RU2007145953A

RU2007145953A - Устойчивое покрытие и способ его производства

Info

Publication number: RU2007145953A
Application number: RU2007145953/02A
Authority: RU
Inventors: Инголф ЕНДЛЕР (DE); Инголф ЕНДЛЕР
Original assignee: Фраунхофер-Геселлскхафт Зур Фердерунг Дер Ангевандтен Форскхунг Е.В. (De); Фраунхофер-Геселлскхафт Зур Фердерунг Дер Ангевандтен Форскхунг Е.В.
Priority date: 2005-07-04
Filing date: 2006-07-04
Publication date: 2009-08-10
Also published as: BRPI0613793A2; US7767320B2; EP1902155A1; EP1902155B1; DE102005032860B4; KR20080028980A; RU2405858C2; US20090123779A1; CA2613091C; JP2008545063A; CN101218370A; CN101218370B; PL1902155T3; WO2007003648A1; DE102005032860A1; CA2613091A1; MX2008000148A; BRPI0613793B1; JP4996602B2; ES2567589T3

Abstract

1. Покрытое твердым материалом тело с одноуровневой или многоуровневой системой слоев, которое содержит как минимум один твердый слой Ti1-XAlXN, созданный при помощи химического осаждения из газовой фазы без усиления плазмой, причем твердый слой Ti1-XAlXN представлен как однофазный слой кубической NaCl-структуры и стехиометрическим коэффициентом x>0,75 до х=0,93, и постоянной решетки afCC между 0,412 и 0,405 нм, или же при том, что твердый слой Ti1-XAlXN является многофазным слоем, основная фаза которого состоит из Ti1-XAlXN с кубической NaCl-структурой, со стехиометрическим коэффициентом x>0,75 до х=0,93, и постоянной решетки afCC между 0,412 и 0,405 нм, и в котором содержится в качестве дополнительной фазы Ti1-XAlXN с вюртцитовой структурой, и/или в качестве TiNX с NaCl-структурой, причем содержание хлора твердого слоя Ti1-XAlXN лежит в диапазоне от 0,05 до 0,9 ат.%. ! 2. Тело по п.1, отличающееся тем, что содержание хлора твердого слоя (слоев) Ti1-XAlXN лежит в диапазоне от 0,1 до 0,5 ат.%. ! 3. Тело по п.1, отличающееся тем, что содержание кислорода твердого слоя (слоев) Ti1-XAlXN лежит в диапазоне от 0,1 до 5 ат.%. ! 4. Тело по п.1, отличающееся тем, что значение твердости твердого слоя (слоев) Ti1-XAlXN лежит в диапазоне от 2500 HV до 3800 HV. ! 5. Тело, покрытое твердым материалом по п.1, отличающееся тем, что от 0 до 30% массы твердого слоя (слоев) Ti1-XAlXN представляют аморфные составляющие слоя. ! 6. Способ производства покрытых твердыми материалами тел, с одноуровневой или многоуровневой системой слоев, которая содержит по меньшей мере один твердый слой Ti1-XAlXN, отличающийся тем, что на тела наносится покрытие в реакторе при температурах в диапазоне от 700 до 900°С при помощи химического осаждения без усиления с помощью плазм

Claims

1. Покрытое твердым материалом тело с одноуровневой или многоуровневой системой слоев, которое содержит как минимум один твердый слой Ti_1-XAl_XN, созданный при помощи химического осаждения из газовой фазы без усиления плазмой, причем твердый слой Ti_1-XAl_XN представлен как однофазный слой кубической NaCl-структуры и стехиометрическим коэффициентом x>0,75 до х=0,93, и постоянной решетки a_fCC между 0,412 и 0,405 нм, или же при том, что твердый слой Ti_1-XAl_XN является многофазным слоем, основная фаза которого состоит из Ti_1-XAl_XN с кубической NaCl-структурой, со стехиометрическим коэффициентом x>0,75 до х=0,93, и постоянной решетки a_fCC между 0,412 и 0,405 нм, и в котором содержится в качестве дополнительной фазы Ti_1-XAl_XN с вюртцитовой структурой, и/или в качестве TiN_X с NaCl-структурой, причем содержание хлора твердого слоя Ti_1-XAl_XN лежит в диапазоне от 0,05 до 0,9 ат.%.

2. Тело по п.1, отличающееся тем, что содержание хлора твердого слоя (слоев) Ti_1-XAl_XN лежит в диапазоне от 0,1 до 0,5 ат.%.

3. Тело по п.1, отличающееся тем, что содержание кислорода твердого слоя (слоев) Ti_1-XAl_XN лежит в диапазоне от 0,1 до 5 ат.%.

4. Тело по п.1, отличающееся тем, что значение твердости твердого слоя (слоев) Ti_1-XAl_XN лежит в диапазоне от 2500 HV до 3800 HV.

5. Тело, покрытое твердым материалом по п.1, отличающееся тем, что от 0 до 30% массы твердого слоя (слоев) Ti_1-XAl_XN представляют аморфные составляющие слоя.

6. Способ производства покрытых твердыми материалами тел, с одноуровневой или многоуровневой системой слоев, которая содержит по меньшей мере один твердый слой Ti_1-XAl_XN, отличающийся тем, что на тела наносится покрытие в реакторе при температурах в диапазоне от 700 до 900°С при помощи химического осаждения без усиления с помощью плазмы, причем в качестве прекурсоров находят применение галогениды титана, галогениды алюминия и реактивные азотсодержащие соединения, которые смешиваются при повышенных температурах.

7. Способ по п.6, отличающийся тем, что в качестве реактивных азотсодержащих соединений применяются NH₃ и/или N₂H₄.

8. Способ по п.6, отличающийся тем, что прекурсоры смешиваются в реакторе непосредственно перед зоной осаждения.

9. Способ по п.6, отличающийся тем, что смешение прекурсоров производится при температурах в диапазоне от 150 до 900°С.

10. Способ по п.6, отличающийся тем, что нанесение покрытия производится при давлениях в диапазоне от 10² до 10⁵ Па.