WO2017175803A1 - 被覆切削工具 - Google Patents

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WO2017175803A1
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composite nitride
cutting tool
coated cutting
nitride layer
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雄亮 平野
普賢 西澤
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株式会社タンガロイ
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Definitions

  • the present invention relates to a coated cutting tool.
  • Patent Document 1 two types of compounds of Ti x Al 1-x N and Ti y Al 1-y N (0 ⁇ x ⁇ 0.5, 0.5 ⁇ y ⁇ 1) are alternately repeated. Coated cutting tools that have been laminated and become aluminum-rich as a whole of the laminate have been proposed.
  • Patent Document 1 has a problem that although a cutting tool having a lamination cycle of 0.4 to 50 nm and a thin film lamination exhibits high wear resistance, the tool is liable to be damaged.
  • the present invention has been made to solve these problems, and an object of the present invention is to provide a coated cutting tool having a long tool life with improved fracture resistance without deteriorating wear resistance.
  • the inventors of the present invention have made studies on extending the tool life of the coated cutting tool, and improved the fracture resistance without reducing the wear resistance by improving the layer structure and composition of the coating layer. As a result, it has been found that the tool life of the coated cutting tool can be extended, and the present invention has been completed.
  • a coated cutting tool comprising a substrate and a coating layer formed on the surface of the substrate, wherein the coating layer is represented by the following formula (1): (Ti x Al 1-x ) N (1) (In the formula, x represents the atomic ratio of Ti element to the total of Ti element and Al element, and satisfies 0.10 ⁇ x ⁇ 0.35.)
  • M represents at least one element selected from the group consisting of Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Si, and Y
  • y represents a Ti element, an Al element, and M.
  • the first composite nitride layer has a lattice constant of 0.400 nm to 0.430 nm.
  • the coated cutting tool containing the phase which is the following, and the phase whose lattice constant is 0.755 nm or more and 0.810 nm or less.
  • the first composite nitride layer has a cubic crystal system, a phase having a lattice constant of 0.410 nm to 0.420 nm, and a cubic crystal system, and a lattice constant of 0.770 nm.
  • the average thickness T 1 of the per layer of the first composite nitride layer is 4nm or 200nm or less, [1] coated cutting tool according to any one of - [3].
  • the average thickness T 2 of the per layer of the second composite nitride layer is 4nm or 200nm or less, [1] coated cutting tool according to any one of - [4].
  • the ratio [T 1 / T 2 ] of the average thickness T 1 per layer of the first composite nitride layer to the average thickness T 2 per layer of the second composite nitride layer is 0
  • the coated cutting tool according to any one of claims 1 to 5, which is 10 or more and 1.30 or less.
  • the ratio [T 1 / T 2 ] of the average thickness T 1 of the first composite nitride layer to the average thickness T 2 of the second composite nitride layer per layer is 0
  • the coated cutting tool according to any one of [1] to [7], wherein an average thickness of the alternately laminated structure is 1.5 ⁇ m or more and 12.0 ⁇ m or less.
  • the coating layer has a lower layer between the base material and the alternate laminated structure, and the lower layer includes Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, A single layer or a laminate of a compound comprising at least one element selected from the group consisting of Al, Si and Y and at least one element selected from the group consisting of C, N, O and B, and
  • the coated cutting tool according to any one of [1] to [8], wherein the average thickness of the layer is 0.1 ⁇ m or more and 3.5 ⁇ m or less.
  • the coating layer has an upper layer on the surface of the alternately laminated structure, and the upper layer includes Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Al, Si, and Y.
  • a single layer or a laminate of a compound comprising at least one element selected from the group consisting of and at least one element selected from the group consisting of C, N, O and B, and the average thickness of the upper layer Is a coated cutting tool according to any one of [1] to [9], which is 0.1 ⁇ m or more and 3.5 ⁇ m or less.
  • the coated cutting tool according to any one of [1] to [10] wherein the average thickness of the entire coating layer is 1.5 ⁇ m or more and 15.0 ⁇ m or less.
  • the present embodiment a mode for carrying out the present invention (hereinafter simply referred to as “the present embodiment”) will be described in detail, but the present invention is not limited to the present embodiment described below.
  • the present invention can be variously modified without departing from the gist thereof.
  • the coated cutting tool of this embodiment includes a base material and a coating layer formed on the surface of the base material.
  • the base material in this embodiment is not particularly limited as long as it can be used as a base material for a coated cutting tool.
  • the substrate include cemented carbide, cermet, ceramics, cubic boron nitride sintered body, diamond sintered body, and high speed steel.
  • the base material is at least one selected from the group consisting of cemented carbide, cermet, ceramics, and cubic boron nitride sintered body, since it is further excellent in wear resistance and fracture resistance. .
  • the average thickness of the entire coating layer when the average thickness of the entire coating layer is 1.5 ⁇ m or more, the wear resistance tends to be further improved. On the other hand, when the average thickness of the entire coating layer is 15.0 ⁇ m or less, the fracture resistance tends to be further improved. Therefore, the average thickness of the entire coating layer is preferably 1.5 ⁇ m or more and 15.0 ⁇ m or less. Among these, from the same viewpoint as described above, the overall average thickness of the coating layer is more preferably 2.0 ⁇ m or more and 10.0 ⁇ m or less.
  • the coating layer of this embodiment has an alternately laminated structure in which two or three different layers having different compositions are alternately laminated. At least one layer in the alternately laminated structure includes a specific layer described below (hereinafter referred to as “first composite nitride layer”).
  • the first composite nitride layer according to this embodiment has the following formula (1): (Ti x Al 1-x ) N (1) Since the compound which has the composition represented by this is contained, it is excellent in oxidation resistance.
  • the compound having the composition represented by the above formula (1) in the first composite nitride layer of the present embodiment preferably includes cubic crystals, or cubic crystals and hexagonal crystals.
  • x represents the atomic ratio of Ti element to the total of Ti element and Al element, and satisfies 0.10 ⁇ x ⁇ 0.35.
  • the atomic ratio x of the Ti element is 0.10 or more, the content of Al can be reduced, so that the abundance ratio of hexagonal crystals can be further reduced, and as a result, a decrease in wear resistance can be suppressed.
  • the atomic ratio x of the Ti element is 0.35 or less, the decrease in oxidation resistance can be suppressed by increasing the Al content.
  • At least one layer in the alternately laminated structure of the coating layers of the present embodiment includes a specific layer described below (hereinafter referred to as “second composite nitride layer”).
  • the second composite nitride layer according to this embodiment has the following formula (2): (Ti y Al z M 1-yz ) N (2) Since it contains a compound having a composition represented by the formula, it is excellent in wear resistance.
  • the compound having the composition represented by the above formula (2) in the second composite nitride layer of the present embodiment preferably includes cubic crystals, or cubic crystals and hexagonal crystals.
  • M represents at least one element selected from the group consisting of Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Si and Y
  • y represents Ti element and Al.
  • the atomic ratio of Ti element to the sum of the element and the element represented by M is shown
  • z represents the atomic ratio of the Al element to the sum of the Ti element, Al element and the element represented by M, and 0.30 ⁇ y ⁇ 0.90, 0.10 ⁇ z ⁇ 0.70, and y + z ⁇ 1 are satisfied.
  • the atomic ratio y of the Ti element is 0.30 or more, the decrease in wear resistance can be suppressed by increasing the Ti content, and when it is 0.90 or less, the Al content increases.
  • a decrease in oxidation resistance can be suppressed.
  • the atomic ratio z of the Al element is 0.10 or more, a decrease in oxidation resistance can be suppressed by increasing the Al content, and when it is 0.70 or less, the Ti content increases. Thus, it is possible to suppress a decrease in wear resistance. Further, by containing the element represented by M, wear resistance and fracture resistance are improved. Among them, when the atomic ratio y of Ti element is 0.30 or more and 0.80 or less and / or the atomic ratio z of Al element is 0.20 or more and 0.70 or less, wear resistance and oxidation resistance This is preferable because it is more excellent in balance.
  • the atomic ratio y of Ti element is 0.50 or more and 0.70 or less and / or the atomic ratio z of Al element is 0.30 or more and 0.50 or less.
  • y + z is 0.05 or more and 0.30 or less, it is preferable because the balance between wear resistance and oxidation resistance is excellent, and from the same viewpoint, y + z is 0.10 or more and 0.20 or less. More preferred.
  • the element represented by M is at least one element selected from the group consisting of Zr, V, Nb, Cr, Mo, W, and Si from the viewpoint of more effectively and reliably achieving the effects of the present invention. It is preferable.
  • each composite nitride layer when the composition of each composite nitride layer is expressed as (Ti 0.35 Al 0.65 ) N, the atomic ratio of Ti element to the total of Ti element and Al element is 0.35.
  • the atomic ratio of Al element to the sum of Ti element and Al element is 0.65. That is, it means that the amount of Ti element with respect to the sum of Ti element and Al element is 35 atomic%, and the amount of Al element with respect to the sum of Ti element and Al element is 65 atomic%.
  • the first composite nitride layer in the coated cutting tool of the present embodiment includes a phase having a lattice constant of 0.400 nm to 0.430 nm
  • the first composite nitride layer becomes dense, and the coated cutting tool Excellent wear resistance.
  • the 1st composite nitride layer of the coated cutting tool of this embodiment contains the phase whose lattice constant is 0.755 nm or more and 0.810 nm or less, it suppresses the progress of the crack (crack) generated during processing. In order to achieve the effect, the coated cutting tool has excellent fracture resistance.
  • the first composite nitride layer preferably includes a phase having a lattice constant of 0.410 nm to 0.430 nm and a phase having a lattice constant of 0.760 nm to 0.800 nm. More preferably, it includes a phase having a lattice constant of 0.410 nm to 0.420 nm and a phase having a lattice constant of 0.770 nm to 0.795 nm.
  • the first composite nitride layer of the coated cutting tool of the present embodiment if the crystal system of the phase having a lattice constant of 0.400 nm to 0.430 nm is a cubic crystal, the first composite nitride layer has wear resistance. It is preferable because it has a tendency to be more excellent. In the first composite nitride layer of the coated cutting tool of the present embodiment, if the crystal system of the phase having a lattice constant of 0.755 nm or more and 0.810 nm or less is a cubic crystal, the first composite nitride layer is This is preferable because it has a tendency to further improve the wearability.
  • a phase crystal system having a lattice constant of 0.410 nm to 0.430 nm and a phase crystal system having a lattice constant of 0.760 nm to 0.800 nm are more preferably cubic, and the crystal system of a phase having a lattice constant of 0.410 nm to 0.420 nm and a phase having a lattice constant of 0.770 nm to 0.795 nm are both cubic. More preferably, it is a crystal.
  • the second composite nitride layer in the coated cutting tool of the present embodiment includes a phase having a lattice constant of 0.400 nm or more and 0.430 nm or less
  • the second composite nitride layer becomes denser, and the coated cutting tool is This is preferable because it is further excellent in wear resistance.
  • the second composite nitride layer of the coated cutting tool of the present embodiment if the crystal system of the phase having a lattice constant of 0.400 nm or more and 0.430 nm or less is a cubic crystal, the second composite nitride layer has wear resistance. This is preferable because it has a tendency to be more excellent.
  • the first composite nitride layer in the coated cutting tool of the present embodiment has two phases having different lattice constants, and thus has excellent wear resistance and fracture resistance.
  • the second composite nitride layer in the coated cutting tool of the present embodiment exhibits good wear resistance, particularly in steel processing, due to the high Ti content ratio.
  • the abrasion resistance of a coated cutting tool improves.
  • the coating layer has an alternate laminated structure, cracks generated during processing are likely to progress in a direction parallel to the interface between the first composite nitride layer and the second composite nitride layer, and the cracks reach the substrate. The effect of suppressing the progress is obtained, and as a result, the fracture resistance is improved.
  • the lattice constant can be obtained from the relational expression (shown below) between the obtained lattice plane spacing and the lattice constant.
  • Bragg's formula: 2d ⁇ / sin ⁇
  • a 2 d 2 ⁇ (h 2 + k 2 + l 2 )
  • a 2 d 2 ⁇ ⁇ 4/3 ⁇ (h 2 + k 2 + l 2 ) + l 2 ⁇ (c / a) 2 ⁇
  • d is the lattice spacing
  • is the wavelength of the tube used for the measurement
  • is the incident angle
  • a is the lattice constant
  • h, k, and l are surface indices.
  • the lattice spacing and the crystal system in each composite nitride layer of this embodiment can be derived using a commercially available transmission microscope (TEM).
  • TEM transmission microscope
  • FIB focused ion beam
  • a thin film sample having a cross-section of the coating layer as an observation surface is prepared, and using a TEM apparatus TeknaiOsiris (product name) manufactured by FEI Co., Ltd. Can be measured.
  • the crystal system of the crystal grains contained in each composite nitride layer is obtained by irradiating the region of each composite nitride layer with an electron beam having a spot diameter corresponding to the thickness of each composite nitride layer, thereby limiting the field-of-view electron diffraction image. (SAD).
  • SAD field-of-view electron diffraction image.
  • attached Fourier transform software may be used for the lattice spacing and crystal system of each composite nitride layer.
  • each diffraction surface index and grating plane spacing can be measured using analysis software manufactured by Gatan.
  • a magnification capable of observing a lattice image of a measurement location, and more preferably at a magnification of 500,000 times or more.
  • a Fourier transform image (hereinafter referred to as “FFT image”) is used. Can be obtained.
  • the distance between the lattice planes can be derived from the distance between the transmitted wave (center spot) obtained at the center of the FFT image and the diffraction spot.
  • the lattice constant can be obtained by identifying the crystal system from the ratio of the distances between the lattice planes derived from the FFT image. Specifically, the lattice constant can be obtained by substituting the lattice spacing into the relational expression between the lattice spacing and the lattice constant obtained for the identified crystal system.
  • the lattice constant in a thin film sample, when a phase having a lattice constant of 0.755 nm or more and 0.810 nm or less is observed in a range of 1 ⁇ m in a direction parallel to the substrate, at least Preferably one or more are observed.
  • coated cutting tool of the present embodiment if the average thickness T 1 of the per layer of the first composite nitride layer is 4nm or more, it is possible to form more first composite nitride layer of uniform thickness Therefore, it is preferable. On the other hand, if the average thickness T 1 is is 200nm or less, the hardness of the alternate stacked structure is further increased, the abrasion resistance of the coated cutting tool is preferable to further improved.
  • the average thickness T 2 of per layer of the second composite nitride layer is 4nm or more, it can be formed more second composite nitride layer of uniform thickness Therefore, it is preferable.
  • the average the second thickness T 2 is at 200nm or less, the hardness of the alternate stacked structure is further increased, the abrasion resistance of the coated cutting tool is preferable to further improved.
  • the ratio of the average thickness T 1 per layer of the first composite nitride layer to the average thickness T 2 per layer of the second composite nitride layer [T 1 / T 2 ] is preferably 0.10 or more because the effect of suppressing the progress of cracks generated during processing is more sufficiently exhibited.
  • an average thickness ratio [T 1 / T 2 ] of 1.30 or less is preferable because the balance between wear resistance and fracture resistance is further improved.
  • the ratio [T 1 / T 2 ] of the average thickness T 1 per layer of the first composite nitride layer to the average thickness T 2 per layer of the second composite nitride layer is determined. 0.10 or more and 0.90 or less is more preferable.
  • the average thickness of the alternately laminated structure when the average thickness of the alternately laminated structure is 1.5 ⁇ m or more, the wear resistance tends to be further improved. On the other hand, when the average thickness of the alternately laminated structure is 12.0 ⁇ m or less, the defect resistance tends to be further improved. Therefore, it is preferable that the average thickness of the alternately laminated structure is 1.5 ⁇ m or more and 12.0 ⁇ m or less.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of a cross-sectional structure of the coated cutting tool of the present embodiment.
  • the coated cutting tool 8 includes a substrate 1 and a coating layer 7 formed on the surface of the substrate 1.
  • the coating layer 7 is formed by laminating a lower layer 2, which will be described later, an alternating laminated structure 6, and an upper layer 5, which will be described later, in order from the substrate 1 side.
  • the alternate laminated structure 6 is formed by alternately laminating first composite nitride layers 3 and second composite nitride layers 4 in order from the lower layer 2 side to the upper layer 5 side.
  • Each of the layer 3 and the second composite nitride layer 4 has four layers. In this case, the number of repetitions is four. Further, for example, the first composite nitride layer 3 and the second composite nitride layer 4 are arranged in order from the lower layer 2 side to the upper layer 5 side.
  • the coating layer 7 includes both the lower layer 2 and the upper layer 5, but the coating layer may include only the lower layer 2 and the upper layer 5, or may not include both. .
  • the covering layer according to the present embodiment may be configured only by the alternately laminated structure of each composite nitride layer, but when the lower layer is provided between the base material and the alternately laminated structure (that is, the lower layer of the alternately laminated structure). Since the adhesion between the substrate and the alternately laminated structure is further improved, it is preferable.
  • the lower layer is composed of at least one element selected from the group consisting of Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Al, Si, and Y from the same viewpoint as above.
  • it contains a compound consisting of at least one element selected from the group consisting of C, N, O and B, and at least one selected from the group consisting of Ti, V, Nb, Cr, Mo, W, Al and Si. More preferably, it contains a compound consisting of a seed element and at least one element selected from the group consisting of C, N, O and B, and consists of Ti, V, Nb, Cr, Mo, W, Al and Si. More preferably, it contains a compound consisting of N and at least one element selected from the group.
  • the lower layer may be a single layer or a multilayer of two or more layers.
  • the average thickness of the lower layer is 0.1 ⁇ m or more and 3.5 ⁇ m or less because the adhesion between the substrate and the coating layer tends to be further improved.
  • the average thickness of the lower layer is more preferably 0.3 ⁇ m or more and 3.0 ⁇ m or less, and further preferably 0.5 ⁇ m or more and 3.0 ⁇ m or less.
  • the covering layer of the present embodiment may have an upper layer on the opposite side of the substrate having the alternately laminated structure (that is, the upper layer of the alternately laminated structure), preferably on the surface of the alternately laminated structure.
  • the upper layer is composed of at least one element selected from the group consisting of Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Al, Si and Y, and a group consisting of C, N, O and B It is more preferable to include a compound composed of at least one element selected from the above, since the wear resistance is further improved.
  • the upper layer is composed of at least one element selected from the group consisting of Ti, Nb, Cr, Mo, W, Al and Si, and a group consisting of C, N, O and B. More preferably, it includes a compound composed of at least one element selected, and includes a compound composed of N and at least one element selected from the group consisting of Ti, Nb, Cr, Mo, W, Al, and Si. And more preferred.
  • the upper layer may be a single layer or a multilayer of two or more layers.
  • the average thickness of the upper layer is 0.1 ⁇ m or more and 3.5 ⁇ m or less because it tends to be more excellent in wear resistance. From the same viewpoint, the average thickness of the upper layer is more preferably 0.2 ⁇ m or more and 2.0 ⁇ m or less, and further preferably 0.3 ⁇ m or more and 1.0 ⁇ m or less.
  • the manufacturing method of the coating layer in the coated cutting tool of the present embodiment is not particularly limited, but for example, physical vapor deposition methods such as ion plating method, arc ion plating method, sputtering method, and ion mixing method Is mentioned. It is preferable to form a coating layer using physical vapor deposition because a sharp edge can be formed. Among these, the arc ion plating method is more preferable because it is more excellent in the adhesion between the coating layer and the substrate.
  • the manufacturing method of the coated cutting tool of this embodiment will be described below using a specific example.
  • the manufacturing method of the coated cutting tool of this embodiment is not specifically limited as long as the configuration of the coated cutting tool can be achieved.
  • the base material processed into a tool shape is accommodated in a reaction container of a physical vapor deposition apparatus, and a metal evaporation source is installed in the reaction container. Thereafter, the inside of the reaction vessel is evacuated until the pressure becomes 1.0 ⁇ 10 ⁇ 2 Pa or less, and the substrate is heated by the heater in the reaction vessel until the temperature becomes 200 ° C. to 700 ° C. After heating, Ar gas is introduced into the reaction vessel, and the pressure in the reaction vessel is set to 0.5 Pa to 5.0 Pa.
  • the substrate is heated until its temperature reaches 150 ° C. to 400 ° C. After heating, N 2 gas is introduced into the reaction vessel, and the pressure in the reaction vessel is set to 0.5 Pa to 5.0 Pa. Then, a lower layer may be formed by applying a bias voltage of ⁇ 50 V to ⁇ 80 V to the substrate and evaporating a metal evaporation source corresponding to the metal component of each layer by arc discharge with an arc current of 100 A to 150 A.
  • the temperature of the substrate is controlled to be 150 ° C. to 400 ° C., and nitrogen gas (N 2 ), argon gas (Ar), and xenon gas (Xe) are controlled.
  • N 2 nitrogen gas
  • Ar argon gas
  • Xe xenon gas
  • Is introduced into the reaction vessel, and the pressure in the reaction vessel is adjusted to 1.0 to 4.0 Pa.
  • a bias voltage of ⁇ 40 V to ⁇ 100 V is applied to the substrate, and the metal evaporation source corresponding to the metal component of the first composite nitride layer is evaporated by arc discharge with 35 A to 80 A.
  • a layer may be formed.
  • the atomic ratio of Al element to the total of Ti element and Al element is 0.65. It is preferable to use a metal evaporation source of 0.90 or less. Further, in order to form a phase having a lattice constant of 0.755 nm or more and 0.810 nm or less in the first composite nitride layer of the present embodiment, the atomic ratio of Al element to the total of Ti element and Al element is set to 0.
  • the temperature of the base material is lowered to 150 to 400 ° C.
  • the atmosphere in the reaction vessel of the physical vapor deposition apparatus is N 2 gas, Ar gas and Xe gas It is preferable to form the first composite nitride layer under the condition of a mixed gas atmosphere comprising: At this time, when the proportion of Xe gas in the reaction vessel is increased, the lattice constant tends to increase.
  • the temperature of the substrate is controlled so as to be 150 ° C. to 400 ° C. If the temperature of the base material is the same as the temperature of the base material when forming the first composite nitride layer, the first composite nitride layer and the second composite nitride layer may be formed continuously. It is preferable because it is possible.
  • N 2 gas or N 2 gas and Ar gas are introduced into the reaction vessel, and the pressure in the reaction vessel is set to 0.5 Pa to 5.0 Pa.
  • a bias voltage of ⁇ 40 V to ⁇ 80 V is applied to the base material, and a metal evaporation source corresponding to the metal component of the second composite nitride layer is evaporated by arc discharge with an arc current of 80 A to 150 A, so that the second composite nitride is obtained.
  • a physical layer may be formed.
  • each composite is obtained by alternately evaporating two or more kinds of metal evaporation sources under the above-described conditions by arc discharge.
  • the nitride layers may be formed alternately.
  • By adjusting the arc discharge time of the metal evaporation source it is possible to control the thickness of each composite nitride layer constituting the alternately laminated structure.
  • each layer constituting the coating layer in the coated cutting tool of this embodiment can be measured from the cross-sectional structure of the coated cutting tool using an optical microscope, a scanning electron microscope (SEM), a TEM, or the like.
  • the average thickness of each layer in the coated cutting tool of the present embodiment is from three or more cross sections in the vicinity of the position of 50 ⁇ m from the edge of the edge of the surface facing the metal evaporation source toward the center of the surface. It can be obtained by measuring the thickness of each layer and calculating the average value (arithmetic average value).
  • composition of each layer constituting the coating layer in the coated cutting tool of the present embodiment is determined from the cross-sectional structure of the coated cutting tool of the present embodiment by using an energy dispersive X-ray analyzer (EDS) or a wavelength dispersive X-ray analyzer. (WDS) or the like can be used for measurement.
  • EDS energy dispersive X-ray analyzer
  • WDS wavelength dispersive X-ray analyzer
  • the coated cutting tool of this embodiment is considered to have an effect that the tool life can be extended compared to the conventional case mainly due to the excellent wear resistance and fracture resistance (however, the tool life is extended).
  • the possible factors are not limited to the above).
  • Specific examples of the coated cutting tool of the present embodiment include milling or turning cutting edge exchangeable cutting inserts, drills, and end mills.
  • Example 1 As a base material, a cemented carbide having a composition of 90.2WC-9.8Co (more than mass%) was prepared by processing into an ISO standard SEEN1203AGTN shape insert. A metal evaporation source was arranged in the reaction vessel of the arc ion plating apparatus so as to have the composition of each layer shown in Table 1 and Table 2. The prepared base material was fixed to the fixture of the turntable in the reaction vessel.
  • the inside of the reaction vessel was evacuated until the pressure became a vacuum of 5.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa or less.
  • the substrate was heated with a heater in the reaction vessel until the temperature reached 450 ° C. After heating, Ar gas was introduced into the reaction vessel so that the pressure was 2.7 Pa.
  • Ion bombardment treatment with Ar gas on the surface of the substrate by applying a bias voltage of ⁇ 400 V to the substrate in an Ar gas atmosphere at a pressure of 2.7 Pa, causing a 40 A current to flow through the tungsten filament in the reaction vessel. For 30 minutes. After completion of the ion bombardment treatment, the reaction vessel was evacuated until the pressure became 5.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa or less.
  • the substrate was controlled so that its temperature became the temperature shown in Table 3 (temperature at the start of film formation), and the gas having the composition shown in Table 3 was placed in the reaction vessel.
  • the pressure was adjusted to the gas conditions shown in Table 3 by introducing the reaction vessel.
  • the bias voltage shown in Table 3 was applied to the substrate, and the metal evaporation sources of the first composite nitride layer and the second composite nitride layer having the composition shown in Table 1 were alternately used.
  • the first composite nitride layer and the second composite nitride layer were alternately formed on the surface of the substrate by evaporating by arc discharge with an arc current shown in Table 3.
  • the gas conditions and pressure in the reaction vessel shown in Table 3 were controlled. Further, the thickness of the first composite nitride layer and the thickness of the second composite nitride layer were controlled by adjusting the respective arc discharge times so as to have the thicknesses shown in Table 1.
  • the substrate was controlled so that its temperature became the temperature shown in Table 4 (temperature at the start of film formation), and a gas having the composition shown in Table 4 was introduced into the reaction vessel.
  • the gas conditions in the reaction vessel were adjusted to the pressure shown in Table 4.
  • the bias voltage shown in Table 4 was applied to the base material, the metal evaporation source having the composition shown in Table 2 was evaporated by arc discharge of the arc current shown in Table 4, and the thickness shown in Table 2 was formed on the surface of the base material.
  • a single layer (A layer) having a thickness was formed.
  • the heater was turned off and the sample temperature was 100 ° C. or lower, and then the sample was taken out from the reaction vessel.
  • the “average thickness per layer” of the A layer is T 1
  • the “average thickness per layer” of the B layer is T 2 .
  • the average thickness of each layer of the obtained sample was measured by TEM observation of three cross sections in the vicinity of a position of 50 ⁇ m from the edge of the edge of the surface facing the metal evaporation source of the coated cutting tool toward the center of the surface. Then, the thickness of each layer was measured, and the average value (arithmetic average value) was calculated. Further, from the obtained average thickness T 1 per layer of the first composite nitride layer and the average thickness T 2 per layer of the second composite nitride layer, per layer of the second composite nitride layer the average ratio of the thickness T 1 of the per layer of for the average the second thickness T 2 first composite nitride layer [T 1 / T 2] was calculated. The results are also shown in Table 1 and Table 2. For convenience, the "average thickness per layer" of the A layer in the comparative product and T 1, the B layer "average thickness per layer” was T 2.
  • composition of each layer of the obtained sample was measured using an EDS attached to the TEM in a cross section in the vicinity of a position from the edge of the edge of the surface of the coated cutting tool facing the metal evaporation source to 50 ⁇ m toward the center. did.
  • the results are also shown in Table 1 and Table 2.
  • the composition ratio of the metal element of each layer of Table 1 and Table 2 shows the atomic ratio of each metal element with respect to the whole metal element in the metal compound which comprises each layer.
  • the lattice constant and crystal system of the obtained sample were derived using a commercially available TEM.
  • a FIB processing machine manufactured by FEI Co., Ltd.
  • a thin film sample having a cross-section of the coating layer as an observation surface was prepared.
  • a lattice image of each composite nitride layer was taken at a magnification of 500,000 times using a TEM apparatus TecnaiOsiris (product name) manufactured by FEI Co., Ltd.
  • An FFT image was obtained from the photographed image using analysis software manufactured by Gatan.
  • the lattice spacing was derived from the intensity (center spot) obtained at the center of the FFT image and the distance between the diffraction spots, and the crystal system and lattice constant were determined. The results are shown in Tables 5 and 6. For the comparative product, the crystal system and lattice constant of the A layer and the B layer were measured.
  • the evaluations of the wear resistance test of the invention products were all evaluations of “B” or higher, and the evaluations of the comparative products were “B” or “C”. Therefore, it can be seen that the wear resistance of the inventive product is equal to or greater than that of the comparative product.
  • the evaluations of the fracture resistance test of the invention products were all “A” or “B” evaluations, and the evaluations of the comparative products were all “C”.
  • Example 2 As a base material, a cemented carbide having a composition of 90.2WC-9.8Co (more than mass%) was prepared by processing into an ISO standard SEEN1203AGTN shape insert. A metal evaporation source was arranged in the reaction vessel of the arc ion plating apparatus so as to have the composition of each layer shown in Table 8 and Table 9. The prepared base material was fixed to the fixture of the turntable in the reaction vessel.
  • the inside of the reaction vessel was evacuated until the pressure became a vacuum of 5.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa or less.
  • the substrate was heated with a heater in the reaction vessel until the temperature reached 450 ° C. After heating, Ar gas was introduced into the reaction vessel so that the pressure was 2.7 Pa.
  • Ion bombardment treatment with Ar gas on the surface of the substrate by applying a bias voltage of ⁇ 400 V to the substrate in an Ar gas atmosphere at a pressure of 2.7 Pa, causing a 40 A current to flow through the tungsten filament in the reaction vessel. For 30 minutes. After completion of the ion bombardment treatment, the reaction vessel was evacuated until the pressure became 5.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa or less.
  • the substrate was heated until its temperature reached 350 ° C., and N 2 gas was introduced into the reaction vessel so that the pressure in the reaction vessel was 3.0 Pa. Thereafter, a bias voltage of ⁇ 50 V was applied to the base material, and a metal evaporation source having the composition shown in Table 8 was evaporated by arc discharge with an arc current of 120 A to form a lower layer.
  • inventive products 14 to 17 the substrate was controlled so that its temperature became the temperature shown in Table 10 (temperature at the start of film formation), and a gas having the composition shown in Table 10 was introduced into the reaction vessel.
  • the gas conditions in the reaction vessel were adjusted to the pressure shown in Table 10.
  • the bias voltage shown in Table 10 was applied to the base material, and the metal evaporation sources of the first composite nitride layer and the second composite nitride layer having the composition shown in Table 8 were alternately used.
  • the first composite nitride layer and the second composite nitride layer were alternately formed on the surface of the lower layer by evaporation by arc discharge shown in Table 10.
  • the gas conditions and pressure in the reaction vessel shown in Table 10 were controlled. Further, the thickness of the first composite nitride layer and the thickness of the second composite nitride layer were controlled by adjusting the respective arc discharge times so as to have the thicknesses shown in Table 8.
  • the substrate was heated until its temperature reached 350 ° C., and N 2 gas was introduced so that the pressure in the reaction vessel became 3.0 Pa. Thereafter, a bias voltage of ⁇ 50 V was applied to the base material, and the metal evaporation source shown in Table 8 was evaporated by arc discharge with an arc current of 120 A to form an upper layer.
  • the substrate was heated until its temperature reached 350 ° C., and N 2 gas was introduced into the reaction vessel so that the pressure in the reaction vessel became 3.0 Pa. Thereafter, a bias voltage of ⁇ 50 V was applied to the substrate, and the metal evaporation source having the composition shown in Table 9 was evaporated by arc discharge with an arc current of 120 A, thereby forming a lower layer.
  • the substrate was controlled so that its temperature became the temperature shown in Table 11 (temperature at the start of film formation), and a gas having the composition shown in Table 11 was introduced into the reaction vessel.
  • the gas conditions in the reaction vessel were adjusted to the pressure shown in Table 11.
  • the bias voltage shown in Table 11 was applied to the substrate, and the metal evaporation sources of the A layer and B layer having the composition shown in Table 9 were alternately turned on by arc discharge shown in Table 11.
  • a layer and B layer were alternately formed on the surface of the lower layer.
  • the gas conditions and pressure in the reaction vessel shown in Table 11 were controlled.
  • the thickness of the A layer and the thickness of the B layer were controlled by adjusting the respective arc discharge times so as to have the thicknesses shown in Table 9.
  • the substrate was heated until its temperature reached 350 ° C., and N 2 gas was introduced so that the pressure in the reaction vessel became 3.0 Pa. Thereafter, a bias voltage of ⁇ 50 V was applied to the base material, and the metal evaporation source shown in Table 9 was evaporated by arc discharge with an arc current of 120 A to form an upper layer.
  • the heater was turned off, and the sample temperature was 100 ° C. or lower, and then the sample was taken out from the reaction vessel.
  • the “average thickness per layer” of the A layer is T 1
  • the “average thickness per layer” of the B layer is T 2 .
  • the average thickness of each layer of the obtained sample was measured by TEM observation of three cross sections in the vicinity of a position of 50 ⁇ m from the edge of the edge of the surface facing the metal evaporation source of the coated cutting tool toward the center of the surface. Then, the thickness of each layer was measured, and the average value (arithmetic average value) was calculated. Further, from the obtained average thickness T 1 per layer of the first composite nitride layer and the average thickness T 2 per layer of the second composite nitride layer, per layer of the second composite nitride layer the average ratio of the thickness T 1 of the per layer of for the average the second thickness T 2 first composite nitride layer [T 1 / T 2] was calculated. The results are also shown in Table 8 and Table 9. For convenience, the "average thickness per layer" of the A layer in the comparative product and T 1, the B layer "average thickness per layer” was T 2.
  • composition of each layer of the obtained sample was measured using an EDS attached to the TEM in a cross section in the vicinity of a position from the edge of the edge of the surface of the coated cutting tool facing the metal evaporation source to 50 ⁇ m toward the center. did.
  • the results are also shown in Table 8 and Table 9.
  • the composition ratio of the metal element of each layer of Table 8 and Table 9 shows the atomic ratio of each metal element to the whole metal element in the metal compound constituting each layer.
  • the lattice constant and crystal system of the obtained sample were derived using a commercially available TEM.
  • a FIB processing machine manufactured by FEI Co., Ltd.
  • a thin film sample having a cross-section of the coating layer as an observation surface was prepared.
  • a lattice image of each composite nitride layer was taken at a magnification of 500,000 times using a TEM apparatus TecnaiOsiris (product name) manufactured by FEI Co., Ltd.
  • An FFT image was obtained from the photographed image using analysis software manufactured by Gatan.
  • the lattice spacing was derived from the intensity (center spot) obtained at the center of the FFT image and the distance between the diffraction spots, and the crystal system and lattice constant were determined. The results are shown in Table 12 and Table 13. For the comparative product, the crystal system and lattice constant of the A layer and the B layer were measured.
  • Example 2 Using the obtained sample, the same cutting test as in Example 1 was performed and evaluated. In addition, about 9.5 m or more as "A”, 8.5 m or more and less than 9.5 m was evaluated as “B”, and less than 8.5 m was evaluated as "C" about the working length until the tool life of the wear resistance test. . Moreover, about the processing length until the tool life of a fracture resistance test, 6.0 m or more was evaluated as "A", 5.0 m or more and less than 6.0 m was evaluated as B, and less than 5.0 m was evaluated as "C”. In this evaluation, “A” is the best, followed by “B”, and “C” is the worst. The more “A” or “B” is evaluated, the better the cutting performance is. Means that. The obtained evaluation results are shown in Table 14.
  • the invention product is excellent in wear resistance and fracture resistance and has a long tool life even if it has an upper layer and a lower layer.
  • the coated cutting tool of the present invention is excellent in wear resistance and chipping resistance, the tool life can be extended as compared with the prior art, so that industrial applicability is high in that respect.

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Abstract

基材と、基材の表面に形成された被覆層とを含む被覆切削工具であり、被覆層は、(TiAl1-x)N[xはTi元素とAl元素との合計に対するTi元素の原子比を示し、0.10≦x≦0.35を満足する。]で表される組成を有する化合物を含有する第1複合窒化物層と、(TiAl1-y-z)N[MはZr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、SiおよびYから選ばれる少なくとも1種の元素を示し、0.30≦y≦0.90、0.10≦z≦0.70、y+z≦1を満足する。]で表される組成を有する第2複合窒化物層とが交互に積層された交互積層構造を有し、第1複合窒化物層は、格子定数が0.400nm以上0.430nm以下である相と、格子定数が0.755nm以上0.810nm以下である相とを含む被覆切削工具。

Description

被覆切削工具
 本発明は、被覆切削工具に関するものである。
 近年、切削加工の高能率化に伴い、従来よりも工具寿命の長い切削工具が求められている。このため、工具材料の要求性能として、工具寿命に直結する耐摩耗性および耐欠損性の向上が一段と重要になっている。これらの特性を向上させるため、基材の表面に被膜を交互に積層した被覆切削工具が用いられている。
 このような交互に積層した被膜の特性を改善するための様々な技術が提案されている。例えば、特許文献1には、TiAl1-xNおよびTiAl1-yN(0≦x<0.5、0.5<y≦1)なる2種類の化合物を交互に繰り返して積層し、積層体の全体としてアルミニウムリッチになる被覆切削工具が提案されている。
特開平7-97679号公報
 近年の切削加工では、高速化や高送り化および深切り込み化がより顕著となり、加工中の刃先にかかる負荷により工具表面から発生したクラックが基材へと進展したり、刃先温度の急激な増減により基材から発生したクラックが被覆層中に進展したりすることに起因した工具の欠損が多々見られるようになっている。
 特許文献1に記載の発明は、積層周期が0.4~50nmと薄膜の積層からなる切削工具では高い耐摩耗性を示すものの、工具の欠損が生じやすいという問題がある。
 本発明は、これらの問題を解決するためになされたものであり、耐摩耗性を低下させずに耐欠損性を向上させた工具寿命の長い被覆切削工具を提供することを目的とする。
 本発明者らは、被覆切削工具の工具寿命の延長について研究を重ねたところ、被覆層の層構成と組成とを改良することによって、耐摩耗性を低下させずに、耐欠損性を向上させることが可能となり、その結果、被覆切削工具の工具寿命を延長することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
 すなわち、本発明の要旨は以下の通りである。
[1]基材と、前記基材の表面に形成された被覆層と、を含む被覆切削工具であって、前記被覆層は、下記式(1):
 (TiAl1-x)N   (1)
(式中、xはTi元素とAl元素との合計に対するTi元素の原子比を示し、0.10≦x≦0.35を満足する。)
で表される組成を有する化合物を含有する第1複合窒化物層と、下記式(2):
 (TiAl1-y-z)N   (2)
(式中、MはZr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、SiおよびYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を示し、yはTi元素とAl元素とMで表される元素との合計に対するTi元素の原子比を示し、zはTi元素とAl元素とMで表される元素との合計に対するAl元素の原子比を示し、0.30≦y≦0.90、0.10≦z≦0.70、y+z≦1を満足する。)
で表される組成を有する化合物を含有する第2複合窒化物層とが交互に積層された交互積層構造を有し、前記第1複合窒化物層は、格子定数が0.400nm以上0.430nm以下である相と、格子定数が0.755nm以上0.810nm以下である相とを含む、被覆切削工具。
[2]前記第1複合窒化物層は、結晶系が立方晶であり、格子定数が0.410nm以上0.420nm以下である相と、結晶系が立方晶であり、格子定数が0.770nm以上0.795nm以下である相とを含む、[1]に記載の被覆切削工具。
[3]前記第2複合窒化物層は、結晶系が立方晶であり、格子定数が0.400nm以上0.430nm以下である相からなる、[1]または[2]に記載の被覆切削工具。
[4]前記第1複合窒化物層の1層当たりの平均厚さTは、4nm以上200nm以下である、[1]~[3]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[5]前記第2複合窒化物層の1層当たりの平均厚さTは、4nm以上200nm以下である、[1]~[4]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[6]前記第2複合窒化物層の1層当たりの平均厚さTに対する前記第1複合窒化物層の1層当たりの平均厚さTの比[T/T]は、0.10以上1.30以下である、請求項1~5のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[7]前記第2複合窒化物層の1層当たりの厚さ平均Tに対する前記第1複合窒化物層の1層当たりの平均厚さTの比[T/T]は、0.10以上0.90以下である、[1]~[6]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[8]前記交互積層構造の平均厚さは、1.5μm以上12.0μm以下である、[1]~[7]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[9]前記被覆層は、前記基材と前記交互積層構造との間に、下部層を有し、前記下部層は、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、SiおよびYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、OおよびBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物の単層または積層であり、前記下部層の平均厚さは、0.1μm以上3.5μm以下である、[1]~[8]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[10]前記被覆層は、前記交互積層構造の表面に、上部層を有し、前記上部層は、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、SiおよびYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、OおよびBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物の単層または積層であり、前記上部層の平均厚さは、0.1μm以上3.5μm以下である、[1]~[9]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[11]前記被覆層全体の平均厚さは、1.5μm以上15.0μm以下である、[1]~[10]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[12]前記基材は、超硬合金、サーメット、セラミックスまたは立方晶窒化硼素焼結体のいずれかである、[1]~[11]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
 本発明によると、耐摩耗性を低下させずに耐欠損性を向上させた工具寿命の長い被覆切削工具を提供することができる。
本発明の被覆切削工具の一例を示す模式図である。
 以下、本発明を実施するための形態(以下、単に「本実施形態」という。)について詳細に説明するが、本発明は下記本実施形態に限定されるものではない。本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。
 本実施形態の被覆切削工具は、基材とその基材の表面に形成された被覆層とを含む。本実施形態における基材は、被覆切削工具の基材として用いられ得るものであれば、特に限定はされない。基材の例として、超硬合金、サーメット、セラミックス、立方晶窒化硼素焼結体、ダイヤモンド焼結体、および高速度鋼を挙げることができる。それらの中でも、基材が、超硬合金、サーメット、セラミックスおよび立方晶窒化硼素焼結体からなる群より選ばれる1種以上であると、耐摩耗性および耐欠損性に一層優れるので、さらに好ましい。
 本実施形態の被覆切削工具において、被覆層の全体の平均厚さが1.5μm以上であると、耐摩耗性が更に向上する傾向がみられる。一方、被覆層の全体の平均厚さが15.0μm以下であると、耐欠損性が更に向上する傾向がみられる。そのため、被覆層の全体の平均厚さは、1.5μm以上15.0μm以下であることが好ましい。その中でも、上記と同様の観点から、被覆層の全体の平均厚さは2.0μm以上10.0μm以下であるとより好ましい。
 本実施形態の被覆層は、組成の異なる2種又は3種の層を交互に積層した交互積層構造を有する。その交互積層構造における少なくとも1層は、以下に説明する特定の層(以下、「第1複合窒化物層」という。)を含む。本実施形態に係る第1複合窒化物層は、下記式(1):
 (TiAl1-x)N   (1)
で表される組成を有する化合物を含有するため、耐酸化性に優れる。本実施形態の第1複合窒化物層において上記式(1)で表される組成を有する化合物は、立方晶、または立方晶と六方晶とを含むと好ましい。なお、上記式(1)において、xはTi元素とAl元素との合計に対するTi元素の原子比を表し、0.10≦x≦0.35を満足する。Ti元素の原子比xは、0.10以上であると、Alの含有量が少なくなることにより、六方晶の存在比率をより低く抑えることができ、その結果、耐摩耗性の低下を抑制できる。一方、Ti元素の原子比xは、0.35以下であると、Alの含有量が多くなることにより、耐酸化性の低下を抑制できる。その中でも、xが0.15以上0.35以下であると、耐酸化性と耐摩耗性とのバランスにより優れるため好ましく、同様の観点から、xが0.20以上0.35以下であるとより好ましい。
 本実施形態の被覆層の交互積層構造における少なくとも1層は、以下に説明する特定の層(以下、「第2複合窒化物層」という。)を含む。本実施形態に係る第2複合窒化物層は、下記式(2):
 (TiAl1-y-z)N   (2)
で表される組成を有する化合物を含有するため、耐摩耗性に優れる。本実施形態の第2複合窒化物層において上記式(2)で表される組成を有する化合物は、立方晶、または立方晶と六方晶とを含むと好ましい。なお、上記式(2)において、MはZr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、SiおよびYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を示し、yはTi元素とAl元素とMで表される元素との合計に対するTi元素の原子比を示し、zはTi元素とAl元素とMで表される元素との合計に対するAl元素の原子比を示し、0.30≦y≦0.90、0.10≦z≦0.70、y+z≦1を満足する。Ti元素の原子比yは、0.30以上であると、Tiの含有量が多くなることにより、耐摩耗性の低下を抑制でき、0.90以下であると、Alの含有量が多くなることにより、耐酸化性の低下を抑制できる。Al元素の原子比zは、0.10以上であると、Alの含有量が多くなることにより、耐酸化性の低下を抑制でき、0.70以下であると、Tiの含有量が多くなることにより、耐摩耗性の低下を抑制できる。また、Mで表される元素を含有することにより、耐摩耗性および耐欠損性が向上する。その中でも、Ti元素の原子比yが0.30以上0.80以下である、及び/又はAl元素の原子比zが0.20以上0.70以下であると、耐摩耗性と耐酸化性とのバランスにより優れるため、好ましい。同様の観点から、Ti元素の原子比yが0.50以上0.70以下である、及び/又はAl元素の原子比zが0.30以上0.50以下であると、より好ましい。また、y+zが0.05以上0.30以下であると、耐摩耗性と耐酸化性とのバランスにより優れるため、好ましく、同様の観点から、y+zが0.10以上0.20以下であるとより好ましい。さらに、Mで表される元素は、本発明による作用効果をより有効かつ確実に奏する観点から、Zr、V、Nb、Cr、Mo、WおよびSiからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素であると好ましい。
 なお、本実施形態において、各複合窒化物層の組成を(Ti0.35Al0.65)Nと表記する場合は、Ti元素とAl元素との合計に対するTi元素の原子比が0.35、Ti元素とAl元素との合計に対するAl元素の原子比が0.65であることを意味する。すなわち、Ti元素とAl元素との合計に対するTi元素の量が35原子%、Ti元素とAl元素との合計に対するAl元素の量が65原子%であることを意味する。
 本実施形態の被覆切削工具における第1複合窒化物層は、格子定数が0.400nm以上0.430nm以下である相を含むと、第1複合窒化物層が緻密になり、被覆切削工具は耐摩耗性に優れるものとなる。また、本実施形態の被覆切削工具の第1複合窒化物層は、格子定数が0.755nm以上0.810nm以下である相を含むと、加工中に発生した亀裂(クラック)の進展を抑制する効果を奏するため、被覆切削工具は耐欠損性に優れるものとなる。同様の観点から、上記第1複合窒化物層は、格子定数が0.410nm以上0.430nm以下である相と、格子定数が0.760nm以上0.800nm以下である相とを含むと好ましく、格子定数が0.410nm以上0.420nm以下である相と、格子定数が0.770nm以上0.795nm以下である相とを含むとより好ましい。
 本実施形態の被覆切削工具の第1複合窒化物層において、格子定数が0.400nm以上0.430nm以下である相の結晶系が立方晶であると、第1複合窒化物層は耐摩耗性に一層優れる傾向を有するので好ましい。また、本実施形態の被覆切削工具の第1複合窒化物層において、格子定数が0.755nm以上0.810nm以下である相の結晶系が立方晶であると、第1複合窒化物層は耐摩耗性に更に優れる傾向を有するので好ましい。同様の観点から、上記第1複合窒化物層において、格子定数が0.410nm以上0.430nm以下である相の結晶系と、格子定数が0.760nm以上0.800nm以下である相の結晶系は、いずれも立方晶であるとより好ましく、格子定数が0.410nm以上0.420nm以下である相と、格子定数が0.770nm以上0.795nm以下である相の結晶系は、いずれも立方晶であると更に好ましい。
 本実施形態の被覆切削工具における第2複合窒化物層は、格子定数が0.400nm以上0.430nm以下である相を含むと、第2複合窒化物層がより緻密になり、被覆切削工具は耐摩耗性に更に優れるので好ましい。本実施形態の被覆切削工具の第2複合窒化物層において、格子定数が0.400nm以上0.430nm以下である相の結晶系が立方晶であると、第2複合窒化物層は耐摩耗性により優れる傾向を有するので好ましい。
 本実施形態の被覆切削工具における第1複合窒化物層は、上述したとおり、格子定数が異なる2つの相を有することにより、耐摩耗性および耐欠損性に優れる。本実施形態の被覆切削工具における第2複合窒化物層は、Tiの含有比率が高いことにより、特に鋼の加工において、良好な耐摩耗性を示す。また、被覆切削工具における被覆層が交互積層構造を有すると、被覆層の硬さが高くなるので、被覆切削工具の耐摩耗性が向上する。さらに、被覆層が交互積層構造を有すると、加工中に発生した亀裂が第1複合窒化物層と第2複合窒化物層との界面と平行な方向に進展しやすくなり、亀裂が基材まで進展することを抑制する効果が得られ、その結果、耐欠損性が向上する。
 格子定数は、得られた格子面間隔と格子定数との関係式(以下に示す。)から、求めることができる。
 ブラッグの式:2d=λ/sinθ
 立方晶の場合:a=d×(h+k+l
 六方晶の場合:a=d×{4/3×(h+k+l)+l×(c/a)
 ここで、dは格子面間隔、λは測定に用いた管球の波長、θは入射角、aは格子定数であり、h、k、lは面指数を示す。
 本実施形態の各複合窒化物層における格子面間隔および結晶系については、市販の透過型顕微鏡(TEM)を用いて導出することができる。例えば、株式会社FEI製の集束イオンビーム(FIB)加工機を用いて、被覆層の断面を観察面とする薄膜の試料を作製し、株式会社FEI製のTEM装置TecnaiOsiris(製品名)を用いて、測定することができる。各複合窒化物層に含まれる結晶粒の結晶系は、各複合窒化物層の領域に、スポット径が各複合窒化物層の厚さ相当の電子線を照射することにより、制限視野電子回折像(SAD)から導出することができる。各複合窒化物層を構成する各結晶粒について、格子面間隔および結晶系を導出する場合には、各結晶粒のサイズ相当の電子線を照射するとよい。各複合窒化物層の格子面間隔および結晶系は、付属のフーリエ変換ソフトウェアを用いてもよい。例えば、Gatan社製の解析ソフトウェアを用いて各回折面指数や格子面間隔を測定することができる。解析ソフトウェアを用いる場合、測定する箇所の格子像を観察することができる倍率で撮影することが好ましく、50万倍以上の倍率であるとさらに好ましい。格子面間隔の測定では、ソフトウェアを用いて、512×512ピクセル、1024×1024ピクセル、または2048×2048ピクセルの解像度にてフーリエ変換すると、フーリエ変換像(以下、「FFT像」と表記する。)を得ることができる。FFT像の中心に得られる透過波(センタースポット)と回折スポットの距離から、格子面間隔を導出することができる。格子定数は、FFT像から導出した各格子面間隔の距離の比率から結晶系を同定することにより、求めることができる。具体的には、同定した結晶系に関して得られた格子面間隔と格子定数との関係式に格子面間隔を代入することにより、格子定数を求めることができる。本実施形態の第1複合窒化物層は、薄膜の試料において、格子定数が0.755nm以上0.810nm以下である相が、基材と平行な方向に1μmの範囲を観察した場合に、少なくとも1つ以上観察されることが好ましい。
 本実施形態の被覆切削工具において、第1複合窒化物層の1層当たりの平均厚さTが4nm以上であると、より均一な厚さの第1複合窒化物層を形成することができるので好ましい。一方、平均厚さTが200nm以下であると、交互積層構造の硬さが更に高くなり、被覆切削工具の耐摩耗性がより向上するので好ましい。
 本実施形態の被覆切削工具において、第2複合窒化物層の1層当たりの平均厚さTが4nm以上であると、より均一な厚さの第2複合窒化物層を形成することができるので好ましい。一方、平均厚さTが200nm以下であると、交互積層構造の硬さが更に高くなり、被覆切削工具の耐摩耗性がより向上するので好ましい。
 本実施形態の被覆切削工具において、第2複合窒化物層の1層当たりの平均厚さTに対する第1複合窒化物層の1層当たりの平均厚さTの比[T/T]が、0.10以上であると、加工中に発生した亀裂の進展を抑制する効果がより十分に発揮されるため好ましい。一方、平均厚さの比[T/T]が1.30以下であると、耐摩耗性と耐欠損性のバランスに更に優れるので好ましい。同様の観点から、上記第2複合窒化物層の1層当たりの平均厚さTに対する前記第1複合窒化物層の1層当たりの平均厚さTの比[T/T]が、0.10以上0.90以下であるとさらに好ましい。
 本実施形態の被覆切削工具において、交互積層構造の平均厚さが1.5μm以上であると、耐摩耗性が更に向上する傾向がみられる。一方、交互積層構造の平均厚さが12.0μm以下であると、耐欠損性が更に向上する傾向がみられる。そのため、交互積層構造の平均厚さは、1.5μm以上12.0μm以下であることが好ましい。
 本実施形態において、第1複合窒化物層と、第2複合窒化物層とを1層ずつ形成した場合、「繰り返し数」は1回である。図1は本実施形態の被覆切削工具の断面組織の一例を示す模式図であるが、以下、これを利用して繰り返し数について説明する。この被覆切削工具8は、基材1と、基材1の表面に形成された被覆層7とを備える。被覆層7は、基材1側から順に、後述の下部層2と、交互積層構造6と、後述の上部層5とを積層してなる。交互積層構造6は、下部層2側から上部層5側に向かって順に、第1複合窒化物層3と、第2複合窒化物層4とを交互に積層してなり、第1複合窒化物層3及び第2複合窒化物層4をそれぞれ4層ずつ有する。この場合、繰り返し数は、4回となる。また、例えば、第1複合窒化物層3および第2複合窒化物層層4を、下部層2側から上部層5側に向かって順に、第1複合窒化物層3、第2複合窒化物層4、第1複合窒化物層3、第2複合窒化物層4、第1複合窒化物層3、第2複合窒化物層4、第1複合窒化物層3、第2複合窒化物層4、第1複合窒化物層3、第2複合窒化物層4と、第1複合窒化物層を5層、第2複合窒化物層を5層それぞれ形成した場合、繰り返し数は、5回となる。また、図1において、被覆層7は下部層2および上部層5の両方を備えるが、被覆層が下部層2および上部層5のいずれかのみを備えてもよく、両方備えていなくてもよい。
 本実施形態の被覆層は、各複合窒化物層の交互積層構造だけで構成されてもよいが、基材と交互積層構造との間(すなわち、交互積層構造の下層)に下部層を有すると、基材と交互積層構造との密着性が更に向上するため、好ましい。その中でも、下部層は、上記と同様の観点から、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、SiおよびYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、OおよびBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物を含むと好ましく、Ti、V、Nb、Cr、Mo、W、AlおよびSiからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、OおよびBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物を含むとより好ましく、Ti、V、Nb、Cr、Mo、W、AlおよびSiからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、Nとからなる化合物を含むとさらに好ましい。また、下部層は単層であってもよく2層以上の多層であってもよい。
 本実施形態において、下部層の平均厚さが0.1μm以上3.5μm以下であると、基材と被覆層との密着性が更に向上する傾向を示すため、好ましい。同様の観点から、下部層の平均厚さは、0.3μm以上3.0μm以下であるとより好ましく、0.5μm以上3.0μm以下であるとさらに好ましい。
 本実施形態の被覆層は、交互積層構造の基材とは反対側(すなわち、交互積層構造の上層)、好ましくは交互積層構造の表面、に上部層を有してもよい。上部層は、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、SiおよびYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、OおよびBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物を含むと、耐摩耗性に一層優れるので、さらに好ましい。また、上記と同様の観点から、上部層は、Ti、Nb、Cr、Mo、W、AlおよびSiからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、OおよびBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物を含むとより好ましく、Ti、Nb、Cr、Mo、W、AlおよびSiからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、Nとからなる化合物を含むとさらに好ましい。また、上部層は単層であってもよく2層以上の多層であってもよい。
 本実施形態において、上部層の平均厚さが0.1μm以上3.5μm以下であると、耐摩耗性により優れる傾向を示すため好ましい。同様の観点から、上部層の平均厚さは、0.2μm以上2.0μm以下であるとより好ましく、0.3μm以上1.0μm以下であるとさらに好ましい。
 本実施形態の被覆切削工具における被覆層の製造方法は、特に限定されるものではないが、例えば、イオンプレーティング法、アークイオンプレーティング法、スパッタ法、おおびイオンミキシング法などの物理蒸着法が挙げられる。物理蒸着法を使用して、被覆層を形成すると、シャープエッジを形成することができるので好ましい。その中でも、アークイオンプレーティング法は、被覆層と基材との密着性に一層優れるので、より好ましい。
 本実施形態の被覆切削工具の製造方法について、以下に具体例を用いて説明する。なお、本実施形態の被覆切削工具の製造方法は、当該被覆切削工具の構成を達成し得る限り、特に制限されるものではない。
 まず、工具形状に加工した基材を物理蒸着装置の反応容器内に収容し、金属蒸発源を反応容器内に設置する。その後、反応容器内をその圧力が1.0×10-2Pa以下の真空になるまで真空引きし、反応容器内のヒーターにより基材をその温度が200℃~700℃になるまで加熱する。加熱後、反応容器内にArガスを導入して、反応容器内の圧力を0.5Pa~5.0Paとする。圧力0.5Pa~5.0PaのArガス雰囲気にて、基材に-350V~-500Vのバイアス電圧を印加し、反応容器内のタングステンフィラメントに40A~50Aの電流を流して、基材の表面にArガスによるイオンボンバードメント処理を施す。基材の表面にイオンボンバードメント処理を施した後、反応容器内をその圧力が1.0×10-2Pa以下の真空になるまで真空引きする。
 本実施形態の下部層を形成する場合、基材をその温度が150℃~400℃になるまで加熱する。加熱後、反応容器内にNガスを導入して、反応容器内の圧力を0.5Pa~5.0Paとする。次いで、基材に-50V~-80Vのバイアス電圧を印加してアーク電流100A~150Aのアーク放電により各層の金属成分に応じた金属蒸発源を蒸発させて下部層を形成するとよい。
 本実施形態の第1複合窒化物層を形成する場合、基材をその温度が150℃~400℃になるように制御し、窒素ガス(N)、アルゴンガス(Ar)およびキセノンガス(Xe)を反応容器内に導入し、反応容器内の圧力を1.0~4.0Paにする。その後、基材に-40V~-100Vのバイアス電圧を印加し、第1複合窒化物層の金属成分に応じた金属蒸発源を35A~80Aとするアーク放電により蒸発させて、第1複合窒化物層を形成するとよい。
 本実施形態の第1複合窒化物層における、格子定数を0.400nm以上0.430nm以下とする相を形成するには、Ti元素とAl元素との合計に対するAl元素の原子比を0.65以上0.90以下とする金属蒸発源を使用することが好ましい。また、本実施形態の第1複合窒化物層における、格子定数を0.755nm以上0.810nm以下とする相を形成するには、Ti元素とAl元素との合計に対するAl元素の原子比を0.65以上0.90以下とする金属蒸発源を使用し、基材の温度を150℃~400℃の低温にし、物理蒸着装置の反応容器内の雰囲気を、Nガス、ArガスおよびXeガスからなる混合ガスの雰囲気とする条件で第1複合窒化物層を形成することが好ましい。このとき、反応容器内におけるXeガスの割合を大きくすると、格子定数が大きくなる傾向がある。
 本実施形態の第2複合窒化物層を形成する場合、基材をその温度が150℃~400℃になるように制御する。なお、その基材の温度を第1複合窒化物層を形成する際の基材の温度と同じにすると、第1複合窒化物層と第2複合窒化物層とを連続して形成することができるので好ましい。温度を制御した後、反応容器内にNガス、またはNガスとArガスとを導入して、反応容器内の圧力を0.5Pa~5.0Paとする。次いで、基材に-40V~-80Vのバイアス電圧を印加し、アーク電流80A~150Aのアーク放電により第2複合窒化物層の金属成分に応じた金属蒸発源を蒸発させて、第2複合窒化物層を形成するとよい。
 第1複合窒化物層と第2複合窒化物層との交互積層構造を形成するには、2種類以上の金属蒸発源を上述した条件にて、交互にアーク放電により蒸発させることによって、各複合窒化物層を交互に形成するとよい。金属蒸発源のアーク放電時間をそれぞれ調整することによって、交互積層構造を構成する各複合窒化物層の厚さを制御することができる。
 本実施形態の被覆切削工具における被覆層を構成する各層の厚さは、被覆切削工具の断面組織から、光学顕微鏡、走査型電子顕微鏡(SEM)、TEMなどを用いて測定することができる。なお、本実施形態の被覆切削工具における各層の平均厚さは、金属蒸発源に対向する面の刃先稜線部から、当該面の中心部に向かって50μmの位置の近傍における3箇所以上の断面から各層の厚さを測定して、その平均値(相加平均値)を計算することで求めることができる。
 また、本実施形態の被覆切削工具における被覆層を構成する各層の組成は、本実施形態の被覆切削工具の断面組織から、エネルギー分散型X線分析装置(EDS)や波長分散型X線分析装置(WDS)などを用いて測定することができる。
 本実施形態の被覆切削工具は、主に耐摩耗性および耐欠損性に優れていることに起因して、従来よりも工具寿命を延長できるという効果を奏すると考えられる(ただし、工具寿命を延長できる要因は上記に限定されない)。本実施形態の被覆切削工具の種類として具体的には、フライス加工用または旋削加工用刃先交換型切削インサート、ドリル、およびエンドミルなどを挙げることができる。
 以下、実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
(実施例1)
 基材として、ISO規格SEEN1203AGTN形状のインサートに加工し、90.2WC-9.8Co(以上質量%)の組成を有する超硬合金を用意した。アークイオンプレーティング装置の反応容器内に、表1および表2に示す各層の組成になるよう金属蒸発源を配置した。用意した基材を、反応容器内の回転テーブルの固定金具に固定した。
 その後、反応容器内をその圧力が5.0×10-3Pa以下の真空になるまで真空引きした。真空引き後、反応容器内のヒーターにより、基材をその温度が450℃になるまで加熱した。加熱後、反応容器内にその圧力が2.7PaになるようにArガスを導入した。
 圧力2.7PaのArガス雰囲気にて、基材に-400Vのバイアス電圧を印加して、反応容器内のタングステンフィラメントに40Aの電流を流して、基材の表面にArガスによるイオンボンバードメント処理を30分間施した。イオンボンバードメント処理終了後、反応容器内をその圧力が5.0×10-3Pa以下の真空になるまで真空引きした。
 発明品1~13については、真空引き後、基材をその温度が表3に示す温度(成膜開始時の温度)になるように制御し、表3に示す組成のガスを反応容器内に導入し、反応容器内を表3に示す圧力とするガス条件に調整した。その後、発明品1~13については、基材に表3に示すバイアス電圧を印加して、表1に示す組成の第1複合窒化物層と第2複合窒化物層の金属蒸発源を交互に、表3に示すアーク電流のアーク放電により蒸発させて、基材の表面に第1複合窒化物層と第2複合窒化物層とを交互に形成した。このとき表3に示す反応容器内のガス条件と圧力になるよう制御した。また、第1複合窒化物層の厚さと第2複合窒化物層の厚さは、表1に示す厚さとなるように、それぞれのアーク放電時間を調整して制御した。
 比較品1については、真空引き後、基材をその温度が表4に示す温度(成膜開始時の温度)になるように制御し、表4に示す組成のガスを反応容器内に導入し、反応容器内を表4に示す圧力とするガス条件に調整した。その後、基材に表4に示すバイアス電圧を印加して、表4に示すアーク電流のアーク放電により表2に示す組成の金属蒸発源を蒸発させて、基材の表面に表2に示す厚さを有する単層(A層)を形成した。
 比較品2~6については、真空引き後、基材をその温度が表4に示す温度(成膜開始時の温度)になるように制御し、表4に示す組成のガスを反応容器内に導入し、反応容器内を表4に示す圧力とするガス条件に調整した。その後、比較品2~6については、基材に表4に示すバイアス電圧を印加して、表2に示す組成のA層とB層の金属蒸発源を交互に、表4に示すアーク電流のアーク放電により蒸発させて、基材の表面にA層とB層とを交互に形成した。このとき表4に示す反応容器内のガス条件と圧力になるよう制御した。また、A層の厚さとB層の厚さは、表2に示す厚さとなるように、それぞれのアーク放電時間を調整して制御した。
 基材の表面に表1および表2に示す所定の平均厚さまで各層を形成した後に、ヒーターの電源を切り、試料温度が100℃以下になった後で、反応容器内から試料を取り出した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
*便宜上、A層の「1層当たりの平均厚さ」をTとし、B層の「1層当たりの平均厚さ」をTとする。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
*「B層」の「N」欄における、「-」とは、B層が形成されていないことを意味する。
 得られた試料の各層の平均厚さは、被覆切削工具の金属蒸発源に対向する面の刃先稜線部から当該面の中心部に向かって50μmの位置の近傍において、3箇所の断面をTEM観察し、各層の厚さを測定し、その平均値(相加平均値)を計算することで求めた。また、求めた第1複合窒化物層の1層当たりの平均厚さTと、第2複合窒化物層の1層当たりの平均厚さTから、第2複合窒化物層の1層当たりの平均厚さTに対する第1複合窒化物層の1層当たりの平均厚さTの比[T/T]を算出した。それらの結果も、表1および表2に併せて示す。なお、便宜上、比較品におけるA層の「1層当たりの平均厚さ」をTとし、B層の「1層当たりの平均厚さ」をTとした。
 得られた試料の各層の組成は、被覆切削工具の金属蒸発源に対向する面の刃先稜線部から中心部に向かって50μmまでの位置の近傍の断面において、TEMに付属するEDSを用いて測定した。それらの結果も、表1および表2に併せて示す。なお、表1および表2の各層の金属元素の組成比は、各層を構成する金属化合物における金属元素全体に対する各金属元素の原子比を示す。
 得られた試料の格子定数および結晶系については、市販のTEMを用いて導出した。株式会社FEI製のFIB加工機を用いて、被覆層の断面を観察面とする薄膜の試料を作製した。次いで、株式会社FEI製のTEM装置TecnaiOsiris(製品名)を用いて、50万倍の倍率にて、各複合窒化物層の格子像を撮影した。撮影した画像から、Gatan社製の解析ソフトウェアを用いて、FFT像を得た。FFT像の中心に得られる強度(センタースポット)と回折スポットの距離から格子面間隔を導出し、結晶系および格子定数を求めた。その結果を、表5および表6に示した。比較品については、A層とB層の結晶系および格子定数を測定した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
 得られた試料を用いて、以下の切削試験を行い、評価した。
[切削試験:耐摩耗性試験]
被削材:SCM440、
被削材形状:120mm×230mm×60mmの直方体、
切削速度:260m/min、
送り:0.15mm/tooth、
切り込み:2.0mm、
クーラント:無し、
切削幅:50mm、
評価項目:最大逃げ面摩耗幅が0.2mmに至ったときを工具寿命とし、工具寿命に至るまでの加工長を測定した。
[切削試験:耐欠損性試験]
被削材:SCM440、
被削材形状:120mm×230mm×60mmの直方体(但し、正面フライス加工を行う直方体の120mm×230mmの面に直径φ30mmの穴が4箇所明けられている。)、
切削速度:240m/min、
送り:0.40mm/tooth、
切り込み:2.2mm、
クーラント:無し、
切削幅:105mm、
評価項目:試料が欠損(試料の切れ刃部に欠けが生じる)したときを工具寿命とし、工具寿命に至るまでの加工長を測定した。
 なお、耐摩耗性試験の工具寿命に至るまでの加工長について、9.5m以上を「A」、8.5m以上9.5m未満を「B」、8.5m未満を「C」として評価した。また、耐欠損性試験の工具寿命に至るまでの加工長について、6.0m以上を「A」、5.0m以上6.0m未満を「B」、5.0m未満を「C」として評価した。この評価では、「A」が最も優れ、その次に「B」が優れ、「C」が最も劣っていることを意味し、「A」または「B」の評価を多く有するほど切削性能に優れることを意味する。得られた評価の結果を表7に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
 表7に示す結果より、発明品の耐摩耗性試験の評価はいずれも「B」以上の評価であり、比較品の評価は「B」または「C」であった。よって、発明品の耐摩耗性は、比較品と比べ、同等以上であることが分かる。
 また、発明品の耐欠損性試験の評価はいずれも「A」または「B」の評価であり、比較品の評価は、すべて「C」であった。
 以上の結果より、耐摩耗性を低下させずに耐欠損性を向上させたことにより、発明品の工具寿命が長くなっていることが分かる。
(実施例2)
 基材として、ISO規格SEEN1203AGTN形状のインサートに加工し、90.2WC-9.8Co(以上質量%)の組成を有する超硬合金を用意した。アークイオンプレーティング装置の反応容器内に、表8および表9に示す各層の組成になるよう金属蒸発源を配置した。用意した基材を、反応容器内の回転テーブルの固定金具に固定した。
 その後、反応容器内をその圧力が5.0×10-3Pa以下の真空になるまで真空引きした。真空引き後、反応容器内のヒーターにより、基材をその温度が450℃になるまで加熱した。加熱後、反応容器内にその圧力が2.7PaになるようにArガスを導入した。
 圧力2.7PaのArガス雰囲気にて、基材に-400Vのバイアス電圧を印加して、反応容器内のタングステンフィラメントに40Aの電流を流して、基材の表面にArガスによるイオンボンバードメント処理を30分間施した。イオンボンバードメント処理終了後、反応容器内をその圧力が5.0×10-3Pa以下の真空になるまで真空引きした。
 発明品14~17については、真空引き後、基材をその温度が350℃になるまで加熱し、反応容器内の圧力が3.0PaになるようにNガスを反応容器内に導入した。その後、基材に-50Vのバイアス電圧を印加して、アーク電流120Aのアーク放電により表8に示す組成の金属蒸発源を蒸発させて、下部層を形成した。
 次いで、発明品14~17については、基材をその温度が表10に示す温度(成膜開始時の温度)になるように制御し、表10に示す組成のガスを反応容器内に導入し、反応容器内を表10に示す圧力とするガス条件に調整した。その後、発明品14~17については、基材に表10に示すバイアス電圧を印加して、表8に示す組成の第1複合窒化物層と第2複合窒化物層の金属蒸発源を交互に、表10に示すアーク放電により蒸発させて、下部層の表面に第1複合窒化物層と第2複合窒化物層とを交互に形成した。このとき表10に示す反応容器内のガス条件と圧力になるよう制御した。また、第1複合窒化物層の厚さと第2複合窒化物層の厚さは、表8に示す厚さとなるように、それぞれのアーク放電時間を調整して制御した。
 次いで、発明品14~17については、真空引き後、基材をその温度が350℃になるまで加熱し、反応容器内の圧力が3.0PaになるようにNガスを導入した。その後、基材に-50Vのバイアス電圧を印加して、アーク電流120Aのアーク放電により表8に示す金属蒸発源を蒸発させて、上部層を形成した。
 比較品6~9については、真空引き後、基材をその温度が350℃になるまで加熱し、反応容器内の圧力が3.0PaになるようにNガスを反応容器内に導入した。その後、基材に-50Vのバイアス電圧を印加して、アーク電流120Aのアーク放電により表9に示す組成の金属蒸発源を蒸発させて、下部層を形成した。
 次いで、比較品6~9については、基材をその温度が表11に示す温度(成膜開始時の温度)になるように制御し、表11に示す組成のガスを反応容器内に導入し、反応容器内を表11に示す圧力とするガス条件に調整した。その後、比較品6~9については、基材に表11に示すバイアス電圧を印加して、表9に示す組成のA層とB層の金属蒸発源を交互に、表11に示すアーク放電により蒸発させて、下部層の表面にA層とB層とを交互に形成した。このとき表11に示す反応容器内のガス条件と圧力になるよう制御した。また、A層の厚さとB層の厚さは、表9に示す厚さとなるように、それぞれのアーク放電時間を調整して制御した。
 次いで、比較品6~9については、真空引き後、基材をその温度が350℃になるまで加熱し、反応容器内の圧力が3.0PaになるようにNガスを導入した。その後、基材に-50Vのバイアス電圧を印加して、アーク電流120Aのアーク放電により表9に示す金属蒸発源を蒸発させて、上部層を形成した。
 基材の表面に表8および表9に示す所定の平均厚さまで各層を形成した後に、ヒーターの電源を切り、試料温度が100℃以下になった後で、反応容器内から試料を取り出した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
*便宜上、A層の「1層当たりの平均厚さ」をTとし、B層の「1層当たりの平均厚さ」をTとする。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
 得られた試料の各層の平均厚さは、被覆切削工具の金属蒸発源に対向する面の刃先稜線部から当該面の中心部に向かって50μmの位置の近傍において、3箇所の断面をTEM観察し、各層の厚さを測定し、その平均値(相加平均値)を計算することで求めた。また、求めた第1複合窒化物層の1層当たりの平均厚さTと、第2複合窒化物層の1層当たりの平均厚さTから、第2複合窒化物層の1層当たりの平均厚さTに対する第1複合窒化物層の1層当たりの平均厚さTの比[T/T]を算出した。それらの結果も、表8および表9に併せて示す。なお、便宜上、比較品におけるA層の「1層当たりの平均厚さ」をTとし、B層の「1層当たりの平均厚さ」をTとした。
 得られた試料の各層の組成は、被覆切削工具の金属蒸発源に対向する面の刃先稜線部から中心部に向かって50μmまでの位置の近傍の断面において、TEMに付属するEDSを用いて測定した。それらの結果も、表8および表9に併せて示す。なお、表8および表9の各層の金属元素の組成比は、各層を構成する金属化合物における金属元素全体に対する各金属元素の原子比を示す。
 得られた試料の格子定数および結晶系については、市販のTEMを用いて導出した。株式会社FEI製のFIB加工機を用いて、被覆層の断面を観察面とする薄膜の試料を作製した。次いで、株式会社FEI製のTEM装置TecnaiOsiris(製品名)を用いて、50万倍の倍率にて、各複合窒化物層の格子像を撮影した。撮影した画像から、Gatan社製の解析ソフトウェアを用いて、FFT像を得た。FFT像の中心に得られる強度(センタースポット)と回折スポットの距離から格子面間隔を導出し、結晶系および格子定数を求めた。その結果を、表12および表13に示した。比較品については、A層とB層の結晶系および格子定数を測定した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000013
 得られた試料を用いて、実施例1と同じ切削試験を行い、評価した。なお、耐摩耗性試験の工具寿命に至るまでの加工長について、9.5m以上を「A」、8.5m以上9.5m未満を「B」、8.5m未満を「C」として評価した。また、耐欠損性試験の工具寿命に至るまでの加工長について、6.0m以上を「A」、5.0m以上6.0m未満をB、5.0m未満を「C」として評価した。この評価では、「A」が最も優れ、その次に「B」が優れ、「C」が最も劣っていることを意味し、「A」または「B」の評価を多く有するほど切削性能に優れることを意味する。得られた評価の結果を表14に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000014
 表14に示す結果より、発明品の耐摩耗性試験の評価はいずれも「B」以上の評価であり、比較品の評価は「B」または「C」であった。よって、発明品の耐摩耗性は、比較品と比べ、同等以上であることが分かる。
 また、発明品の耐欠損性試験の評価はいずれも「A」または「B」の評価であり、比較品の評価は、すべて「C」であった。
 したがって、発明品は、上部層および下部層を有したとしても、耐摩耗性および耐欠損性に優れ、工具寿命が長くなっていることが分かる。
 本出願は、2016年4月7日出願の日本特許出願(特願2016-076921)に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
 本発明の被覆切削工具は、耐摩耗性および耐欠損性に優れることにより、従来よりも工具寿命を延長できるので、その点で産業上の利用可能性が高い。
 1…基材、2…下部層、3…第1複合窒化物層、4…第2複合窒化物層、5…上部層、6…交互積層構造、7…被覆層、8…被覆切削工具。
 

Claims (12)

  1.  基材と、前記基材の表面に形成された被覆層と、を含む被覆切削工具であって、
     前記被覆層は、下記式(1):
     (TiAl1-x)N   (1)
    (式中、xはTi元素とAl元素との合計に対するTi元素の原子比を示し、0.10≦x≦0.35を満足する。)
    で表される組成を有する化合物を含有する第1複合窒化物層と、下記式(2):
     (TiAl1-y-z)N   (2)
    (式中、MはZr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、SiおよびYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を示し、yはTi元素とAl元素とMで表される元素との合計に対するTi元素の原子比を示し、zはTi元素とAl元素とMで表される元素との合計に対するAl元素の原子比を示し、0.30≦y≦0.90、0.10≦z≦0.70、y+z≦1を満足する。)
    で表される組成を有する化合物を含有する第2複合窒化物層とが交互に積層された交互積層構造を有し、
     前記第1複合窒化物層は、格子定数が0.400nm以上0.430nm以下である相と、格子定数が0.755nm以上0.810nm以下である相とを含む、被覆切削工具。
  2.  前記第1複合窒化物層は、結晶系が立方晶であり、格子定数が0.410nm以上0.420nm以下である相と、結晶系が立方晶であり、格子定数が0.770nm以上0.795nm以下である相とを含む、請求項1に記載の被覆切削工具。
  3.  前記第2複合窒化物層は、結晶系が立方晶であり、格子定数が0.400nm以上0.430nm以下である相からなる、請求項1または2に記載の被覆切削工具。
  4.  前記第1複合窒化物層の1層当たりの平均厚さTは、4nm以上200nm以下である、請求項1~3のいずれか1項に記載の被覆切削工具。
  5.  前記第2複合窒化物層の1層当たりの平均厚さTは、4nm以上200nm以下である、請求項1~4のいずれか1項に記載の被覆切削工具。
  6.  前記第2複合窒化物層の1層当たりの平均厚さTに対する前記第1複合窒化物層の1層当たりの平均厚さTの比[T/T]は、0.10以上1.30以下である、請求項1~5のいずれか1項に記載の被覆切削工具。
  7.  前記第2複合窒化物層の1層当たりの厚さ平均Tに対する前記第1複合窒化物層の1層当たりの平均厚さTの比[T/T]は、0.10以上0.90以下である、請求項1~6のいずれか1項に記載の被覆切削工具。
  8.  前記交互積層構造の平均厚さは、1.5μm以上12.0μm以下である、請求項1~7のいずれか1項に記載の被覆切削工具。
  9.  前記被覆層は、前記基材と前記交互積層構造との間に、下部層を有し、
     前記下部層は、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、SiおよびYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、OおよびBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物の単層または積層であり、
     前記下部層の平均厚さは、0.1μm以上3.5μm以下である、請求項1~8のいずれか1項に記載の被覆切削工具。
  10.  前記被覆層は、前記交互積層構造の表面に、上部層を有し、
     前記上部層は、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、SiおよびYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、OおよびBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物の単層または積層であり、
     前記上部層の平均厚さは、0.1μm以上3.5μm以下である、請求項1~9のいずれか1項に記載の被覆切削工具。
  11.  前記被覆層全体の平均厚さは、1.5μm以上15.0μm以下である、請求項1~10のいずれか1項に記載の被覆切削工具。
  12.  前記基材は、超硬合金、サーメット、セラミックスまたは立方晶窒化硼素焼結体のいずれかである、請求項1~11のいずれか1項に記載の被覆切削工具。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018202533A (ja) * 2017-06-01 2018-12-27 住友電気工業株式会社 表面被覆切削工具
JP6583763B1 (ja) * 2018-06-15 2019-10-02 住友電工ハードメタル株式会社 表面被覆切削工具、及びその製造方法
JP7124267B1 (ja) * 2021-06-30 2022-08-24 住友電工ハードメタル株式会社 切削工具
JP2023086393A (ja) * 2021-12-10 2023-06-22 株式会社タンガロイ 被覆切削工具

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7067689B2 (ja) * 2018-03-07 2022-05-16 住友電工ハードメタル株式会社 表面被覆切削工具及びその製造方法
JP7256947B2 (ja) * 2018-10-11 2023-04-13 株式会社不二越 硬質皮膜被覆ドリル
EP3987083A1 (en) * 2019-06-19 2022-04-27 AB Sandvik Coromant A coated cutting tool
CN114040991A (zh) * 2019-06-19 2022-02-11 山特维克科洛曼特公司 制造涂布的切削工具的方法和涂布的切削工具
WO2022069589A1 (en) * 2020-09-29 2022-04-07 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Al-rich altin coating layers produced by pvd from metallic targets
EP4170064A1 (en) * 2021-10-20 2023-04-26 AB Sandvik Coromant Coated cutting tool
WO2023232869A1 (en) * 2022-06-01 2023-12-07 Ab Sandvik Coromant A coated cutting tool

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008545063A (ja) * 2005-07-04 2008-12-11 フラウンホーファー−ゲゼルシャフト ツル フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー ファウ 硬質膜被覆された物体およびその製造方法
JP2011189419A (ja) * 2010-03-12 2011-09-29 Hitachi Metals Ltd 耐摩耗性に優れた被覆工具
JP2016026893A (ja) * 2014-06-27 2016-02-18 三菱マテリアル株式会社 耐異常損傷性と耐摩耗性にすぐれた表面被覆切削工具
WO2016113956A1 (ja) * 2015-01-14 2016-07-21 住友電工ハードメタル株式会社 硬質被膜、切削工具および硬質被膜の製造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2979921B2 (ja) 1993-09-30 1999-11-22 住友電気工業株式会社 超薄膜積層体
CA2155164C (en) * 1994-08-01 2001-07-10 Satoru Kukino Super hard composite material for tools
US8409702B2 (en) * 2011-02-07 2013-04-02 Kennametal Inc. Cubic aluminum titanium nitride coating and method of making same
US9476114B2 (en) * 2012-08-03 2016-10-25 Walter Ag TiAlN-coated tool
JP6674648B2 (ja) * 2016-03-31 2020-04-01 株式会社タンガロイ 被覆切削工具

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008545063A (ja) * 2005-07-04 2008-12-11 フラウンホーファー−ゲゼルシャフト ツル フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー ファウ 硬質膜被覆された物体およびその製造方法
JP2011189419A (ja) * 2010-03-12 2011-09-29 Hitachi Metals Ltd 耐摩耗性に優れた被覆工具
JP2016026893A (ja) * 2014-06-27 2016-02-18 三菱マテリアル株式会社 耐異常損傷性と耐摩耗性にすぐれた表面被覆切削工具
WO2016113956A1 (ja) * 2015-01-14 2016-07-21 住友電工ハードメタル株式会社 硬質被膜、切削工具および硬質被膜の製造方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP3441168A4 *

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018202533A (ja) * 2017-06-01 2018-12-27 住友電気工業株式会社 表面被覆切削工具
JP6583763B1 (ja) * 2018-06-15 2019-10-02 住友電工ハードメタル株式会社 表面被覆切削工具、及びその製造方法
JP7124267B1 (ja) * 2021-06-30 2022-08-24 住友電工ハードメタル株式会社 切削工具
WO2023276067A1 (ja) * 2021-06-30 2023-01-05 住友電工ハードメタル株式会社 切削工具
US11802333B2 (en) 2021-06-30 2023-10-31 Sumitomo Electric Hardmetal Corp. Cutting tool
EP4364875A4 (en) * 2021-06-30 2024-05-08 Sumitomo Electric Hardmetal Corp CUTTING TOOL
JP2023086393A (ja) * 2021-12-10 2023-06-22 株式会社タンガロイ 被覆切削工具
JP7319600B2 (ja) 2021-12-10 2023-08-02 株式会社タンガロイ 被覆切削工具
JP7319600B6 (ja) 2021-12-10 2023-08-18 株式会社タンガロイ 被覆切削工具

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