الوعاء الومضي الأول 200 والوعاء الومضي الثاني 200ب لتحسين الفعالية الحرارية بالتالي لتحسين معدل استخلاص البخار عند تسخين محلول العملية بواسطة البخار المولد في الوعاء الومضي. في هذه الحالة؛ من الممكن للبخار الناتج تقليل فقد الطاقة بواسطة تسخين محلول العملية مباشرة باستخدام السخان ‎heater‏ الأول 310 والسخان الثاني 320؛ بينما يتم توصيله بشكل مناظر الوعاء الومضي الأول 1200 والوعاء الومضي الثاني 200ب. كما هو مبين أعلاه؛ في النموذج الحالي؛ بواسطة إدخال محلول العملية في الأوتوكلاف عبر ثلاثة من خطوات التسخين»؛ من الممكن استخلاص 790 أو أكثر من طاقة محلول 0 العملية المفرغ من الأوتوكلاف؛ وبالتالي من الممكن تقليل مقدار البخار المستخدم للحفاظ على درجة حرارة التفاعل عند درجة حرارة عالية بواسطة 780 أو أكثر. بينما تم وصف الكشف الحالي بشكل متصل ببعض النماذج؛ يجب فهم أن هناك العديد من التعديلات والاختلافات التي يمكن تنفيذها دون الخروج من روح ومنظور الكشف الحالي؛ ‎lly‏ يمكن أن تتضح لذوي الخبرة في المجال الذي ينتمي إليه الكشف الحالي. من الممكن فهم أن هذه التعديلات 5 والاختلافات تنتمي إلى منظور عناصر الحماية الملحقة هنا. قائمة التتابع: ‎IFT‏ ‏ب" ‎SL‏ ‏'ج' .| محلول إدخال عملية التكييف 0 “د مسحوق زنك ‎A‏ عجينة التكييف ‎oa‏ ‎"J‏ هيماتيت ‎dee"‏ التعادل ‎kd 5‏ جاروسين ال" 150 درجة مثوية
— 9 2 — ‎"a‏ 40 1 درجة مثوية ان" 30 1 درجة مثوية أس" 25 1 درجة مثوية 2 20 1 درجة مثوية "قف" زاوية - ثيتا "لص" ‎al]‏ اكسيد الزنك.ماء] هيدرات زنك سلفات/جينيجيات» تزامن

Claims (3)

عناصر الحماية
1. أوتوكلاف ‎autoclave‏ عمودي للاستخدام بعملية رطبة ‎wet process‏ لمعدن يتضمن فتحة مدخل يتم خلالها إدخال محلول عملية ‎(process solution‏ فتحة مخرج والتي يتم خلالها تفريغ محلول العملية ‎process solution‏ فتحة مدخل أوكسيجين ‎oxygen‏ يتم خلاله توفير الأوكسيجين ‎oxygen‏ ‏إلى محلول العملية ‎«process solution‏ قلاب ‎agitator‏ مهياً لخلط محلول العملية ‎solution‏ 0106855 جدار داخلي ¢ طبقة من الطوب المقاومة للحمض ‎acid-resistant brick layer‏ مبطنة على ‎ey»‏ سفلي وجزء جانبي من الجدار الداخلي؛ وطبقة معدنية مقاومة للحمض ‎acid-resistant metal layer‏ مبطنة على جزه علوي من الجدار الداخلي؛ طبقة ‎ll‏ مقاومة للتأكل ‎abrasion-resistant brick layer‏ ومقاومة للحمض ‎acid-resistant‏ متراصة لتمتد من الجزء السفلي للجدار الداخلي إلى ‎ad‏ الجانبي من الجدار الداخلي بحيث يكون ‎Sad)‏ ‏0 السفلي والجزءٍ الجانبي من الجدار الداخلي مبطن بطبقة قالب مقاومة للحمض ‎acid-resistant brick‏ ‎clayer‏ وطبقة معدن مقاومة للحمض ‎acid-resistant metal layer‏ مبطنة بالجزءٍ العلوي من الجدار الد اخلي .
2. الأوتوكلاف ‎autoclave‏ العمودي وفقا لعنصر الحماية 1 حيث يتضمن الأوتوكلاف ‎autoclave‏ ‏5 العمودي قطر داخلي بداية من 5.5 م.
3. الأوتوكلاف ‎autoclave‏ العمودي وفقا لعنصر الحماية 1 حيث يتضمن الأوتوكلاف ‎autoclave‏ ‏العمودي حجم داخلي بداية من 150 ‎Pe‏ ‏0 4. الأوتوكلاف ‎autoclave‏ العمودي وفقا لعنصر الحماية 1؛ حيث يبلغ حجم محلول العملية ‎process solution‏ بداية من 100 ‎a‏ عند تشغيل الأوتوكلاف ‎autoclave‏ العمودي.
5. الأوتوكلاف ‎autoclave‏ العمودي ‎Wy‏ لعنصر الحماية 1 يتضمن أيضا حلقة غطائية ‎cap ring‏ والتي تغطي جزء علوي من طبقة الطوب المقاومة للحمض ‎acid-resistant brick layer‏ على الجزءٍ 5 الجانبي من الجدار الداخلي.
6. الأوتوكلاف ‎autoclave‏ العمودي وفقا لعنصر الحماية 5؛ يتضمن أيضا طبقة غشائية ‎membrane layer‏ مقدمة بين الجدار الداخلي وطبقة الطوب المقاومة للحمض ‎acid-resistant brick‏ ‎layer‏ ‏حيث يتم توفير الطبقة الغشائية ‎membrane layer‏ لتمتد بين الجزءٍ العلوي من طبقة الطوب المقاومة للحمض ‎acid-resistant brick layer‏ والحلقة الغطائية ‎.cap ring‏
7. الأوتوكلاف ‎autoclave‏ العمودي وفقا لعنصر الحماية 5؛ يتضمن أيضا مجموعة من الأضلاع التي توصل الحلقة الغطائية ‎cap ring‏ والطبقة المعدنية المقاومة للحمض ‎acid-resistant metal‏ ‎layer‏
8. الأوتوكلاف ‎autoclave‏ العمودي وفقا لعنصر الحماية 7 حيث يتم تكوين الحلقة الغطائية ‎cap‏ ‏8 ومجموعة الأضلاع من نفس مادة الطبقة المعدنية المقاومة للحمض ‎acid-resistant metal‏ ‎layer‏
5 9. الأوتوكلاف ‎autoclave‏ العمودي وفقا لعنصر الحماية 7( حيث يتم تكوين الفراغات بين مجموعة لأضشلاع؛ الحلقة الغطائية ‎cap ring‏ والطبقة المعدنية المقاومة للحمض ‎acid-resistant metal‏ ‎layer‏
‏0. الأوتوكلاف ‎autoclave‏ العمودي وفقا لعنصر الحماية 1؛ حيث يتم وضع فتحة المدخل في 0 الجزءِ العلوي من الجدار الداخلي؛ ويتم وضع فتحة المخرج في ‎shall‏ الجانبي من الجدار الداخلي.
1. الأوتوكلاف ‎autoclave‏ العمودي ‎Uy‏ لعنصر الحماية 10؛ حيث تمتد فتحة المدخل إلى داخل الأوتوكلاف ‎autoclave‏ العمودي ؛ وعند تشضغيل الأوتوكلاف ‎autoclave‏ العمودي» يتم غمر أحد أطراف فتحة المدخل في محلول العملية ‎solution‏ 0106655.
2. الأوتوكلاف ‎autoclave‏ العمودي ‎lg‏ لعنصر الحماية 1؛ حيث يتم وضع فتحة المدخل وفتحة المخرج في ‎gall‏ الجانبي من الجدار الداخلي؛ ويتم وضع فتحة المدخل عند موضع أعلى من فتحة
— 2 3 — المخر ‎z‏
‎٠.3‏ لأوتوكلاف ‎autoclave‏ العمودي وفقا لعنصر الحماية 1؛ حيث يتم وضع فتحة مدخل الأوكسيجين ‎oxygen‏ في ‎all‏ السفلي للجدار الداخلي؛ و ويتضمن ‎١‏ لأوتوكلاف ‎autoclave‏ العمودي أيضا: خط إدخال الأوكسيجين ‎oxygen‏ متصل بفتحة مدخل الأوكسيجين ‎foxygen‏ و ومسار ماء تبريد موضوع ليحيط يفتحة مدخل ‎١‏ لأوكسيجين ‎-0xygen‏
‏4. الأوتوكلاف ‎autoclave‏ العمودي وفقا لعنصر الحماية 13؛ يتضمن أيضا خط بخار عالي 0 الضغط متصل بخط إدخال الأوكسيجين ‎oxygen‏ حيث يتم توفير البخار خلال خط البخار ‎Sle‏ ‏الضغط إلى فتحة مدخل الأوكسيجين ‎oxygen‏
‏5. الأوتوكلاف ‎autoclave‏ العمودي وفقا لعنصر الحماية 1؛ حيث؛ عند تشغيل الأوتوكلاف ‎autoclave‏ العمودي» يتم تعديل مستوى ماء محلول العملية ‎process solution‏ في الأوتوكلاف ‎autoclave 5‏ العمودي ليكون أقل من ‎gia‏ علوي من طبقة الطوب المقاومة للحمض ‎acid-resistant‏ ‎brick layer‏ المتوفرة على ‎all‏ الجانبي من الجدار الداخلي.
6. الأوتوكلاف ‎autoclave‏ العمودي وفقا لعنصر الحماية 1؛ حيث يتم تبطين الطبقة المعدنية المقاومة للحمض ‎acid-resistant metal layer‏ لتمتد إلى طرف علوي من ‎gall‏ الجانبي من الجدار 0 الداخلى.
7. الأوتوكلاف ‎autoclave‏ العمودي وفقا لعنصر الحماية 16؛ حيث؛ عند الطرف العلوي ‎gall‏ ‏الجانبي من الجدار الداخلي؛ تمتد الطبقة المعدنية ‎metal layer‏ المقاومة للحمض ‎acid-resistant‏ بين الجدار الداخلي وطبقة الطوب المقاومة للحمض ‎.acid-resistant‏ ‏25
‏8. جهاز أوتوكلاف ‎autoclave‏ يتضمن أوتوكلاف ‎autoclave‏ أول وأوتوكلاف ‎autoclave‏ ثاني؛ متصلين بالتسلسل؛
حيث كل من الأوتوكلاف ‎autoclave‏ الأول والأوتوكلاف ‎autoclave‏ الثاني عبارة عن أوتوكلاف ‎autoclave‏ عمودي للاستخدام بعملية رطبة ‎wet process‏ لمعدن يتضمن فتحة مدخل يتم خلالها إدخال محلول عملية ‎process solution‏ فتحة مخرج والتي يتم خلالها تفريغ محلول العملية ‎process‏ ‎(solution‏ فتحة مدخل أوكسيجين ‎oxygen‏ يتم ‎DIA‏ توفير الأوكسيجين ‎oxygen‏ إلى محلول العملية ‎process solution‏ ¢ قلاب ‎agitator‏ مهياً لخلط محلول العملية ‎«process solution‏ جدار داخلي» طبقة من الطوب المقاومة للحمض ‎acid-resistant brick layer‏ مبطنة على جزءِ سفلي ‎yng‏ ‏جانبي من الجدار الداخلي » وطبقة معدنية مقاومة للحمض ‎acid-resistant metal layer‏ مبطنة على
جز علوي من الجدار الداخلي؛ طبقة ‎ll‏ مقاومة للتأكل ‎abrasion-resistant brick layer‏ ومقاومة للحمض ‎acid-resistant‏ متراصة
0 لتمتد من ‎all‏ السفلي للجدار الداخلي إلى ‎all‏ الجانبي من الجدار الداخلي بحيث يكون ‎Sad‏ ‏السفلي والجزء الجانبي من الجدار الداخلي مبطن بطبقة قالب مقاومة للحمض ‎acid-resistant brick‏ ‎clayer‏ وطبقة معدن مقاومة للحمض ‎acid-resistant metal layer‏ مبطنة بالجزءٍ العلوي من الجدار الد اخلي .
5 19. جهاز الأوتوكلاف ‎autoclave‏ وفقا لعنصر الحماية 18( يتضمن أيضا أنبوب توصيل الذي يوصل الأوتوكلاف ‎autoclave‏ الأول والأوتوكلاف ‎SBN autoclave‏ ببعضهما ‎(andl‏ ‏حيث يتناظر جانب تيار علوي لأنبوب التوصيل مع فتحة مخرج الأوتوكلاف ‎autoclave‏ الأول؛ وبتناظر جانب تيار سفلي لأنبوب التوصيل مع ‎dah‏ مدخل الأوتوكلاف ‎autoclave‏ الثاني.
‎Sea .20 0‏ الأوتوكلاف ‎autoclave‏ وفقا لعنصر الحماية 19؛ حيث؛ عند تشفغيل الأوتوكلاف ‎JY) autoclave‏ والأوتوكلاف ‎SU autoclave‏ يتم غمر فتحة مخرج الأوتوكلاف ‎autoclave‏ ‏الأول في محلول في الأوتوكلاف ‎autoclave‏ الأول ¢ ودتم غمر فتحة مدخل الأوتوكلاف ‎autoclave‏ ‏الثاني في محلول في الأوتوكلاف ‎autoclave‏ الثاني.
‏5 21. جهاز الأوتوكلاف ‎autoclave‏ وفقا لعنصر الحماية 18؛ ‎Cus‏ يتم تثبيت الأوتوكلاف ‎autoclave‏ ‏الأول عند موضع أعلى من الأوتوكلاف ‎autoclave‏ الثاني.
— 4 3 — 22 جهاز الأوتوكلاف ‎autoclave‏ وفقا لعنصر الحماية ¢18 يتضمن أيضاً ‎slog‏ ومضي ‎flash‏ ‎vessel‏ متصل بفتحة مخرج الأوتوكلاف ‎autoclave‏ الثاني.
3. طريقة إزالة الملح من الأوتوكلاف ‎autoclave‏ العمودي وفقاً لعنصر الحماية 1؛ تتضمن الطريقة: رفع مستوى سطحي لمحلول العملية ‎solution process‏ في الأوتوكلاف ‎autoclave‏ العمودي من مستوى أول إلى مستوى ثاني بحيث يتم غمر الملح في الأوتوكلاف ‎autoclave‏ العمودي في محلول العملية ‎¢solution process‏ و الحفاظ على المستوى السطحي لمحلول العملية ‎solution process‏ عند المستوى الثاني ‘ حيث تتم ‎aly‏ الملح في محلول العملية ‎solution process‏ مع ‎Leal‏ على المستوى السطحي لمحلول العملية ‎solution process‏ عند المستوى الثاني.
4. الطريقة ‎Wy‏ لعنصر الحماية 23 حيث الملح قابل للحل في الماء. 5 25. الطريقة وفقا لعنصر الحماية 23 حيث يتم تنفيذ عملية الحفاظ على المستوى السطحي لمحلول العملية ‎solution process‏ عند المستوى الثاني لمدة ساعة إلى ست ساعات.
6. الطريقة وفقا لعنصر الحماية 23 تتضمن أيضا خفض المستوى السطحي لمحلول العملية ‎solution process‏ من المستوى الثاني إلى المستوى الأول.
7. الطريقة وفقا لعنصر الحماية 23 حيث المستوى الثاني أقل من المستوى السطحي الأعلى لطبقة الطوب المقاومة للحمض ‎.acid-resistant brick layer‏
8. الطريقة وفقا لعنصر الحماية 23 ‎Cus‏ يتضمن الأوتوكلاف ‎autoclave‏ العمودي أيضاً حلقة 5 غطائية ‎cap ring‏ والتي تغطي ‎eda‏ علوي من طبقة الطوب المقاومة للحمض ‎acid-resistant brick‏ ‎Tayer‏ على الجزءِ الجانبي من الجدار الداخلي.
— 5 3 —
9. الطريقة وفقا لعنصر الحماية 28 حيث المستوى الثاني أقل من المستوى السطحي الأدنى للحلقة الغطائية ‎.cap ring‏ ee Ys 3 i = ‏لحب‎ ‏زر © ب‎ 7 ‏م‎ J
AY. \ } 1 i a Vor Fe A
1. I Ae | i ‏ل- ا ب‎ ‏لبد حب‎ 7 ia ‏ص2 [(ب.‎ i) ‏كم يال ال‎ ‏أ ا‎ wt * ‏ض‎ ,
Be. ‏مح‎ i AL Sey, ‏"اب‎ # | \ 1S 7
Yan i y + + === pr 7 \ {I ‏سي‎ ‎YE 2 As ‏ل - الا بي‎ fd © 2 Y. fo, ~LJ ‏الل‎ Cl ‏الا‎ ‎5 ‏رن اه‎ . mT] Hg mb NS A i} jv x 0 |ّ ‏ميات سس لاس م ل ل سيا‎ : a FS ‏شكل اب‎ wf
— 8 3 — ا ‎ye‏ ‎Sr‏ ‎A J J‏ الل ‎ve‏ ‏5 = — أ أ ‎J‏ نفس سس اها 8 4 ‎Pp‏ سخ ‎je‏ ‎Ee‏ الل 14“ ‎ot ‘‏ ب لأسا اا سا اا ا حي > و
‎yp.‏ ; ‎zc \ C 4‏ » لآب
— 3 9 — Ya AE = aN TTR AY ‏ا"‎ , veh J+" TE = Aa Oa i i ‏صن ارج تب‎ ْ 4 {oy ‏د‎ ‎vl ‏مانا‎ ‏م ِّ ا‎ it TH ‏أي‎ ‏75ل نانم‎ ٍ ٍ ve ‏ب‎ ‎1 qi TTT ha x =r د١ ‏شكل‎
‎TTT TT‏ 4 ض اط ‎AY‏ ! "~ ‎f > - i‏ ل د "0 ‎io, A — |‏ للم ‎i)‏ ‏( الا 4 “ لالد . ِ شكل ؟
-4 1 — TTT TT ‏د‎ ‎ ‎v < $e
‏وول‎ ‎١ Va $x YY A ‏ل مس‎ {IF = ATT | 0 ‏7سا‎ ‎; 4 Hs ‏امس وام‎ - Jd ‏قي‎ ٍ i ‏و‎ ‎ia To ~~ C= = it. Lila jv. / ‏وإ“‎ ‏لآب‎ ٠ } ¢ ‏شكل‎
Yas 4 + i" £ * 1 ‏ل[‎ ‏اسم‎ \ dh Hf Ve A As ‏ل‎ qb of & a 5 - id ‏يقب‎ A ie Tee I ; A ‏ال‎ CO ‏كا‎ ‏سب‎ Ig Eo a .
i. = / Sg a ‏لآب‎ » ‏شكل؛ب‎
‏مل‎ ‎8 * ‏ع سس‎ = — 7 \ AY nd A . A = ( 7 As A 4d ‏د ب‎ | Ye ov ~~ ~~ eA LL] i ie ‏نس طم‎ ‏يد‎ a Se ‏و‎ ‎: FA = ¢ Jed
Yan 3 \ 7 £ *
==. 2 ‏ال“‎ ‏آم‎ ‎Vora A Pa = ‎Ue‏ .م ‎ll‏ ض ‎i J‏ - .8 & ‎٠ | 9‏ يب ‎A‏ ) .10 ‎BE‏ ل[الا] الل اال ‎Joh !‏ : بر حم : ‎i‏ ‎٠ ~~‏ 1 . ان % س0 ّ شكل ؛د وب i Yao wt ¥ ‏اج‎ ‎£ } i + ir Sy to ‏أي‎ ‎3 ‏أ‎ A . PF . So FER wad Fume No i NR 0 GFE Re APN 3 . WN i : Ee NAT \ Hos wtf a ‏ا‎ ai ‏ولا ب أ‎ J 5 ‏ا | مسرم‎ A ron” : i 3 ' A ' 3 tos ‏لبالا‎ ne ‏مالي‎ ‎I ‏اال‎ 1 1 3 i 2 5 2 ) ‏الخ اه‎ Hav 75 ‏ماع‎ ‎2 ey ‏مسا‎ ٍ i i } } TI ‏بالى لحب‎ | 1 CORE ‏سبال‎ i TTR — fae IARI i : : x dh Fer i : {ore 1 i dee ‏لا‎ 1 Ji! 5 : AL ‏اللاي‎ EA No? wt eR ‏ال‎ | J | } fry ES fas iy Sse Ye Yor SI . a ¥ 8 * ‏ل ب"‎ ES 3 ‏ل‎ ‎3 4 [7 J ‏ايت‎ 4 ‏لاب‎ \ z ws ه٠ ‏شكل‎
_ 4 7 _ & * ١ 1 ‏و — بان ال"‎ ro [Che ‏اقل‎ o C ‏ض م‎ = : 3 "JS
—_ 4 8 —_ ‏لز 5 د اس جح‎ : 1 i gh ‏ا‎ ‎“ 3 Yass : LE — & i & & “ow ‏د‎ & # i 1 1 3 : A i & Nd h ‏اد‎ ‏جم مل‎ A ‏مدي يا امي يجيا امس ريسا أطي الب اب قب‎ A ‏ل ل يخ ابس يه اليدميع‎ inn ‏ااا ا ل‎ A Yasal i ‏م‎ » a Mig } i A 1 & Ah - \ \ hada AAR A oo AA aie / ‏اناب‎ PARLEY I SA 7 | to 3 «+ i 3 | ‏هد‎ A Fa 1 ‏ل‎ ‎; 3 ¢ af Fy ١ ‏ال‎ & listo Sea gh re phn 5 Bhan ‏طوطن اومن‎ sand ie ions a A paisa Pr nt rene : Cv i Veedd | | ’ 8 a A ‏وو‎ & 1 | A & | A : i ] & i EA 1 t ‏لم‎ ‏سير نيما‎ » pti J k ‏ضمي الي ايد لا‎ Ak kd £4, Aired ‏يمينا"‎ 1 timated ‏لجن‎ a A ‏الم امعطم باكر‎ Spr ition, i ® 2 Ta . + ‏عا‎ AT + Tem gant ‏ء‎ iad 4 ‏ا‎ oF ‏المي‎ | Nd ‏يا‎ oii Bre ‏ما أدب لم يغ‎ ue 4 A . ROL WO, TLR A ‏كر الى يميت جلا ل ل رمحم‎ Ye w © ) ‏ري« م« ا و‎ ) <7 V ‏شكل‎
إ جد د ده ددم هعم همه عه د عد تخد خخ > > عت عه ع تح عدخ تح خم ع د عد تع تح خم ع ع د تح خخ حت خخ اح خم خخ تح خخ حي ‎i‏ ‏4 ‏: ‏} ‏} ‏} ‏} ‏} ‏+ ‏} ‏} ‏} ‏} ‏} ‏} ‏} ‏} ‏4 ‏} ‏} ‏} ‏} ‏} ‏} ‏4 ‏} ‏} ‏} ‏} ‏} ‏} ‏} ‏4 ‏} ‏} ‏} ‏} ‏} ‏} ‏} ‏4 ‏: } } } } } } 1 3 ‎i‏ 1 4 } } 0 1 } > :0 0 8 :1 أ 1 إْ ا ا 1 ‎A 1 A‏ } 1 امي منت ما الخال ‎NE‏ أت ب : دان ‎MA A oY‏ أ 8 ¥ 1 5 1 ِ 1
‎Ye. ¥ fs oy Tor Ya Aa‏ ا ال اال و ‎i a 0 YEN‏ ‎EN 1‏ 0 - ل ' } } } } } } } } } ‎i i‏ ‎if 1 id i Prob‏ | | \ ‎Semi Lode bod rnmmmniaa bad BL balan fe dC aaa aaa LN an‏ ‎x‏ ‏شكل ‎A‏
TE. ‏و‎ ‏ااا‎ ‎i ete oN ; : ¥ % » ¥ ¥ + ‏إٍْ‎ : Lok | = ‏و‎ ‎{ 18 ax ‏ب‎ Yue ! a > J © ‏ا‎ 4 ‏ل‎ oo ‏ا‎ 7 ٍ 9 al aU hs t : ١ 4 : { EE ‏ا ا‎ : i i Rs - i < ‏ل‎ ١ ‏مسي يس‎ i " ٍ el Le ‏سل‎ i i ٍْ ‏إٍ‎ i ‏كسس ع سس‎ . / 0 } i i ¥.. wa ¥ 9
الحاضهة الهيلة السعودية الملضية الفكرية ‎Swed Authority for intallentual Property pW‏ ‎RE‏ .¥ + \ ا 0 § ام 5 + < ‎Ne‏ ‎ge‏ ”بن اج > عي كي الج دا لي ايام ‎TEE‏ ‏ببح ةا ‎Nase eg‏ + ‎Ed - 2 -‏ 3 .++ .* وذلك بشرط تسديد المقابل المالي السنوي للبراءة وعدم بطلانها ‎of‏ سقوطها لمخالفتها ع لأي من أحكام نظام براءات الاختراع والتصميمات التخطيطية للدارات المتكاملة والأصناف ع النباتية والنماذج الصناعية أو لائحته التنفيذية. »> صادرة عن + ب ب ‎٠.‏ ب الهيئة السعودية للملكية الفكرية > > > ”+ ص ب ‎101١‏ .| لريا ‎1*١ uo‏ ؛ المملكة | لعربية | لسعودية ‎SAIP@SAIP.GOV.SA‏
SA519402309A 2018-02-13 2019-07-14 أوتوكلاف وطريقة لإزالة الملح من أوتوكلاف SA519402309B1 (ar)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180017920A KR101889681B1 (ko) 2018-02-13 2018-02-13 오토클레이브 및 오토클레이브의 염 제거방법
PCT/KR2018/001950 WO2019135442A1 (ko) 2018-02-13 2018-02-14 오토클레이브 및 오토클레이브의 염 제거방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SA519402309B1 true SA519402309B1 (ar) 2022-12-07

Family

ID=63408214

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SA519402309A SA519402309B1 (ar) 2018-02-13 2019-07-14 أوتوكلاف وطريقة لإزالة الملح من أوتوكلاف

Country Status (17)

Country Link
US (1) US10584398B2 (ar)
EP (1) EP3533518B1 (ar)
JP (1) JP6647459B1 (ar)
KR (1) KR101889681B1 (ar)
CN (1) CN110382102B (ar)
AU (1) AU2018322501B2 (ar)
BR (1) BR112019012527B1 (ar)
CA (2) CA3036026C (ar)
ES (1) ES2834926T3 (ar)
MX (1) MX2019006736A (ar)
PE (2) PE20191329A1 (ar)
PL (1) PL3533518T3 (ar)
RU (1) RU2729798C1 (ar)
SA (1) SA519402309B1 (ar)
TW (1) TWI695738B (ar)
WO (1) WO2019135442A1 (ar)
ZA (1) ZA201901316B (ar)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114225875A (zh) * 2021-12-30 2022-03-25 江苏三吉利化工股份有限公司 一种邻苯二酚合成呋喃酚的高效装置

Family Cites Families (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2028968A (en) * 1932-08-25 1936-01-28 Texas Co Lining for vessels
JPS60101489A (ja) 1983-11-08 1985-06-05 Nippon Kokan Kk <Nkk> 金属水素化物を利用した熱交換器
FR2580192B1 (fr) * 1985-04-11 1993-05-07 Atochem Autoclave vertical et procede de preparation en masse de polymeres et copolymeres a base de chlorure de vinyle
JPH0551628A (ja) 1991-08-23 1993-03-02 Kobe Steel Ltd チタン製刃物及びその製造方法
JP3186800B2 (ja) 1991-09-19 2001-07-11 積水化学工業株式会社 発泡性ポリオレフィン系樹脂組成物
CN2112626U (zh) * 1991-12-03 1992-08-12 张振逵 碳酸锰热解装置
JPH0551628U (ja) * 1991-12-13 1993-07-09 株式会社芦田製作所 竪型オートクレーブ
JPH0578513U (ja) * 1992-03-30 1993-10-26 株式会社芦田製作所 竪型オートクレーブ
US5489326A (en) * 1994-10-04 1996-02-06 Barrick Gold Corporation Gold recovery using controlled oxygen distribution pressure oxidation
US5980606A (en) 1996-03-22 1999-11-09 Steel Technology Corporation Method for reducing sulfuric content in the offgas of an iron smelting process
JP2002153835A (ja) 2000-11-16 2002-05-28 Nkk Corp 重金属を含有する塩類の処理方法
US6576185B2 (en) * 2000-12-28 2003-06-10 General Atomics System and method for hydrothermal reactions-three layer liner
US6725787B2 (en) * 2002-03-11 2004-04-27 Weyerhaeuser Company Refractory vessel and lining therefor
US7604783B2 (en) * 2004-12-22 2009-10-20 Placer Dome Technical Services Limited Reduction of lime consumption when treating refractor gold ores or concentrates
JP2010510160A (ja) * 2006-11-16 2010-04-02 アルベマール・ネーザーランズ・ベーブイ 工業用酸化モリブデンの精製
DE102007063346A1 (de) * 2007-12-28 2009-07-02 Uhde Gmbh Siliziumentfernung aus Salzsole
CN101318121A (zh) 2008-07-23 2008-12-10 胜利油田新邦化工有限责任公司 用于生产絮凝剂的反应罐
US20110174113A1 (en) * 2010-01-18 2011-07-21 Gme Resources Ltd. Acid Recovery
CN201648482U (zh) 2010-02-11 2010-11-24 宝色特种设备有限公司 新型高压浸出釜
CN201793684U (zh) 2010-09-29 2011-04-13 长沙有色冶金设计研究院 一种调节槽
CN101973621B (zh) * 2010-10-15 2012-03-28 西安交通大学 带牺牲内衬的折流罐式超临界水处理反应器
CN201844202U (zh) * 2010-11-04 2011-05-25 株洲冶炼集团股份有限公司 一种防止亚硫酸钠结晶堵塞管道的装置
CN102086111B (zh) * 2010-11-23 2012-07-04 江苏瑞诚非金属材料有限公司 耐酸耐高温耐高压陶砖及其制备方法
CN102191932A (zh) * 2011-04-08 2011-09-21 太原理工大学 钙芒硝矿原位注热浸泡控制水溶开采方法
JP5387755B2 (ja) 2012-04-26 2014-01-15 住友金属鉱山株式会社 高圧酸浸出工程におけるオートクレーブへの原料スラリーと硫酸の添加方法及びオートクレーブ
BR112014029118A2 (pt) 2012-05-30 2017-06-27 Bayer Cropscience Ag composições que compreendem um agente de controle biológico e um inseticida
JP5418660B2 (ja) 2012-06-19 2014-02-19 住友金属鉱山株式会社 高圧酸浸出工程におけるオートクレーブ装置
CN103111445A (zh) * 2012-12-25 2013-05-22 中国第一汽车股份有限公司 去除管道壁上尿素结晶的清洗方法
CN203525671U (zh) * 2013-03-19 2014-04-09 浙江海亮固废处理科技有限公司 一种高速稳定釜
CN203196372U (zh) * 2013-04-22 2013-09-18 金川集团股份有限公司 一种立式加压浸出装置
CN203400714U (zh) * 2013-07-23 2014-01-22 平顶山市凯斯特染料有限公司 搪瓷反应釜温度计护套及其搪瓷反应釜
GB2536781B (en) 2013-08-15 2018-10-10 Hatch Ltd Multi-compartment reactor and method for controlling retention time in a multi-compartment reactor
CN203663827U (zh) * 2013-10-11 2014-06-25 金川集团股份有限公司 一种玻璃钢卧式氯化浸出釜
CN103769024B (zh) * 2014-02-21 2015-08-12 胡光雄 一种气或液力搅拌复合防腐耐磨耐高温反应釜
CN204275959U (zh) * 2014-12-10 2015-04-22 吉林工业职业技术学院 一种高分子化工反应微波搅拌炉
MX364699B (es) * 2014-12-16 2019-05-06 Smidth As F L Sistema y metodo para la lixiviacion de sulfuros metalicos por arriba de la presion atmosferica.
CN204619920U (zh) 2014-12-25 2015-09-09 江苏常州酞青新材料科技有限公司 一种涂料立式反应釜
CN104595724A (zh) * 2014-12-31 2015-05-06 天津渤化中河化工有限公司 一种便于清理的粗酐输送管路
CN204447945U (zh) 2015-02-03 2015-07-08 中矿潞城石膏实验基地 一种立式蒸压釜
KR20160124525A (ko) * 2015-04-20 2016-10-28 주식회사 위코테크 고온 고압 산화 반응기
CN106283637B (zh) * 2016-08-31 2018-06-19 河南省科学院同位素研究所有限责任公司 一种pp-st-dvb基强碱离子交换纤维的胺化工艺改进方法
CN206577608U (zh) * 2016-11-21 2017-10-24 赵有生 溶盐桶
CN206229350U (zh) * 2016-11-21 2017-06-09 榆林学院 一种反应釜
CN206494958U (zh) * 2016-11-29 2017-09-15 云锡文山锌铟冶炼有限公司 用于湿法炼锌的除铁系统
CN206325413U (zh) * 2016-12-12 2017-07-14 湖南杉杉能源科技股份有限公司 一种溶解釜
CN106523050B (zh) * 2016-12-16 2018-08-10 北京科技大学 复合动力循环系统及其运行方法及发电系统

Also Published As

Publication number Publication date
BR112019012527A2 (pt) 2020-03-03
WO2019135442A1 (ko) 2019-07-11
BR112019012527B1 (pt) 2021-04-27
CA3091039C (en) 2021-11-30
CA3091039A1 (en) 2019-06-12
US20190249272A1 (en) 2019-08-15
CN110382102B (zh) 2022-03-11
EP3533518A4 (en) 2019-12-11
JP2020506793A (ja) 2020-03-05
PL3533518T3 (pl) 2021-06-14
ZA201901316B (en) 2021-06-30
PE20240347A1 (es) 2024-02-27
ES2834926T3 (es) 2021-06-21
TW201934194A (zh) 2019-09-01
US10584398B2 (en) 2020-03-10
CA3036026A1 (en) 2019-06-12
TWI695738B (zh) 2020-06-11
RU2729798C1 (ru) 2020-08-12
AU2018322501A1 (en) 2019-08-29
CN110382102A (zh) 2019-10-25
CA3036026C (en) 2020-10-06
EP3533518B1 (en) 2020-10-28
EP3533518A1 (en) 2019-09-04
AU2018322501B2 (en) 2020-02-27
KR101889681B1 (ko) 2018-08-17
JP6647459B1 (ja) 2020-02-14
PE20191329A1 (es) 2019-09-25
MX2019006736A (es) 2019-09-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AU745105B2 (en) Low density high surface area copper powder and electrodeposition process for making same
SA519402309B1 (ar) أوتوكلاف وطريقة لإزالة الملح من أوتوكلاف
RU2315818C2 (ru) Получение диоксида титана
US20110136198A1 (en) Hydrometallurgical procedure for the production of ferric-sulfate from fayalite slag
US7455715B2 (en) Heap bioleaching process for the extraction of zinc
MXPA02005934A (es) Proceso para la produccion electrolitica de zinc o de compuestos de zinc de alta pureza a partir de materias primas primarias y secundarias de zinc.
CN105008559A (zh) 脱锌设备的操作方法
JP6805907B2 (ja) 粗硫酸ニッケル溶液の製造方法
WO2018162951A1 (en) System and method for processing of minerals containing the lanthanide series and production of rare earth oxides
JP7298126B2 (ja) ニッケル酸化鉱石のオートクレーブ装置
JP5288778B2 (ja) 重金属含有粉末の処理方法
CN114728863B (zh) 在加压氧化高压釜和/或相邻回路中减少含CaSO4和Fe2O3沉积物的形成
JP6743859B2 (ja) 亜鉛の分離方法、亜鉛材料の製造方法および鉄材料の製造方法
CN111118298B (zh) 一种除杂沉铜渣与铜钴矿酸浸渣混合洗涤除杂并提高铜钴回收率的方法
Taggart Evaluating the effect of alternative neutralising agent and seeding on the zinc recovery through the Zincor iron removal circuit
FI127830B (en) Procedure for processing the black mass in used alkaline batteries
CN116770101A (zh) 一种钠化钒液除铬底流中回收钒的系统及其方法
JP2015124134A (ja) 電気ニッケル製造プロセスにおける炭酸ニッケルの製造方法
PL194843B1 (pl) Sposób wytwarzania cynku czystego na drodze hydroelektrometalurgicznej oraz układ urządzeń do wytwarzania cynku elektrolitycznego
PL194017B1 (pl) Sposób wytwarzania siarczanu cynkowego z utlenionych koncentratów cynkowych i układ urządzeń do otrzymywania siarczanu cynkowego na drodze hydrometalurgicznej
PL197348B1 (pl) Sposób otrzymywania metalicznego kadmu z materiałów kadmonośnych, (54) zwłaszcza pyłów prażalniczych i układ urządzeń do otrzymywania kadmu na drodze hydropirometalurgicznej
PL210033B1 (pl) Sposób oczyszczania surowych tlenków pochodzących z przerobu pyłów w procesie Waelza