RU2018107396A - Слои для минимизации влияния дефектов в электрохромных устройствах - Google Patents
Слои для минимизации влияния дефектов в электрохромных устройствах Download PDFInfo
- Publication number
- RU2018107396A RU2018107396A RU2018107396A RU2018107396A RU2018107396A RU 2018107396 A RU2018107396 A RU 2018107396A RU 2018107396 A RU2018107396 A RU 2018107396A RU 2018107396 A RU2018107396 A RU 2018107396A RU 2018107396 A RU2018107396 A RU 2018107396A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- layer
- substrate
- item
- particles
- particle removal
- Prior art date
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims 52
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 40
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 35
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 19
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 8
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims 6
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims 6
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 3
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/028—Physical treatment to alter the texture of the substrate surface, e.g. grinding, polishing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0635—Carbides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0641—Nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0641—Nitrides
- C23C14/0652—Silicon nitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0676—Oxynitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/081—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/083—Oxides of refractory metals or yttrium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/086—Oxides of zinc, germanium, cadmium, indium, tin, thallium or bismuth
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1306—Details
- G02F1/1309—Repairing; Testing
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133345—Insulating layers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
- G02F1/1514—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material
- G02F1/1523—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material comprising inorganic material
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
- G02F1/1514—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material
- G02F1/1523—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material comprising inorganic material
- G02F1/1524—Transition metal compounds
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
- G02F1/153—Constructional details
- G02F1/1533—Constructional details structural features not otherwise provided for
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
- G02F1/153—Constructional details
- G02F1/155—Electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B13/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing conductors or cables
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B5/00—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form
- H01B5/14—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form comprising conductive layers or films on insulating-supports
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3414—Targets
- H01J37/3426—Material
- H01J37/3429—Plural materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3476—Testing and control
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
- G02F1/153—Constructional details
- G02F1/1533—Constructional details structural features not otherwise provided for
- G02F2001/1536—Constructional details structural features not otherwise provided for additional, e.g. protective, layer inside the cell
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
- G02F1/153—Constructional details
- G02F1/155—Electrodes
- G02F2001/1555—Counter electrode
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
- G02F2201/50—Protective arrangements
- G02F2201/506—Repairing, e.g. with redundant arrangement against defective part
- G02F2201/508—Pseudo repairing, e.g. a defective part is brought into a condition in which it does not disturb the functioning of the device
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Claims (91)
1. Способ изготовления электрохромного (EC) устройства, причем упомянутый способ содержит:
(а) прием подложки, содержащей первый прозрачный проводящий (ТС) слой или формирование первого ТС слоя на подложке;
(b) формирование на нем ЕС слоя;
(c) формирование на нем ион-проводящего (IC) слоя;
(d) после (c) выполнение операции удаления частиц, характеризующейся:
применением акустической энергии в сверхзвуковом диапазоне частот,
применение тепловой энергии с использованием лампы или лазера,
применение тепловой энергии с использованием неизлучающего механизма, и/или
операция удаления частиц выполняется вне вакуумной среды системы, используемой для осаждения слоев EC устройства; и
(e) после (d), завершение изготовления EC устройства.
2. Способ по п.1, в котором выполнение операции удаления частиц характеризуется применением акустической энергии в сверхзвуковом диапазоне частот.
3. Способ по п.1, в котором операция удаления частиц характеризуется применением тепловой энергии с использованием лампы или лазера.
4. Способ по п.1, в котором операция удаления частиц характеризуется применением тепловой энергии с использованием неизлучающего механизма.
5. Способ по п.4, в котором тепловую энергию применяют путем пропускания нагретого газа над подложкой.
6. Способ по п.4, в котором тепловую энергию применяют путем пропускания подложки над нагревателем.
7. Способ по п.1, в котором операцию удаления частиц выполняют за вне вакуумной среды системы, используемой для осаждения слоев ЕС устройства.
8. Способ по п.7, в котором операция удаления частиц содержит применение контактного валика, ленты или щетки, чтобы таким образом удалять частицы из ЕС устройства до того, как оно полностью сформировано.
9. Способ по п.1, в котором операция удаления частиц характеризуется применением тепловой энергии, которая заставляет частицы расширяться или сжиматься относительно слоя или слоев, которые окружают частицы.
10. Способ по п.9, в котором операция удаления частиц содержит облучение подложки на длине волны, которая избирательно поглощается частицами, но не слоем или слоями, которые окружают частицы.
11. Способ по п.9, в котором операция удаления частиц содержит облучение подложки на длине волны, которая избирательно поглощается слоем или слоями, которые окружают частицы, но не частицами.
12. Способ по п.1, дополнительно содержащий перед (b) резку подложки; и выполнение по меньшей мере операции (d) на разрезанной подложке.
13. Способ по п.1, в котором ЕС слой содержит электрохромный материал, который является катодно-окрашиваемым.
14. Способ по п.1, в котором ЕС слой содержит электрохромный материал, который является анодно-окрашиваемым.
15. Система для изготовления электрохромного (EC) устройства, причем упомянутая система содержит:
первую станцию для осаждения, содержащую первую мишень, содержащую первый материал для осаждения слоя EC материала на подложке, когда подложка расположена в первой станции для осаждения;
одну или более дополнительных станций для осаждения, выполненных с возможностью осаждения одного или более дополнительных слоев ЕС устройства;
устройство удаления частиц для удаления частиц с поверхности подложки и/или поверхности EC устройства до того, как оно полностью сформировано; и
контроллер, содержащий:
программные команды для пропускания подложки через станции для осаждения таким образом, чтобы последовательно осаждать структуру на подложке, причем структура содержит слой ЕС материала и слой ион-проводящего (IC) материала; и
программные команды для работы устройства удаления частиц для удаления частиц с поверхности подложки и/или поверхности ЕС устройства до того, как оно полностью сформировано, при этом устройство удаления частиц действует:
путем применения акустической энергии в сверхзвуковом диапазоне частот,
путем применения тепловой энергии с использованием лампы или лазера,
путем применения тепловой энергии с использованием неизлучающего механизма, и/или
вне вакуумной среды для первой станции для осаждения и одной или более дополнительных станций для осаждения.
16. Система по п.15, в которой устройство удаления частиц применяет акустическую энергию в сверхзвуковом диапазоне частот.
17. Система по п.15, в которой устройство удаления частиц содержит лампу или лазер, которые применяют тепловую энергию.
18. Система по п.15, в которой устройство удаления частиц применяет тепловую энергию с использованием неизлучающего механизма.
19. Система по п.18, в которой устройство удаления частиц пропускает нагретый газ над подложкой.
20. Система по п.18, в которой устройство удаления частиц содержит нагреватель, над которым проходит подложка.
21. Система по п.15, в которой устройство удаления частиц обеспечено и работает за вне вакуумной среды для первой станции для осаждения и одной или более дополнительных станций для осаждения.
22. Система по п.21, в которой устройство удаления частиц содержит контактный валик, ленту или щетку.
23. Способ изготовления электрохромного (EC) устройства, причем упомянутый способ содержит:
(а) формирование первого слоя на подложке в последовательности изготовления ЕС устройства;
(b) после (а) выполнение первой операции удаления частиц для удаления частиц с поверхности подложки;
(c) после (b) формирование второго слоя в последовательности изготовления устройства ЕС поверх первого слоя;
(d) после (c) выполнение второй операции удаления частиц на поверхности подложки; и
(e) после (d), завершение изготовления EC устройства.
24. Способ по п.23, в котором по меньшей мере одна из первой и второй операций удаления частиц содержит контактную очистку подложки по меньшей мере одним валиком, лентой или щеткой.
25. Способ по п.23, в котором по меньшей мере одна из первой и второй операций удаления частиц содержит применение акустической энергии к подложке в ультразвуковом, сверхзвуковом или мегазвуковом диапазоне частот.
26. Способ по п.23, в котором по меньшей мере одна из первой и второй операций удаления частиц содержит нанесение текучей среды на подложку.
27. Способ по п.26, в котором текучая среда содержит диоксид углерода.
28. Способ по п.26, в котором текучую среду распыляют на подложку.
29. Способ по п.23, в котором первая операция удаления частиц удаляет частицы с поверхности подложки, тем самым формируя один или более зазоров, где частицы были ранее расположены в первом слое ЕС устройства, при этом второй слой ЕС устройства формируется на первом слое ЕС устройства, тем самым по меньшей мере частично заполняя один или более зазоров.
30. Способ по п.23, дополнительно содержащий выполнение операции удаления частиц подложки, при этом операцию удаления частиц подложки выполняют на поверхности подложки до (а).
31. Способ по п.30, в котором (а) выполняют сразу после операции удаления частиц подложки.
32. Способ по п.31, в котором второй слой EC устройства формируют непосредственно на первом слое EC устройства без каких-либо промежуточных слоев.
33. Способ по п.23, в котором второй слой EC устройства формируют непосредственно на первом слое EC устройства без каких-либо промежуточных слоев.
34. Способ по п.23, в котором первый слой является прозрачным проводящим (TC) слоем, а второй слой является катодно-окрашиваемым EC слоем.
35. Способ по п.23, в котором первый слой является прозрачным проводящим (TC) слоем, а второй слой является анодно-окрашиваемым противоэлектродным (СЕ) слоем или его частью.
36. Способ по п.23, в котором первый слой является прозрачным проводящим (TC) слоем, а второй слой является изолирующим слоем для минимизации влияния дефектов (DMIL).
37. Способ по п.23, в котором первый слой является прозрачным проводящим (TC) слоем, а второй слой является ион-проводящим (IC) слоем.
38. Способ по п.23, в котором первый слой является катодно-окрашиваемым EC слоем, а второй слой является анодно-окрашиваемым противоэлектродным (СЕ) слоем или его частью.
39. Способ по п.23, в котором первый слой является катодно-окрашиваемым EC слоем, а второй слой является изолирующим слоем для минимизации влияния дефектов (DMIL).
40. Способ по п.23, в котором первый слой является катодно-окрашиваемым EC слоем, а второй слой является ион-проводящим (IC) слоем.
41. Способ по п.23, в котором первый слой является анодно-окрашиваемым противоэлектродным (СЕ) слоем, а второй слой является катодно-окрашиваемым EC слоем или его частью.
42. Способ по п.23, в котором первый слой является анодно-окрашиваемым противоэлектродным (СЕ) слоем, а второй слой является изолирующим слоем для минимизации влияния дефектов (DMIL).
43. Способ по п.23, в котором первый слой является анодно-окрашиваемым противоэлектродным (СЕ) слоем, а второй слой является ион-проводящим (IC) слоем.
44. Система для изготовления электрохромного (EC) устройства, причем упомянутая система содержит:
первую станцию для осаждения, содержащую первую мишень, содержащую первый материал для осаждения первого слоя на подложке в последовательности изготовления ЕС устройства ЕС, когда подложка расположена в первой станции для осаждения;
вторую станцию для осаждения, содержащую вторую мишень, содержащую второй материал для осаждения второго слоя на подложке в последовательности изготовления ЕС устройства, когда подложка расположена во второй станции для осаждения;
устройство удаления частиц для удаления частиц с поверхности подложки и/или с поверхности EC устройства до того, как оно полностью сформировано; и
контроллер, содержащий:
программные команды для пропускания подложки через станции для осаждения таким образом, чтобы последовательно осаждать структуру на подложке, причем структура содержит первый слой и второй слой; и
программные команды для работы устройства удаления частиц для удаления частиц с поверхности подложки и/или поверхности ЕС устройства до того, как оно полностью сформировано, при этом устройство удаления частиц действует, чтобы удалить частицы как в (i) после осаждения первого слоя и до осаждения второго слоя, так и в (ii) после осаждения второго слоя.
45. Система по п.44, в которой устройство удаления частиц содержит валик, ленту или щетку.
46. Система по п.44, в которой устройство удаления частиц применяет акустическую энергию в ультразвуковом, сверхзвуковом или мегазвуковом диапазоне частот.
47. Система по п.44, в которой устройство удаления частиц наносит текучую среду на подложку и/или EC устройство до того, как оно полностью сформировано.
48. Система по п.47, в которой текучая среда является диоксидом углерода.
49. Система по п.47, в которой текучая среда распыляется на подложку и/или EC устройство до того, как оно полностью сформировано.
50. Система по п.44, дополнительно содержащая программные команды для действия устройства удаления частиц, чтобы удалить частицы с поверхности подложки до нанесения первого слоя на подложке.
51. Система по п.44, в которой структура содержит второй слой, осажденный непосредственно на первом слое без каких-либо промежуточных слоев между ними.
52. Система по п.44, в которой первый слой является прозрачным проводящим (TC) слоем, а второй слой является катодно-окрашиваемым EC слоем.
53. Система по п.44, в которой первый слой является прозрачным проводящим (TC) слоем, а второй слой является анодно-окрашиваемым противоэлектродным (СЕ) слоем или его частью.
54. Система по п.44, в которой первый слой является прозрачным проводящим (TC) слоем, а второй слой является изолирующим слоем для минимизации влияния дефектов (DMIL).
55. Система по п.44, в которой первый слой является прозрачным проводящим (TC) слоем, а второй слой является ион-проводящим (IC) слоем.
56. Система по п.44, в которой первый слой является катодно-окрашиваемым EC слоем, а второй слой является анодно-окрашиваемым противоэлектродным (СЕ) слоем или его частью.
57. Система по п.44, в которой первый слой является катодно-окрашиваемым EC слоем, а второй слой является изолирующим слоем для минимизации влияния дефектов (DMIL).
58. Система по п.44, в которой первый слой является катодно-окрашиваемым EC слоем, а второй слой является ион-проводящим (IC) слоем.
59. Система по п.44, в которой первый слой является анодно-окрашиваемым противоэлектродным (СЕ) слоем, а второй слой является катодно-окрашиваемым EC слоем или его частью.
60. Система по п.44, в которой первый слой является анодно-окрашиваемым противоэлектродным (СЕ) слоем, а второй слой является изолирующим слоем для минимизации влияния дефектов (DMIL).
61. Система по п.44, в которой первый слой является анодно-окрашиваемым противоэлектродным (СЕ) слоем, а второй слой является ион-проводящим (IC) слоем.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13/763,505 | 2013-02-08 | ||
US13/763,505 US9007674B2 (en) | 2011-09-30 | 2013-02-08 | Defect-mitigation layers in electrochromic devices |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2015138108A Division RU2647998C2 (ru) | 2013-02-08 | 2014-02-07 | Слои для минимизации влияния дефектов в электрохромных устройствах |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2018107396A true RU2018107396A (ru) | 2019-02-25 |
Family
ID=51300326
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2015138108A RU2647998C2 (ru) | 2013-02-08 | 2014-02-07 | Слои для минимизации влияния дефектов в электрохромных устройствах |
RU2018107396A RU2018107396A (ru) | 2013-02-08 | 2014-02-07 | Слои для минимизации влияния дефектов в электрохромных устройствах |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2015138108A RU2647998C2 (ru) | 2013-02-08 | 2014-02-07 | Слои для минимизации влияния дефектов в электрохромных устройствах |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (12) | US9007674B2 (ru) |
EP (3) | EP3567423B1 (ru) |
KR (5) | KR102242128B1 (ru) |
CN (2) | CN105074559B (ru) |
AU (5) | AU2014214738B2 (ru) |
CA (3) | CA3183519A1 (ru) |
HK (1) | HK1218444A1 (ru) |
RU (2) | RU2647998C2 (ru) |
TW (4) | TWI628499B (ru) |
WO (1) | WO2014124303A2 (ru) |
Families Citing this family (69)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8432603B2 (en) | 2009-03-31 | 2013-04-30 | View, Inc. | Electrochromic devices |
US9261751B2 (en) * | 2010-04-30 | 2016-02-16 | View, Inc. | Electrochromic devices |
WO2015164179A1 (en) * | 2014-04-22 | 2015-10-29 | View, Inc. | Particle removal during fabrication of electrochromic devices |
US10156762B2 (en) | 2009-03-31 | 2018-12-18 | View, Inc. | Counter electrode for electrochromic devices |
US8582193B2 (en) * | 2010-04-30 | 2013-11-12 | View, Inc. | Electrochromic devices |
US11599003B2 (en) | 2011-09-30 | 2023-03-07 | View, Inc. | Fabrication of electrochromic devices |
US9007674B2 (en) | 2011-09-30 | 2015-04-14 | View, Inc. | Defect-mitigation layers in electrochromic devices |
US11187954B2 (en) | 2009-03-31 | 2021-11-30 | View, Inc. | Electrochromic cathode materials |
US10591795B2 (en) | 2009-03-31 | 2020-03-17 | View, Inc. | Counter electrode for electrochromic devices |
US10261381B2 (en) | 2009-03-31 | 2019-04-16 | View, Inc. | Fabrication of low defectivity electrochromic devices |
WO2016085823A1 (en) * | 2014-11-26 | 2016-06-02 | View, Inc. | Counter electrode for electrochromic devices |
US10852613B2 (en) | 2009-03-31 | 2020-12-01 | View, Inc. | Counter electrode material for electrochromic devices |
US10303035B2 (en) | 2009-12-22 | 2019-05-28 | View, Inc. | Self-contained EC IGU |
US9759975B2 (en) | 2010-04-30 | 2017-09-12 | View, Inc. | Electrochromic devices |
US9958750B2 (en) | 2010-11-08 | 2018-05-01 | View, Inc. | Electrochromic window fabrication methods |
EP3919974A1 (en) | 2011-12-12 | 2021-12-08 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
US10295880B2 (en) | 2011-12-12 | 2019-05-21 | View, Inc. | Narrow pre-deposition laser deletion |
US10802371B2 (en) | 2011-12-12 | 2020-10-13 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
WO2016105549A2 (en) * | 2014-12-24 | 2016-06-30 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
US11865632B2 (en) | 2011-12-12 | 2024-01-09 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
US20210394489A1 (en) | 2011-12-12 | 2021-12-23 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
EP2888427B1 (en) | 2012-08-23 | 2021-02-17 | View, Inc. | Photonic-powered electrochromic (ec) devices |
GB201309717D0 (en) | 2013-05-31 | 2013-07-17 | Pilkington Group Ltd | Interface layer for electronic devices |
CN111505881A (zh) | 2013-06-12 | 2020-08-07 | 唯景公司 | 用于改进的电接触的透明导电氧化物(tco)薄膜的预处理 |
US10767143B2 (en) | 2014-03-06 | 2020-09-08 | Sage Electrochromics, Inc. | Particle removal from electrochromic films using non-aqueous fluids |
US11891327B2 (en) | 2014-05-02 | 2024-02-06 | View, Inc. | Fabrication of low defectivity electrochromic devices |
WO2015195714A1 (en) * | 2014-06-17 | 2015-12-23 | Sage Electrochromics, Inc. | Controlled switching for electrochromic devices |
EP3982195A1 (en) * | 2014-09-05 | 2022-04-13 | View, Inc. | Counter electrode for electrochromic devices |
WO2016063849A1 (ja) | 2014-10-21 | 2016-04-28 | 旭硝子株式会社 | 光学素子および撮像装置 |
EP4207485A1 (en) | 2014-11-25 | 2023-07-05 | View, Inc. | Window antennas |
EP4220291A3 (en) | 2014-11-26 | 2023-10-04 | View, Inc. | Counter electrode for electrochromic devices |
US10205111B2 (en) * | 2014-11-27 | 2019-02-12 | Lg Display Co., Ltd. | Organic light emitting diode, method for manufacturing organic light emitting diode, and method for repairing organic light emitting diode |
TW201621437A (zh) * | 2014-12-10 | 2016-06-16 | Tintable Kibing Co Ltd | 電致變色裝置 |
CN107209432B (zh) | 2014-12-19 | 2021-09-03 | 唯景公司 | 减少电致变色装置中汇流条下方的缺陷 |
CA2980477A1 (en) * | 2015-03-20 | 2016-09-29 | View, Inc. | Faster switching low-defect electrochromic windows |
US11307475B2 (en) | 2015-07-10 | 2022-04-19 | View, Inc. | Bird friendly electrochromic devices |
CN107850816A (zh) | 2015-07-10 | 2018-03-27 | 唯景公司 | 鸟类友好型电致变色装置 |
EP4258048A3 (en) * | 2015-07-14 | 2023-11-22 | View, Inc. | Counter electrode for electrochromic devices |
US20180301578A1 (en) * | 2015-10-28 | 2018-10-18 | View, Inc. | Photovoltaic-electrochromic windows |
WO2017102900A1 (de) * | 2015-12-16 | 2017-06-22 | Saint-Gobain Glass France | Elektrisch schaltbare verglasung umfassend flächenelektroden mit anisotroper leitfähigkeit |
EP3446178A4 (en) * | 2016-04-19 | 2020-01-22 | Sage Electrochromics, Inc. | ELECTROCHROMIC DEVICE COMPRISING A TRANSPARENT CONDUCTIVE OXIDE LAYER AND AN OMNIBUS BAR AND ITS FORMING METHOD |
EP3455673A4 (en) * | 2016-05-09 | 2019-12-18 | Sage Electrochromics, Inc. | ELECTROCHROME DEVICE WITH MEANS FOR PREVENTING ION MIGRATION AND METHOD FOR SHAPING THEM |
EP3458908B1 (en) * | 2016-05-20 | 2023-11-01 | Gentex Corporation | Method of resistive coating for voltage uniformity |
US11623433B2 (en) * | 2016-06-17 | 2023-04-11 | View, Inc. | Mitigating defects in an electrochromic device under a bus bar |
FR3054676B1 (fr) * | 2016-07-28 | 2018-08-31 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Dispositif thermochrome tout-solide, et procede de preparation de ce dispositif |
CN109791338B (zh) | 2016-08-22 | 2023-06-23 | 唯景公司 | 电磁屏蔽电致变色窗 |
CN106773436A (zh) * | 2016-12-27 | 2017-05-31 | 浙江上方电子装备有限公司 | 一种全固态电致变色玻璃器件及其制备方法 |
IL311809A (en) * | 2017-02-06 | 2024-05-01 | Sheltered Wings Inc D/B/A Vortex Optics | Optical sight with integral display system |
US10739662B2 (en) | 2017-03-03 | 2020-08-11 | Leaphigh Inc. | Electrochromic element and electrochromic device including the same |
WO2018199569A1 (ko) * | 2017-04-24 | 2018-11-01 | 주식회사 엘지화학 | 전기변색필름 및 이를 포함하는 전기변색소자 |
KR102118361B1 (ko) * | 2017-04-24 | 2020-06-04 | 주식회사 엘지화학 | 전기변색필름 및 이를 포함하는 전기변색소자 |
KR102108565B1 (ko) * | 2017-05-12 | 2020-05-08 | 주식회사 엘지화학 | 전기변색필름 및 전기변색소자 |
EP3682295B1 (en) | 2017-09-12 | 2023-09-06 | Sage Electrochromics, Inc. | Non-light-emitting variable transmission device and a method of forming the same |
US11567384B2 (en) * | 2017-11-20 | 2023-01-31 | Sage Electrochromics, Inc. | Non-light-emitting, variable transmission device and a process of fabricating the same |
EP3841431A1 (en) * | 2018-08-23 | 2021-06-30 | Nitto Denko Corporation | Ultrathin electrochromic device for high optical modulation |
JP7256871B2 (ja) * | 2018-09-26 | 2023-04-12 | セイジ・エレクトロクロミクス,インコーポレイテッド | 電気活性デバイス及び方法 |
CN109817120B (zh) * | 2019-02-14 | 2020-06-30 | 宁波财经学院 | 一种数字互动景观系统 |
CA3145184A1 (en) | 2019-06-07 | 2020-12-10 | View, Inc. | Electrochromic cathode materials |
CN113156731B (zh) * | 2020-01-23 | 2022-06-07 | 青岛凯欧斯光电科技有限公司 | 控制电致变色器件的方法 |
US11634942B2 (en) | 2020-02-03 | 2023-04-25 | Guardian Glass, LLC | Electric potentially-driven shade with electrostatic shade retraction, and/or associated methods |
US11428040B2 (en) | 2020-02-03 | 2022-08-30 | Guardian Glass, LLC | Electrostatic latching stop bar for dynamic shade, and/or associated methods |
US11174676B2 (en) * | 2020-02-03 | 2021-11-16 | Guardian Glass, LLC | Electric potentially-driven shade with improved shade extension control, and/or associated methods |
US11421470B2 (en) | 2020-02-17 | 2022-08-23 | Guardian Glass, LLC | Coil skew correction techniques for electric potentially-driven shade, and/or associated methods |
EP4217197A1 (de) | 2020-09-28 | 2023-08-02 | Saint-Gobain Glass France | Verbundscheibe mit elektrisch steuerbaren optischen eigenschaften |
CN116724270A (zh) * | 2020-10-15 | 2023-09-08 | Sage电致变色显示有限公司 | 包括用于机械阻力的部件的电致变色装置及形成电致变色装置的过程 |
CN112558369A (zh) * | 2020-12-30 | 2021-03-26 | 浙江上方电子装备有限公司 | 全固态电致变色器件及其制备方法 |
EP4330038A1 (de) | 2021-04-30 | 2024-03-06 | Saint-Gobain Glass France | Verbundscheibe für eine projektionsanordnung |
EP4359210A1 (de) | 2021-06-24 | 2024-05-01 | Saint-Gobain Glass France | Verbundscheibe mit diffus reflektierendem element und elektrochromem funktionselement |
EP4359211A1 (de) | 2021-06-24 | 2024-05-01 | Saint-Gobain Glass France | Verbundscheibe mit diffus reflektierenden eigenschaften und elektrochromem funktionselement |
Family Cites Families (157)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH539130A (de) | 1970-02-27 | 1973-08-31 | Egyesuelt Izzolampa | Verfahren zur Aufdampfung von Schichten durch Vakuumaufdampfen |
US3793167A (en) | 1972-06-01 | 1974-02-19 | Globe Amerada Glass Co | Apparatus for manufacturing metal-coated glass |
US4308316A (en) | 1977-04-04 | 1981-12-29 | Gordon Roy G | Non-iridescent glass structures |
JPS5588028A (en) * | 1978-12-27 | 1980-07-03 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Solid electrochromic element |
US4419386A (en) | 1981-09-14 | 1983-12-06 | Gordon Roy G | Non-iridescent glass structures |
JPS58126577A (ja) * | 1982-01-25 | 1983-07-28 | 株式会社ニコン | エレクトロクロミツク表示装置 |
JPS58163921A (ja) * | 1982-03-25 | 1983-09-28 | Toshiba Corp | 全固体型電気発色表示素子 |
JPS5961820A (ja) * | 1982-09-30 | 1984-04-09 | Canon Inc | 全固体型エレクトロクロミツク素子 |
US4752119A (en) * | 1984-08-14 | 1988-06-21 | Toshihiko Ueno | Electrochromic display devices |
JPH0820638B2 (ja) | 1986-08-08 | 1996-03-04 | 株式会社半導体エネルギ−研究所 | 液晶装置およびその作製方法 |
US4768291A (en) | 1987-03-12 | 1988-09-06 | Monarch Technologies Corporation | Apparatus for dry processing a semiconductor wafer |
JPH02151838A (ja) | 1988-12-05 | 1990-06-11 | Tokai Rika Co Ltd | 全固体エレクトロクロミック素子 |
FR2649691B1 (fr) | 1989-07-11 | 1992-10-30 | Saint Gobain Vitrage Int | Vitrage electrochrome |
GB8918859D0 (en) | 1989-08-18 | 1989-09-27 | Pilkington Plc | Electromagnetic shielding panel |
US5133594A (en) | 1990-07-19 | 1992-07-28 | Tufts University | Transparent ion-blocking layer for electrochromic windows |
FR2669122B1 (fr) * | 1990-11-14 | 1992-12-31 | Saint Gobain Vitrage Int | Vitrage electrochrome. |
US5352504A (en) | 1990-11-14 | 1994-10-04 | Saint-Gobain Vitrage International | Electrochromic glazing |
US5724177A (en) | 1991-09-04 | 1998-03-03 | Sun Active Glass Electrochromics, Inc. | Electrochromic devices and methods |
CA2133755C (en) | 1992-04-10 | 1999-04-20 | John E. Van Dine | Electrochromic structures and methods |
WO1994015247A1 (en) | 1992-12-24 | 1994-07-07 | Sun Active Glass Electrochromics, Inc. | Electrochromic devices |
JPH0728099A (ja) * | 1993-07-13 | 1995-01-31 | Nikon Corp | 全固体型エレクトロクロミック素子及びその製造方法 |
US5364666A (en) | 1993-09-23 | 1994-11-15 | Becton, Dickinson And Company | Process for barrier coating of plastic objects |
US5668663A (en) | 1994-05-05 | 1997-09-16 | Donnelly Corporation | Electrochromic mirrors and devices |
JPH09152634A (ja) * | 1995-03-03 | 1997-06-10 | Canon Inc | エレクトロクロミック素子及びその製造方法 |
US7009665B2 (en) | 1995-10-30 | 2006-03-07 | Le Li | Electro-optical glazing structures having scattering and transparent modes of operation and methods and apparatus for making the same |
US5724175A (en) | 1997-01-02 | 1998-03-03 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Electrochromic device manufacturing process |
US6356376B1 (en) | 1997-04-02 | 2002-03-12 | Gentex Corporation | Electrochromic rearview mirror incorporating a third surface metal reflector and a display/signal light |
US6094292A (en) | 1997-10-15 | 2000-07-25 | Trustees Of Tufts College | Electrochromic window with high reflectivity modulation |
KR100302828B1 (ko) * | 1998-05-28 | 2002-07-18 | 민혜경 | 전기 변색장치의 제조방법 |
FR2791147B1 (fr) | 1999-03-19 | 2002-08-30 | Saint Gobain Vitrage | Dispositif electrochimique du type dispositif electrocommandable a proprietes optiques et/ou energetiques variables |
US6906842B2 (en) * | 2000-05-24 | 2005-06-14 | Schott North America, Inc. | Electrochromic devices |
JPWO2002039180A1 (ja) * | 2000-11-10 | 2004-03-18 | 株式会社村上開明堂 | 固体型エレクトロクロミック素子及びその素子を用いたミラー装置並びにcrtディスプレイ |
US7255451B2 (en) * | 2002-09-20 | 2007-08-14 | Donnelly Corporation | Electro-optic mirror cell |
US6624568B2 (en) | 2001-03-28 | 2003-09-23 | Universal Display Corporation | Multilayer barrier region containing moisture- and oxygen-absorbing material for optoelectronic devices |
WO2003037056A1 (fr) | 2001-10-26 | 2003-05-01 | Central Glass Company, Limited | Substrat dote d'un film de protection electromagnetique |
US6744549B2 (en) * | 2002-03-19 | 2004-06-01 | Dow Global Technologies Inc. | Electrochromic display device |
US6770176B2 (en) | 2002-08-02 | 2004-08-03 | Itn Energy Systems. Inc. | Apparatus and method for fracture absorption layer |
US20040229051A1 (en) | 2003-05-15 | 2004-11-18 | General Electric Company | Multilayer coating package on flexible substrates for electro-optical devices |
WO2004028214A1 (en) * | 2002-09-20 | 2004-04-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Fabrication system and manufacturing method of light emitting device |
US7310177B2 (en) | 2002-09-20 | 2007-12-18 | Donnelly Corporation | Electro-optic reflective element assembly |
US7274501B2 (en) | 2002-09-20 | 2007-09-25 | Donnelly Corporation | Mirror reflective element assembly |
JP4489345B2 (ja) | 2002-12-13 | 2010-06-23 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体装置の製造方法 |
DK1593000T3 (da) * | 2003-01-31 | 2006-10-30 | Ntera Ltd | Elektrochrom displayindretning |
US8728285B2 (en) | 2003-05-23 | 2014-05-20 | Demaray, Llc | Transparent conductive oxides |
EP1635960A2 (en) | 2003-06-06 | 2006-03-22 | P.C.T. Systems, Inc. | Method and apparatus to process substrates with megasonic energy |
JP3987847B2 (ja) | 2003-10-17 | 2007-10-10 | Necエレクトロニクス株式会社 | Mim構造抵抗体を搭載した半導体装置 |
US7548291B2 (en) | 2003-11-12 | 2009-06-16 | Lg Display Lcd Co., Ltd. | Reflective type liquid crystal display device and fabrication method thereof |
FR2868850B1 (fr) | 2004-04-09 | 2006-08-25 | Saint Gobain | Procede d'alimentation d'un dispositif electrocommandable a proprietes optiques et/ou energetiques variables |
CN1961094A (zh) | 2004-06-02 | 2007-05-09 | 应用材料有限公司 | 靶材料及其在溅射过程中的应用 |
WO2006014591A2 (en) | 2004-07-08 | 2006-02-09 | Itn Energy Systems, Inc. | Permeation barriers for flexible electronics |
US8545030B2 (en) * | 2004-07-12 | 2013-10-01 | Gentex Corporation | Rearview mirror assemblies with anisotropic polymer laminates |
WO2006076611A2 (en) * | 2005-01-14 | 2006-07-20 | Cabot Corporation | Production of metal nanoparticles |
US7372610B2 (en) * | 2005-02-23 | 2008-05-13 | Sage Electrochromics, Inc. | Electrochromic devices and methods |
JP2006252886A (ja) | 2005-03-09 | 2006-09-21 | Bridgestone Corp | 低反射性導電膜、電磁波シールド膜及び電磁波シールド性光透過窓材 |
EP1717339A2 (de) | 2005-04-20 | 2006-11-02 | Applied Films GmbH & Co. KG | Kontinuierliche Beschichtungsanlage |
EP1883855B1 (en) | 2005-05-16 | 2011-07-20 | Donnelly Corporation | Vehicle mirror assembly with indicia at reflective element |
FR2886419B1 (fr) | 2005-05-27 | 2009-07-31 | Saint Gobain | Electrode de dispositifs electrochimiques/ electrocommandables |
CN101322068B (zh) | 2005-07-01 | 2010-09-22 | Ppg工业俄亥俄公司 | 具有多层底漆的显示板 |
US7586664B2 (en) | 2005-07-01 | 2009-09-08 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Transparent electrode for an electrochromic switchable cell |
US7593154B2 (en) * | 2005-10-11 | 2009-09-22 | Sage Electrochromics, Inc. | Electrochromic devices having improved ion conducting layers |
US7333258B2 (en) * | 2005-10-31 | 2008-02-19 | National Research Council Of Canada | Electrochromic material |
FR2893427B1 (fr) * | 2005-11-16 | 2008-01-04 | Saint Gobain | Systeme electrochimique sur plastique |
US20070138952A1 (en) | 2005-12-20 | 2007-06-21 | Chang Gung University | Polymer light-emitting diode and manufacturing method thereof |
CN100559252C (zh) | 2005-12-30 | 2009-11-11 | 财团法人工业技术研究院 | 电变色膜 |
KR101037615B1 (ko) * | 2006-01-17 | 2011-05-30 | 피피지 인더스트리즈 오하이오 인코포레이티드 | 이온성 액체 중에서 물리적 증착에 의해 입자를 제조하는 방법 |
EP2426552A1 (en) | 2006-03-03 | 2012-03-07 | Gentex Corporation | Electro-optic elements incorporating improved thin-film coatings |
US8368992B2 (en) | 2006-03-03 | 2013-02-05 | Gentex Corporation | Electro-optical element including IMI coatings |
CN101395521B (zh) * | 2006-03-03 | 2010-09-29 | 金泰克斯公司 | 改进的薄膜涂层、光电元件和包含这些元件的组件 |
US20070235320A1 (en) | 2006-04-06 | 2007-10-11 | Applied Materials, Inc. | Reactive sputtering chamber with gas distribution tubes |
US20090285976A1 (en) * | 2006-06-14 | 2009-11-19 | Basf Se | Method for producing electrically conductive surfaces on a support |
US7265891B1 (en) | 2006-06-20 | 2007-09-04 | Eclipse Energy Systems | Electrochromic device with self-forming ion transfer layer and lithium-fluoro-nitride electrolyte |
FR2904123B1 (fr) | 2006-07-21 | 2008-09-12 | Saint Gobain | Dispositif electrochimique / electrocommandable du type vitrage et a proprietes optiques et/ou energetiques variables. |
FR2904437B1 (fr) | 2006-07-28 | 2008-10-24 | Saint Gobain | Dispositif actif a proprietes energetiques/optiques variables |
US20080037128A1 (en) | 2006-08-11 | 2008-02-14 | Newport Corporation | Coatings for replicating the spectral performance of colored glass |
SG151667A1 (en) * | 2006-10-12 | 2009-05-29 | Cambrios Technologies Corp | Nanowire-based transparent conductors and applications thereof |
JP5297809B2 (ja) | 2006-11-02 | 2013-09-25 | グエラテクノロジー株式会社 | 電界感応素子およびそれを用いた表示デバイス |
US20080153280A1 (en) | 2006-12-21 | 2008-06-26 | Applied Materials, Inc. | Reactive sputter deposition of a transparent conductive film |
WO2008150851A1 (en) * | 2007-06-01 | 2008-12-11 | Ntera, Inc. | Monolithic architecture and electrolyte for electrochromic devices |
US7808693B2 (en) * | 2007-06-07 | 2010-10-05 | Soladigm, Inc. | Electrochromic devices and fabrication methods |
SG148960A1 (en) * | 2007-06-15 | 2009-01-29 | Tokyo Electron Ltd | Substrate cleaning method and substrate cleaning apparatus |
US20090057137A1 (en) * | 2007-08-31 | 2009-03-05 | Midwest Research Institute | Synthesizing thin films of lithiated transition metal oxide for use in electrochemical and battery devices |
JP2009169229A (ja) | 2008-01-18 | 2009-07-30 | Mitsui Chemicals Inc | エレクトロクロミック素子およびその製造方法 |
US8693079B2 (en) | 2008-01-31 | 2014-04-08 | Ajjer, Llc | Sealants and conductive busbars for chromogenic devices |
AU2008201373B1 (en) | 2008-03-26 | 2009-07-23 | University Of South Australia | Processes for producing electrochromic substrates and electrochromic articles made therefrom |
US7679810B2 (en) * | 2008-06-30 | 2010-03-16 | Soladigm, Inc. | Electrical characteristics of electrochromic devices |
FR2934062B1 (fr) | 2008-07-17 | 2010-08-13 | Saint Gobain | Dispositif electrochrome a reflexion infrarouge controlee |
US20100028684A1 (en) | 2008-07-31 | 2010-02-04 | Jose Mariscal | Conductive multilayer stack |
KR20100024174A (ko) * | 2008-08-25 | 2010-03-05 | 세메스 주식회사 | 기판 세정 장치 |
US8085460B2 (en) | 2008-08-28 | 2011-12-27 | Ppg Industries Ohio, Inc | Electrochromic device |
US8049949B2 (en) | 2008-08-29 | 2011-11-01 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Multi-layer electrode for high contrast electrochromic devices |
US7773284B2 (en) | 2008-09-30 | 2010-08-10 | Soladigm, Inc. | Resonant cavity electrochromic device |
JP5138542B2 (ja) * | 2008-10-24 | 2013-02-06 | パナソニック株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 |
US8842357B2 (en) | 2008-12-31 | 2014-09-23 | View, Inc. | Electrochromic device and method for making electrochromic device |
WO2010099147A1 (en) | 2009-02-24 | 2010-09-02 | Ntera Inc. | Advanced electrode structures and electrochromic devices |
US8889218B2 (en) | 2009-03-12 | 2014-11-18 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Foam window mount having an electric conductive layer over a light blocking layer |
US8764951B2 (en) * | 2010-04-30 | 2014-07-01 | View, Inc. | Electrochromic devices |
WO2015164179A1 (en) | 2014-04-22 | 2015-10-29 | View, Inc. | Particle removal during fabrication of electrochromic devices |
US20170038658A1 (en) | 2011-09-30 | 2017-02-09 | View, Inc. | Particle removal during fabrication of electrochromic devices |
US9007674B2 (en) | 2011-09-30 | 2015-04-14 | View, Inc. | Defect-mitigation layers in electrochromic devices |
US11599003B2 (en) | 2011-09-30 | 2023-03-07 | View, Inc. | Fabrication of electrochromic devices |
US8582193B2 (en) * | 2010-04-30 | 2013-11-12 | View, Inc. | Electrochromic devices |
US8432603B2 (en) * | 2009-03-31 | 2013-04-30 | View, Inc. | Electrochromic devices |
US9261751B2 (en) | 2010-04-30 | 2016-02-16 | View, Inc. | Electrochromic devices |
JP5424091B2 (ja) | 2009-03-31 | 2014-02-26 | コニカミノルタ株式会社 | 紫外反射膜を有するフィルムミラー |
US8300298B2 (en) | 2010-04-30 | 2012-10-30 | Soladigm, Inc. | Electrochromic devices |
US8736947B2 (en) | 2009-10-23 | 2014-05-27 | Applied Materials, Inc. | Materials and device stack for market viable electrochromic devices |
EP2545410A1 (en) | 2010-03-12 | 2013-01-16 | Battelle Memorial Institute | Electrochromic device capable of controlling visible and infrared radiations |
KR101913087B1 (ko) * | 2010-04-30 | 2019-01-14 | 뷰, 인크. | 전기변색 디바이스 |
US9759975B2 (en) * | 2010-04-30 | 2017-09-12 | View, Inc. | Electrochromic devices |
US8610991B2 (en) | 2010-07-14 | 2013-12-17 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Electrochromic material and electrochromic device including the same |
JPWO2012008587A1 (ja) | 2010-07-16 | 2013-09-09 | 旭硝子株式会社 | 赤外線反射基板および合わせガラス |
US8270059B2 (en) | 2010-08-05 | 2012-09-18 | Soladigm, Inc. | Multi-pane electrochromic windows |
JP5374468B2 (ja) * | 2010-09-09 | 2013-12-25 | アルプス電気株式会社 | 表示装置 |
US8119513B1 (en) | 2010-11-22 | 2012-02-21 | General Electric Company | Method for making cadmium sulfide layer |
WO2012078634A2 (en) | 2010-12-08 | 2012-06-14 | Soladigm, Inc. | Improved spacers for insulated glass units |
FR2969771B1 (fr) | 2010-12-28 | 2012-12-28 | Saint Gobain | Dispositif electrochimique a proprietes de transmission optique et/ou energetique electrocommandables |
DE102011013132A1 (de) * | 2011-03-04 | 2012-09-06 | Thüringisches Institut für Textil- und Kunststoff-Forschung e.V. | Stabiles elektrochromes Modul |
JP5648805B2 (ja) * | 2011-03-17 | 2015-01-07 | 株式会社リコー | エレクトロクロミック表示素子 |
US8780432B1 (en) * | 2011-03-22 | 2014-07-15 | Paul Phong Nguyen | Electrochromic devices and methods for forming such devices |
CN103608966B (zh) | 2011-06-17 | 2017-02-15 | 应用材料公司 | 无针孔介电薄膜制造 |
DK2737341T3 (da) | 2011-07-28 | 2024-05-13 | Bp Corp North America Inc | Feltkorrelation for realtids passiv seismisk overvågning |
JP5623360B2 (ja) | 2011-09-13 | 2014-11-12 | トヨタ自動車株式会社 | 全固体電池 |
WO2013039915A1 (en) | 2011-09-14 | 2013-03-21 | Soladigm, Inc. | Portable defect mitigator for electrochromic windows |
US10802371B2 (en) | 2011-12-12 | 2020-10-13 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
JP2013149433A (ja) | 2012-01-18 | 2013-08-01 | Toyota Motor Corp | 電極部材、全固体電池および電極部材の製造方法 |
CN107272296B (zh) | 2012-04-17 | 2023-07-18 | 唯景公司 | 用于光学可切换窗的控制器 |
EP3182500B1 (en) | 2012-04-18 | 2018-06-13 | Applied Materials, Inc. | Pinhole-free solid state electrolytes with high ionic conductivity |
CN104067389B (zh) | 2012-04-26 | 2019-02-26 | 晟碟半导体(上海)有限公司 | 包括电磁吸收和屏蔽的半导体装置 |
CN104508520B (zh) | 2012-05-29 | 2018-03-27 | 思维奇材料公司 | 包含可变透射率层的滤光片 |
WO2013190387A2 (en) | 2012-06-18 | 2013-12-27 | Tel Solar Ag | Nanocrystalline zinc oxide for photovoltaic modules and hydrogen treatment method |
KR101354016B1 (ko) | 2012-06-26 | 2014-01-27 | 김덕수 | 안전밸브 스위벨 장치 |
CN104396081B (zh) | 2012-06-26 | 2017-05-10 | 应用材料公司 | 电化学装置的微波快速热处理 |
KR101764319B1 (ko) | 2012-06-28 | 2017-08-03 | 한국전자통신연구원 | 실리콘 태양전지를 가지는 자가충전형 전기변색소자 |
WO2014025913A1 (en) | 2012-08-08 | 2014-02-13 | Kinestral Technologies, Inc. | Electrochromic multi-layer devices with composite current modulating structure |
US9121100B2 (en) | 2012-12-14 | 2015-09-01 | Intermolecular, Inc. | Silver based conductive layer for flexible electronics |
KR20150096756A (ko) | 2012-12-19 | 2015-08-25 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 수직 박막 배터리들의 마스크-리스 제조 |
US20160043247A1 (en) | 2013-03-15 | 2016-02-11 | Arkema Inc. | Nitrogen-containing transparent conductive oxide cap layer composition |
WO2014192670A1 (ja) | 2013-05-31 | 2014-12-04 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタ、光学フィルタの製造方法 |
GB201309717D0 (en) | 2013-05-31 | 2013-07-17 | Pilkington Group Ltd | Interface layer for electronic devices |
US10767143B2 (en) | 2014-03-06 | 2020-09-08 | Sage Electrochromics, Inc. | Particle removal from electrochromic films using non-aqueous fluids |
US10875380B2 (en) | 2014-08-21 | 2020-12-29 | Apple Inc. | Climate control |
TW201628249A (zh) | 2014-08-28 | 2016-08-01 | 應用材料股份有限公司 | 包含用於降低界面電阻及過電位的中間層的電化學裝置堆疊 |
JP6946185B2 (ja) | 2014-11-17 | 2021-10-06 | セイジ・エレクトロクロミクス,インコーポレイテッド | 複数バリア層封止積層体 |
US20220252952A1 (en) | 2014-11-25 | 2022-08-11 | View, Inc. | Faster switching electrochromic devices |
WO2016126460A2 (en) | 2015-02-06 | 2016-08-11 | Proteq Technologies Llc | Electrochromic devices |
CA2980477A1 (en) | 2015-03-20 | 2016-09-29 | View, Inc. | Faster switching low-defect electrochromic windows |
CN107850816A (zh) | 2015-07-10 | 2018-03-27 | 唯景公司 | 鸟类友好型电致变色装置 |
WO2017062738A1 (en) | 2015-10-08 | 2017-04-13 | Gentex Corporation | Window assembly with infrared reflector |
US10203582B2 (en) | 2016-02-01 | 2019-02-12 | Heliotrope Technologies, Inc. | Electrochromic system containing a Bragg reflector and method for controlling photochromic darkening |
KR102367014B1 (ko) | 2016-05-06 | 2022-02-23 | 뷰, 인크. | 윈도우 안테나 |
EP3455673A4 (en) | 2016-05-09 | 2019-12-18 | Sage Electrochromics, Inc. | ELECTROCHROME DEVICE WITH MEANS FOR PREVENTING ION MIGRATION AND METHOD FOR SHAPING THEM |
CN109791338B (zh) | 2016-08-22 | 2023-06-23 | 唯景公司 | 电磁屏蔽电致变色窗 |
KR102118361B1 (ko) | 2017-04-24 | 2020-06-04 | 주식회사 엘지화학 | 전기변색필름 및 이를 포함하는 전기변색소자 |
US11567384B2 (en) | 2017-11-20 | 2023-01-31 | Sage Electrochromics, Inc. | Non-light-emitting, variable transmission device and a process of fabricating the same |
CN112020670A (zh) | 2018-03-16 | 2020-12-01 | 唯景公司 | 具有颜色反射和透射的电致变色器件 |
EP3781985A4 (en) | 2018-04-19 | 2021-05-05 | Gentex Corporation | PLASTIC COATINGS FOR IMPROVED SOLVENT RESISTANCE |
US11703737B2 (en) | 2020-02-12 | 2023-07-18 | Sage Electrochromics, Inc. | Forming electrochromic stacks using at most one metallic lithium deposition station |
-
2013
- 2013-02-08 US US13/763,505 patent/US9007674B2/en active Active
-
2014
- 2014-02-07 TW TW103104169A patent/TWI628499B/zh active
- 2014-02-07 EP EP19183372.2A patent/EP3567423B1/en active Active
- 2014-02-07 CA CA3183519A patent/CA3183519A1/en active Pending
- 2014-02-07 CA CA3103961A patent/CA3103961A1/en active Pending
- 2014-02-07 RU RU2015138108A patent/RU2647998C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2014-02-07 WO PCT/US2014/015374 patent/WO2014124303A2/en active Application Filing
- 2014-02-07 TW TW107111517A patent/TWI691771B/zh active
- 2014-02-07 TW TW109110462A patent/TWI765239B/zh active
- 2014-02-07 EP EP21184089.7A patent/EP3929656A1/en active Pending
- 2014-02-07 KR KR1020157022800A patent/KR102242128B1/ko active IP Right Grant
- 2014-02-07 KR KR1020227027548A patent/KR20220116353A/ko not_active Application Discontinuation
- 2014-02-07 KR KR1020207038114A patent/KR20210005744A/ko not_active IP Right Cessation
- 2014-02-07 TW TW111115251A patent/TW202246866A/zh unknown
- 2014-02-07 CA CA2899607A patent/CA2899607C/en active Active
- 2014-02-07 CN CN201480010617.XA patent/CN105074559B/zh active Active
- 2014-02-07 KR KR1020227009351A patent/KR102559178B1/ko active IP Right Grant
- 2014-02-07 AU AU2014214738A patent/AU2014214738B2/en active Active
- 2014-02-07 EP EP14749144.3A patent/EP2954370B1/en active Active
- 2014-02-07 CN CN201811008514.6A patent/CN109164656A/zh active Pending
- 2014-02-07 RU RU2018107396A patent/RU2018107396A/ru not_active Application Discontinuation
- 2014-02-07 KR KR1020227015306A patent/KR102567611B1/ko active IP Right Grant
-
2015
- 2015-01-20 US US14/601,141 patent/US9229291B2/en active Active
- 2015-10-16 US US14/885,734 patent/US10162240B2/en active Active
-
2016
- 2016-03-31 US US15/086,438 patent/US10288969B2/en active Active
- 2016-06-03 HK HK16106372.7A patent/HK1218444A1/zh unknown
-
2017
- 2017-06-30 AU AU2017204525A patent/AU2017204525B2/en active Active
- 2017-10-26 US US15/794,805 patent/US11079648B2/en active Active
- 2017-10-31 US US15/799,694 patent/US20180067370A1/en not_active Abandoned
-
2018
- 2018-08-30 US US16/118,320 patent/US10831077B2/en active Active
- 2018-11-22 AU AU2018267645A patent/AU2018267645B2/en active Active
- 2018-12-04 US US16/209,514 patent/US20190107764A1/en not_active Abandoned
-
2019
- 2019-07-11 US US16/509,189 patent/US10788723B2/en active Active
-
2020
- 2020-03-02 US US16/806,972 patent/US11561446B2/en active Active
- 2020-08-14 US US16/947,757 patent/US11668990B2/en active Active
-
2021
- 2021-02-04 AU AU2021200729A patent/AU2021200729B2/en active Active
-
2022
- 2022-11-04 AU AU2022263593A patent/AU2022263593A1/en not_active Withdrawn
-
2023
- 2023-04-20 US US18/303,815 patent/US20230314892A1/en active Pending
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2018107396A (ru) | Слои для минимизации влияния дефектов в электрохромных устройствах | |
KR102060024B1 (ko) | 레이저 스크라이빙 및 플라즈마 에칭에 의한 디바이스 싱귤레이션을 위한 인-시튜 증착된 마스크 층 | |
MX2016002822A (es) | Metodo para producir un cristal con un recubrimiento electricamente conductor con defectos aislados electricamente. | |
TW201405646A (zh) | 用於高晶粒破裂強度與清潔側壁的雷射劃線及電漿蝕刻 | |
TW201426840A (zh) | 從晶圓背側切割晶圓 | |
CN106206277A (zh) | 一种用于切割半导体基板的系统 | |
RU2018145297A (ru) | Оконные модули, изготовленные с использованием керамической фритты, которая растворяет покрытия, нанесенные методом физического осаждения из паровой фазы (pvd), и/или соответствующие способы | |
TW201601205A (zh) | 自單粒化晶粒側壁移除殘留物 | |
CN102918642A (zh) | 用于改善晶圆单一化的方法及装置 | |
JP2014523117A5 (ru) | ||
JP2017503745A5 (ru) | ||
CN109155280A (zh) | 用于混合式激光划线及等离子体蚀刻晶片切单处理的蚀刻掩模 | |
TWI667709B (zh) | 用於改良晶圓塗佈處理之烘烤工具 | |
RU2015116526A (ru) | Способ изготовления солнечного элемента | |
JP2011119246A5 (ja) | 発光装置の作製方法、および発光装置 | |
CN105185910A (zh) | 利用毛笔制备有机半导体单晶微纳线阵列的方法 | |
TW201535604A (zh) | 利用乾膜真空層疊形成用於雷射與電漿切割的水溶性遮罩 | |
JP2012119669A5 (ru) | ||
WO2019061963A1 (zh) | 激光切割方法 | |
JP2009238740A5 (ru) | ||
WO2014011674A3 (en) | Methods and apparatuses for forming semiconductor films | |
CN103489756A (zh) | 一种在衬底减薄工艺中的粘片方法 | |
CN103073048B (zh) | 一种液相自组装技术制备图案化的ZnO薄膜的方法 | |
CN204009123U (zh) | 一种铝膜反射镜 | |
TWI697034B (zh) | 藉由乾膜壓合之水溶性遮罩形成 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FA93 | Acknowledgement of application withdrawn (no request for examination) |
Effective date: 20170208 |