RU2008140743A - Способ получения кремния для фотоэлементов и других применений - Google Patents

Способ получения кремния для фотоэлементов и других применений Download PDF

Info

Publication number
RU2008140743A
RU2008140743A RU2008140743/15A RU2008140743A RU2008140743A RU 2008140743 A RU2008140743 A RU 2008140743A RU 2008140743/15 A RU2008140743/15 A RU 2008140743/15A RU 2008140743 A RU2008140743 A RU 2008140743A RU 2008140743 A RU2008140743 A RU 2008140743A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
carbon
silicon
boron
silicon oxide
water
Prior art date
Application number
RU2008140743/15A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2441839C2 (ru
Inventor
Стивен АМЕНДОЛА (US)
Стивен АМЕНДОЛА
Original Assignee
РЕСК ИНВЕСТМЕНТС ЭлЭлСи (US)
РЕСК ИНВЕСТМЕНТС ЭлЭлСи
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by РЕСК ИНВЕСТМЕНТС ЭлЭлСи (US), РЕСК ИНВЕСТМЕНТС ЭлЭлСи filed Critical РЕСК ИНВЕСТМЕНТС ЭлЭлСи (US)
Publication of RU2008140743A publication Critical patent/RU2008140743A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2441839C2 publication Critical patent/RU2441839C2/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/02Silicon
    • C01B33/021Preparation
    • C01B33/023Preparation by reduction of silica or free silica-containing material
    • C01B33/025Preparation by reduction of silica or free silica-containing material with carbon or a solid carbonaceous material, i.e. carbo-thermal process
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/02Silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/02Silicon
    • C01B33/021Preparation
    • C01B33/023Preparation by reduction of silica or free silica-containing material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/02Silicon
    • C01B33/037Purification
    • C01B33/039Purification by conversion of the silicon into a compound, optional purification of the compound, and reconversion into silicon

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

1. Способ получения кремния, имеющего высокую чистоту, подходящего для фотогальванических элементов, включающий восстановление оксида кремния предварительно очищенного в водном растворе с углеродсодержащим агентом, где предварительно очищенный оксид кремния имеет малое количество бора, подходящее для фотогальванических элементов. ! 2. Способ по п.1, где оксид кремния получают через очищающий способ, используя водный раствор водорастворимой формы оксида кремния, где водный раствор фильтруют для удаления твердых примесей и обрабатывают бор-специфической хелатообразующей смолой. ! 3. Способ по п.2, где бор-специфическая хелатообразующая смола является ионообменной смолой, имеющей функциональную группу N-меглумина. ! 4. Способ по п.2, где переходный металл, кальций или магний добавляют в водный раствор водорастворимой формы оксида кремния перед фильтрацией. ! 5. Способ по п.2, где водный раствор водорастворимой формы оксида кремния обрабатывают молибдатной солью или молибдатной солью обработанной анионной смолой. ! 6. Способ по п.1, где водорастворимая форма оксида кремния является щелочным силикатом. ! 7. Способ по п.1, где углеродсодержащий агент является существенно свободным от бора и фосфора. ! 8. Способ по п.7, где углеродсодержащий агент получают из горючего газа. ! 9. Способ по п.8, где горючий газ является природным газом, метаном, этаном, ацетиленом, этиленом, пропаном, пропеном, алленом, бутан, широкими фракциями легких углеводородов или вообще любыми газами C1-C4, которые являются существенно свободными от бора и фосфора. ! 10. Способ по п.7, где углерод получают из углевода, крахмала или другого углеродсодержащего

Claims (36)

1. Способ получения кремния, имеющего высокую чистоту, подходящего для фотогальванических элементов, включающий восстановление оксида кремния предварительно очищенного в водном растворе с углеродсодержащим агентом, где предварительно очищенный оксид кремния имеет малое количество бора, подходящее для фотогальванических элементов.
2. Способ по п.1, где оксид кремния получают через очищающий способ, используя водный раствор водорастворимой формы оксида кремния, где водный раствор фильтруют для удаления твердых примесей и обрабатывают бор-специфической хелатообразующей смолой.
3. Способ по п.2, где бор-специфическая хелатообразующая смола является ионообменной смолой, имеющей функциональную группу N-меглумина.
4. Способ по п.2, где переходный металл, кальций или магний добавляют в водный раствор водорастворимой формы оксида кремния перед фильтрацией.
5. Способ по п.2, где водный раствор водорастворимой формы оксида кремния обрабатывают молибдатной солью или молибдатной солью обработанной анионной смолой.
6. Способ по п.1, где водорастворимая форма оксида кремния является щелочным силикатом.
7. Способ по п.1, где углеродсодержащий агент является существенно свободным от бора и фосфора.
8. Способ по п.7, где углеродсодержащий агент получают из горючего газа.
9. Способ по п.8, где горючий газ является природным газом, метаном, этаном, ацетиленом, этиленом, пропаном, пропеном, алленом, бутан, широкими фракциями легких углеводородов или вообще любыми газами C1-C4, которые являются существенно свободными от бора и фосфора.
10. Способ по п.7, где углерод получают из углевода, крахмала или другого углеродсодержащего материала.
11. Способ по п.9, где углерод получают способом включающим разложение на составляющие углевода в воде; очистку получающегося раствора; удаление воды; и пиролизацию очищенного углевода для получения углерода.
12. Способ по п.11, где пиролизацию проводят для получения степени графитизации приблизительно 40-45%.
13. Способ по п.12, где желательную степень графитизации получают смешением различных углеродных форм.
14. Способ по п.7, где углерод обрабатывают хлором для удаления B и P.
15. Способ по п.7, где предварительно очищенный оксид кремния находится в кристаллической форме.
16. Способ по п.7, где предварительно очищенный оксид кремния и/или углерод находится в брикетированной форме.
17. Способ по п.7, где предварительно очищенный оксид кремния и углерод получают со-осаждением так, чтобы оксид кремния и углерод были однородно смешаны.
18. Способ по п.1, где предварительно очищенный оксид кремния имеет содержание бора приблизительно 5 частей на миллион или меньше.
19. Способ по п.1, где предварительно очищенный оксид кремния имеет содержание бора приблизительно 1 часть на миллион или меньше.
20. Способ по п.1, где способ очистки проводят в основном условии.
21. Способ по п.7, где реакцию восстановления выполняют, используя облицовку в дуговой печи с закрытой дугой, где формируют расплавленный кремний высокой чистоты.
22. Способ по п.21, где печь изготавливают из тугоплавких материалов с крайне низким содержанием бора и фосфора.
23. Способ по п.21, где печь использует высокочистые графитовые нагревательные стержни для электродов.
24. Способ по п.21, где печь имеет нижний слив для удаления расплавленного кремния высокой чистоты от низа.
25. Способ по п.21, где внешняя часть печи в точке расплавленной кремниевой выгрузки имеет инертную газовую камеру, чтобы позволить расплавленному кремнию охлаждаться в инертном газе так, чтобы кремний не реагировал с кислородом в атмосфере.
26. Способ по п.21, где расплавленный кремний дополнительно обрабатывают редкоземельным металлом для удаления углерода, кислорода, азота, бора и других примесей из кремния.
27. Способ получения высокочистого кремния, включающий:
(a) получение водного силикатного раствора;
(b) фильтрование раствора;
(c) прохождение фильтрата через бор-специфическую колонку ионной смолы;
(d) преобразование силиката до оксида кремния;
(e) восстановление оксида кремния углеродом, имеющим малое содержание бора и фосфора в печи; и
(f) охлаждение полученного кремния высокой чистоты.
28. Способ по п.21, дополнительно включающий преобразование низко чистого оксида кремния, песка, кварца или других содержащих оксид кремния материалов или кремния или монооксида кремния в щелочной силикат.
29. Способ по п.27, где углерод получают пиролизацией углевода.
30. Способ получения высокочистого кремния, имеющего малые содержания B и P, включающий:
(a) получение водного раствора силиката;
(b) необязательное добавление переходного металла, кальция или магния;
(c) фильтрование раствора;
(d) пропускание отфильтрованного через бор-специфическую колонку ионной смолы;
(e) удаление воды; и
(f) преобразование полученной соли силиката до оксида кремния.
31. Способ по п.30, дополнительно включающий обработку водного раствора силиката анионообменной смолой, которая является предварительно обработанной аммоний молибдатом или вольфраматом.
32. Способ по п.1, где продукт является высокочистым карбидом кремния.
33. Способ по п.1, где продукт является высокочистым монооксидом кремния.
34. Способ по п.1, где углеродсодержащий агент имеет содержание бора приблизительно 1 часть на миллион или меньше.
35. Способ по п.1, где восстанавливающий агент является активным очищенным металлом, таким как алюминий или магний вместо углерода.
36. Способ очистки кремния низкого сорта до кремния высокой чистоты, подходящего для фотогальванических элементов включающий:
(a) преобразование кремния низкого сорта в водорастворимую форму;
(b) очистку водорастворимой формы оксида кремния в водном растворе;
(c) преобразование очищенной водорастворимой формы оксида кремния до оксида кремния; и
(d) преобразование полученного оксида кремния до высокочистого кремния.
RU2008140743/05A 2006-03-15 2007-03-14 Способ получения кремния для фотоэлементов и других применений RU2441839C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US78236106P 2006-03-15 2006-03-15
US60/782,361 2006-03-15

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2008140743A true RU2008140743A (ru) 2010-04-20
RU2441839C2 RU2441839C2 (ru) 2012-02-10

Family

ID=38510271

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2008140743/05A RU2441839C2 (ru) 2006-03-15 2007-03-14 Способ получения кремния для фотоэлементов и других применений

Country Status (13)

Country Link
US (2) US7922989B2 (ru)
EP (1) EP2001797A4 (ru)
JP (1) JP5615542B2 (ru)
KR (1) KR101450346B1 (ru)
CN (1) CN101426722B (ru)
AU (1) AU2007226533B2 (ru)
BR (1) BRPI0709288A2 (ru)
CA (1) CA2646180A1 (ru)
IL (1) IL193964A (ru)
MX (1) MX2008011655A (ru)
RU (1) RU2441839C2 (ru)
WO (1) WO2007106860A2 (ru)
ZA (1) ZA200807787B (ru)

Families Citing this family (48)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8105434B2 (en) * 2005-08-05 2012-01-31 Faris Sadeg M Si ribbon, SiO2 ribbon and ultra pure ribbons of other substances
US20080314446A1 (en) * 2007-06-25 2008-12-25 General Electric Company Processes for the preparation of solar-grade silicon and photovoltaic cells
US20100129996A1 (en) * 2008-04-28 2010-05-27 Jian Zhong Yuan Silicon material surface etching for large grain polysilicon thin film deposition and structure
ITMI20081086A1 (it) * 2008-06-16 2009-12-17 N E D Silicon S P A Procedimento ed apparecchiatura per la purificazione di silicio di grado metallurgico mediante solidificazione direzionale e l'ottenimento di lingotti di silicio per uso fotovoltaico.
KR101388146B1 (ko) 2008-08-06 2014-04-29 마야테리얼스, 아이엔씨. 고순도 실리콘을 생산하기 위한 저비용 제조방법 및 이의 유도체
CA2739349A1 (en) 2008-09-30 2010-04-08 Hemlock Semiconductor Corporation Method of determining an amount of impurities that a contaminating material contributes to high purity silicon and furnace for treating high purity silicon
CN102171142A (zh) * 2008-09-30 2011-08-31 赢创德固赛有限公司 由二氧化硅生产太阳能级硅
DE102008042498A1 (de) * 2008-09-30 2010-04-01 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Pyrolyse von Kohlehydraten
CA2739041A1 (en) * 2008-09-30 2010-04-08 Evonik Degussa Gmbh Production of solar-grade silicon from silicon dioxide
DE102008043606A1 (de) * 2008-11-10 2010-05-12 Evonik Degussa Gmbh Energieeffiziente Anlage zur Herstellung von Ruß, bevorzugt als energetischer Verbund mit Anlagen zur Herstellung von Siliziumdioxid und/oder Silizium
DE102008059769A1 (de) * 2008-12-01 2010-06-02 Evonik Degussa Gmbh Anlage zur Herstellung von Silizium mit verbesserter Ressourcennutzung
US8168123B2 (en) * 2009-02-26 2012-05-01 Siliken Chemicals, S.L. Fluidized bed reactor for production of high purity silicon
US20100213643A1 (en) * 2009-02-26 2010-08-26 Gadgil Prasad N Rapid synthesis of polycrystalline silicon sheets for photo-voltaic solar cell manufacturing
TW201033123A (en) * 2009-03-13 2010-09-16 Radiant Technology Co Ltd Method for manufacturing a silicon material with high purity
US8425855B2 (en) 2009-04-20 2013-04-23 Robert Froehlich Reactor with silicide-coated metal surfaces
TWI454309B (zh) * 2009-04-20 2014-10-01 Jiangsu Zhongneng Polysilicon Technology Dev Co Ltd 用於將反應排出氣體冷卻之方法及系統
EP2497747A1 (en) * 2009-11-06 2012-09-12 Mitsubishi Chemical Corporation Method and apparatus for producing silicon
EP2322476A1 (de) 2009-11-16 2011-05-18 Evonik Degussa GmbH Neues Verfahren zur Herstellung von Silicium
EP2322474A1 (de) 2009-11-16 2011-05-18 Evonik Degussa GmbH Verfahren zur Pyrolyse von Kohlehydraten
JP5692216B2 (ja) * 2010-03-11 2015-04-01 三菱化学株式会社 シリコンの製造方法および治具
DE102011004533A1 (de) 2011-02-22 2013-05-16 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Reinigung starker Säuren bzw. stark saurer Medien von zwei- und höherwertigen Metallionen
DE102011004748A1 (de) 2011-02-25 2012-08-30 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Herstellung von SiO2-Formkörpern
DE102011006406A1 (de) 2011-03-30 2012-10-04 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Herstellung von SiO2-Formkörpern
CN103391909A (zh) 2011-02-25 2013-11-13 赢创德固赛有限公司 用于制造 SiO2 模制品的方法
DE102011004753A1 (de) 2011-02-25 2012-08-30 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zum Aufreinigen von Silicium
DE102011004750A1 (de) 2011-02-25 2012-08-30 Evonik Degussa Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Verarbeiten eines SiO2-haltigen Materials
CN102191562B (zh) * 2011-04-25 2012-08-29 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司 一种n型晶体硅太阳电池的硼扩散方法
CN102225563B (zh) * 2011-04-27 2013-09-25 佳科太阳能硅(龙岩)有限公司 木片洁净化处理的方法
ITRM20110426A1 (it) * 2011-08-08 2013-02-09 N E D Silicon S P A Metodo perfezionato per la preparazione di silicio di grado metallurgico ad alta purezza, in particolare per uso nel campo fotovoltaico.
DE102012202589A1 (de) 2012-02-21 2013-08-22 Evonik Degussa Gmbh Einsatz für einen Schmelztiegel
DE102012202587A1 (de) 2012-02-21 2013-08-22 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Herstellung von hochreinem SiO2
DE102012202586A1 (de) 2012-02-21 2013-08-22 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Herstellung von Silizium über carbothermische Reduktion von Siliciumoxid mit Kohlenstoff in einem Schmelzofen
US8875728B2 (en) 2012-07-12 2014-11-04 Siliken Chemicals, S.L. Cooled gas distribution plate, thermal bridge breaking system, and related methods
DE102012213021A1 (de) 2012-07-25 2014-01-30 Evonik Degussa Gmbh Formkörper umfassend Siliziumdioxid
DE102012218823A1 (de) 2012-10-16 2014-04-17 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Herstellung von hochreinem Siliziumnitrid
DE102012218815A1 (de) 2012-10-16 2014-04-17 Evonik Industries Ag Verfahren zur Reinigung von Phosphonsäure- bzw. Phosphonatgruppen enthaltenden Verbindungen
WO2014085467A1 (en) 2012-11-28 2014-06-05 Trustees Of Boston University Method and apparatus for producing solar grade silicon using a som electrolysis process
US20150110701A1 (en) * 2013-10-18 2015-04-23 Wadham Energy Lp Biogenic silica as a raw material to create high purity silicon
DE102014009462A1 (de) 2014-06-30 2015-12-31 Sameday Media Gmbh Verfahren zur Herstellung von Silicium auf Quarzsubstrat
JP6758283B2 (ja) 2014-08-20 2020-09-23 ランクセス・ドイチュランド・ゲーエムベーハー スルホン化され、アミノメチル化されたキレート樹脂
CN104230049B (zh) * 2014-09-01 2016-02-03 上海希瑞歌恩环境技术有限公司 一种光伏行业的废水处理方法
RU2588627C1 (ru) * 2015-03-30 2016-07-10 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Рязанский государственный радиотехнический университет" Способ рафинирования металлургического кремния
CN105384175A (zh) * 2015-12-25 2016-03-09 苏州格瑞动力电源科技有限公司 一种工业废硅的纯化方法
WO2019168690A1 (en) 2018-03-02 2019-09-06 Pörner Ingenieurgesellschaft M.B.H. Sustainable silicates and methods for their extraction
JP7074350B2 (ja) * 2019-12-19 2022-05-24 Seavac株式会社 高純度シリカの製造方法
CN111044434B (zh) * 2019-12-31 2022-02-15 太原科技大学 一种熔化极气体保护焊熔滴过渡过程的模拟装置及方法
RU2753600C1 (ru) * 2020-08-20 2021-08-18 Акционерное общество "ЭКОС-1" Способ получения особо чистого порошкообразного кристобалита из диоксида кремния
CN114914322B (zh) * 2022-05-18 2023-10-27 一道新能源科技股份有限公司 一种n型单晶硅基底叠瓦太阳能电池及其制作方法

Family Cites Families (67)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1760160C3 (de) 1968-04-11 1974-04-11 Heinrich Josef Winter Kunststoffverarbeitung Und Werkzeugbau Gmbh, 6451 Hainstadt Brandsohle
NO129623B (ru) 1972-01-25 1974-05-06 Elkem Spigerverket As
GB1430578A (en) * 1972-06-08 1976-03-31 United States Borax Chem Selective ion-exchangers moulding plastic articles
US4120938A (en) 1973-08-25 1978-10-17 Dynamit Nobel Aktiengesellschaft Aqueous solutions of alkali polysilicates
DE2343026A1 (de) 1973-08-25 1975-03-06 Dynamit Nobel Ag Verfahren zur herstellung waessriger alkalipolysilikatloesungen
AU497891B2 (en) 1974-05-22 1979-01-18 J.M. Huber Corp. Siliceous pigments & their production
US4127641A (en) 1975-12-10 1978-11-28 Joseph Crosfield And Sons Limited Process for the preparation of precipitated silicas having morphology similar to pyrogenic silicas
DE2742496A1 (de) 1977-09-21 1979-03-29 Reuter Technologie Gmbh Sonnenenergie absorbierende beschichtung und verfahren zu ihrer herstellung
US4214920A (en) * 1979-03-23 1980-07-29 Exxon Research & Engineering Co. Method for producing solar cell-grade silicon from rice hulls
US4247528A (en) * 1979-04-11 1981-01-27 Dow Corning Corporation Method for producing solar-cell-grade silicon
FR2462390A1 (fr) 1979-07-25 1981-02-13 Ugine Kuhlmann Procede de fabrication de silicate de sodium
DE2933164A1 (de) 1979-08-16 1981-02-26 Consortium Elektrochem Ind Verfahren zum reinigen von rohsilicium
DE2945070A1 (de) * 1979-11-08 1981-06-04 Heliotronic Forschungs- und Entwicklungsgesellschaft für Solarzellen-Grundstoffe mbH, 8263 Burghausen Semikontinuierliches verfahren zur herstellung von reinem silicium
DE3114493A1 (de) 1981-04-10 1982-10-28 Degussa Ag, 6000 Frankfurt "faellungskieselsaeuren und verfahren zu ihrer herstellung"
DE3210141A1 (de) 1982-03-19 1983-09-22 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zum herstellen von fuer insbesondere solarzellen verwendbarem silicium
DE3215981A1 (de) * 1982-04-29 1983-11-03 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zum herstellen hochreiner ausgangsmaterialien fuer die fertigung von silizium fuer solarzellen nach dem carbothermischen reduktionsverfahren
DE3246121A1 (de) 1982-12-13 1984-06-14 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zum herstellen von borfreiem siliziumdioxid
DE3310828A1 (de) 1983-03-24 1984-09-27 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Verfahren zur herstellung von silicium
JPS6022934A (ja) * 1983-07-19 1985-02-05 Mitsubishi Chem Ind Ltd ホウ素選択吸着樹脂の再生方法
JPS6024613A (ja) 1983-07-20 1985-02-07 Canon Inc 電子機器システム
JPS6090811A (ja) * 1983-10-22 1985-05-22 Nippon Chem Ind Co Ltd:The 高純度シリカの製造法
JPS60204613A (ja) * 1984-03-30 1985-10-16 Nippon Sheet Glass Co Ltd 高純度シリカゲルの製造方法
DE3423945A1 (de) 1984-06-29 1986-01-09 Henkel KGaA, 4000 Düsseldorf Verfahren und vorrichtung zur kontinuierlichen hydrothermalen herstellung von natriumsilikatloesungen
IT1176955B (it) 1984-10-12 1987-08-26 Samin Abrasivi Spa Procedimento di produzione di silicio metallico adatto per essere impiegato nell'industria fotovoltaica
JPS61286212A (ja) 1985-06-11 1986-12-16 Nippon Sheet Glass Co Ltd 二酸化珪素原料の製造方法
CA1271307A (en) 1985-06-27 1990-07-10 Iwao Ohshima Process for manufacturing high purity silica
JPH0643246B2 (ja) 1985-10-08 1994-06-08 川鉄鉱業株式会社 シリカの高純度化方法
US4702902A (en) 1986-04-29 1987-10-27 Dow Corning Corporation Handling of by-product gases from a silicon furnace
US4981668A (en) 1986-04-29 1991-01-01 Dow Corning Corporation Silicon carbide as a raw material for silicon production
JPH0796447B2 (ja) * 1986-06-13 1995-10-18 モ−ゼス レイク インダストリ−ズ インコ−ポレイテツド 高純度シリカの製造方法
JPS6346005A (ja) 1986-08-13 1988-02-26 Nec Corp デジタルト−ン発生回路
US4755298A (en) 1986-12-04 1988-07-05 The Dow Chemical Company Process for removing boron ions from aqueous solutions
CA1300848C (en) * 1986-12-16 1992-05-19 National Research Council Of Canada Recovery and purification of silica
JPH0761852B2 (ja) * 1987-03-23 1995-07-05 日東化学工業株式会社 非焼結クリストバライト化シリカの製造方法
JPS63291808A (ja) 1987-05-25 1988-11-29 Kawatetsu Kogyo Kk 高純度シリカの製造方法
US4973462A (en) 1987-05-25 1990-11-27 Kawatetsu Mining Company, Ltd. Process for producing high purity silica
DE3732073A1 (de) * 1987-09-23 1989-04-06 Siemens Ag Hochreine innenauskleidung fuer einen elektroniederschachtofen
US4973642A (en) * 1988-01-21 1990-11-27 Dow Corning Corporation High temperature crumb rubber for use in composite manufacture
US4865643A (en) 1988-02-17 1989-09-12 Globe Metallurgical, Inc. Smelting process for making elemental silicon and alloys thereof, and apparatus therefor
DE3902753A1 (de) 1989-01-31 1990-08-02 Henkel Kgaa Verfahren zur hydrothermalen herstellung von kaliumsilikatloesungen mit hohem si0(pfeil abwaerts)2(pfeil abwaerts):k(pfeil abwaerts)2(pfeil abwaerts)0-molverhaeltnis
CA2009035A1 (en) 1989-01-31 1990-07-31 Rudolf Novotny Process for hydrothermal production of sodium silicate solutions
JPH0699135B2 (ja) 1989-02-20 1994-12-07 富士デヴィソン株式会社 球状シリカゲルの製造法
JPH02311310A (ja) 1989-05-26 1990-12-26 Kawatetsu Mining Co Ltd 高純度シリカ微粉末の製造方法
US5229095A (en) 1989-10-25 1993-07-20 Hoechst Aktiengesellschaft Process for producing amorphous sodium silicate
US5236682A (en) 1989-10-25 1993-08-17 Hoechst Aktiengesellschaft Process for producing crystalline sodium silicates having a layered structure
US5009703A (en) * 1990-08-13 1991-04-23 Dow Corning Corporation Silicon smelting process in direct current furnace
US5174982A (en) * 1990-12-12 1992-12-29 Dow Corning Corporation Control of carbon balance in a silicon smelting furnace
US5208001A (en) 1991-06-20 1993-05-04 Texas Instruments Incorporated Method for silicon purification
JPH0624613A (ja) 1992-07-09 1994-02-01 Sekisui Chem Co Ltd 親水性原布の接続方法
US5346678A (en) 1992-09-25 1994-09-13 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Production of high specific activity silicon-32
DE59400684D1 (de) 1993-08-07 1996-10-24 Degussa Verfahren zur Herstellung einer Fällungskieselsäure
JP2542797B2 (ja) 1994-09-29 1996-10-09 日本化学工業株式会社 高純度シリカの製造方法
AUPN118095A0 (en) 1995-02-16 1995-03-09 Csr Limited Improved process for the refining of sugar
CA2232777C (en) 1997-03-24 2001-05-15 Hiroyuki Baba Method for producing silicon for use in solar cells
JPH11189408A (ja) * 1997-12-26 1999-07-13 Nippon Steel Chem Co Ltd 太陽電池用シリコンの製造方法
US6090734A (en) 1998-03-18 2000-07-18 Amcol International Corporation Process for purifying clay by the hydrothermal conversion of silica impurities to a dioctahedral or trioctahedral smectite clay
US6132618A (en) 1998-04-16 2000-10-17 Pq Corporation System and method for waking a computer having a plurality of power resources from a system state using a data structure
US6580026B1 (en) 1999-06-30 2003-06-17 Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. Photovoltaic cell
JP4517512B2 (ja) 2001-02-13 2010-08-04 東ソー株式会社 高純度シリカの製造方法
FR2827592B1 (fr) 2001-07-23 2003-08-22 Invensil Silicium metallurgique de haute purete et procede d'elaboration
JP5057622B2 (ja) 2001-09-27 2012-10-24 株式会社渡辺商行 低ホウ素シリカ粒子の製造方法、この方法により得られる低ホウ素シリカ粒子及びこれを用いた低ホウ素石英ガラス粒子の製造方法
JP2003128411A (ja) * 2001-10-18 2003-05-08 Sharp Corp 板状シリコン、板状シリコンの製造方法および太陽電池
JP4022640B2 (ja) 2001-11-20 2007-12-19 東ソー株式会社 塊状高純度シリカ及びその製造方法
JP4436904B2 (ja) 2002-07-23 2010-03-24 新日鉄マテリアルズ株式会社 Si製造方法
EP1649068B1 (en) 2003-07-16 2012-09-26 Amalgamated Research, Inc. Method for purification of high purity sucrose material
US7588745B2 (en) * 2004-04-13 2009-09-15 Si Options, Llc Silicon-containing products
US7297318B2 (en) * 2005-11-17 2007-11-20 J.M. Huber Corporation Method of removing heavy metals from silicate sources during silicate manufacturing

Also Published As

Publication number Publication date
US8568683B2 (en) 2013-10-29
US20070217988A1 (en) 2007-09-20
IL193964A (en) 2013-11-28
KR101450346B1 (ko) 2014-10-14
RU2441839C2 (ru) 2012-02-10
EP2001797A2 (en) 2008-12-17
AU2007226533A1 (en) 2007-09-20
JP5615542B2 (ja) 2014-10-29
CN101426722A (zh) 2009-05-06
BRPI0709288A2 (pt) 2011-07-05
MX2008011655A (es) 2009-01-14
CN101426722B (zh) 2013-06-05
ZA200807787B (en) 2009-06-24
US20110176984A1 (en) 2011-07-21
CA2646180A1 (en) 2007-09-20
KR20080108543A (ko) 2008-12-15
US7922989B2 (en) 2011-04-12
WO2007106860A2 (en) 2007-09-20
WO2007106860A3 (en) 2008-08-21
AU2007226533B2 (en) 2012-12-13
JP2009530218A (ja) 2009-08-27
EP2001797A4 (en) 2015-05-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2008140743A (ru) Способ получения кремния для фотоэлементов и других применений
CN102001649B (zh) 一种高纯度天然石墨的提纯方法
KR101351317B1 (ko) 코크스 오븐 가스 및 제철 부생가스를 이용한 환원가스의 제조방법
JP2010521278A (ja) 新規な直列型パワープラントプロセス及び当該パワープラントプロセスにおいて可逆的に使用可能な水素キャリヤーを提供する方法
JPS63166710A (ja) 二酸化ケイ素の固体炭素質還元剤での環元によるケイ素の製造方法
JP2018131351A (ja) 大気中co2を回収して炭素を分離する方法
JP2010100508A (ja) 高純度シリコンの製造方法
KR100653541B1 (ko) 코크스오븐가스(cog)로부터 수소를 제조하는 방법
US3316062A (en) Method of purifying titanium diboride
JP2010052960A (ja) 高純度シリコンの製造方法及び製造装置並びに高純度シリコン
RU2327639C2 (ru) Способ получения кремния высокой чистоты
JP7028027B2 (ja) Co2を吸収して炭素に分解する方法、及びco2吸収材
JP5937858B2 (ja) マグネシウム製錬方法
CN109305677B (zh) 一种纳米金刚石灰料中石墨碳的去除方法
KR20100113902A (ko) 알루미늄 드로스와 탄소를 이용한 암모니아수 및 아세치렌가스의 제조방법.
JPH02256626A (ja) 高純度アセチレンガスの製造方法
RU2385291C1 (ru) Способ получения кристаллического кремния высокой чистоты (варианты)
JP2019019029A (ja) リンの製造方法
JP7035725B2 (ja) アルカリ珪酸化物の再生方法及びco2の回収・分解方法
KR20090066882A (ko) 석탄화학 부산물로부터 수소가스 제조방법
SU1333229A3 (ru) Способ получени кремни
RU2554150C1 (ru) Способ и устройство карботермического получения кремния высокой чистоты
KR20150068568A (ko) 마그네슘 제련 열환원 공정에 사용되는 환원제 조성물 및 그 제조방법
AU2020289191A1 (en) Method and system network for treating the carbon oxide arising in the production of aluminium
JP5937875B2 (ja) 石灰窒素を用いたマグネシウム製錬方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20170315