NL9100536A - Halfgeleider-geheugeninrichtingen. - Google Patents
Halfgeleider-geheugeninrichtingen. Download PDFInfo
- Publication number
- NL9100536A NL9100536A NL9100536A NL9100536A NL9100536A NL 9100536 A NL9100536 A NL 9100536A NL 9100536 A NL9100536 A NL 9100536A NL 9100536 A NL9100536 A NL 9100536A NL 9100536 A NL9100536 A NL 9100536A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- bit line
- semiconductor memory
- memory devices
- contacts
- bit
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 34
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 6
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 6
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 6
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C7/18—Bit line organisation; Bit line lay-out
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/4063—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
- G11C11/407—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
- G11C11/409—Read-write [R-W] circuits
- G11C11/4097—Bit-line organisation, e.g. bit-line layout, folded bit lines
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C5/00—Details of stores covered by group G11C11/00
- G11C5/06—Arrangements for interconnecting storage elements electrically, e.g. by wiring
- G11C5/063—Voltage and signal distribution in integrated semi-conductor memory access lines, e.g. word-line, bit-line, cross-over resistance, propagation delay
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/522—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
- H01L23/5222—Capacitive arrangements or effects of, or between wiring layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/522—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
- H01L23/528—Geometry or layout of the interconnection structure
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Geometry (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Dram (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
Description
UITTREKSEL
Een hal fgeleider-geheugeninrichting met bitlij ncontacten, welke in paren bitlijnen in een gevouwen bit 1 ijnstructuur verschaft worden, bevat een de bitlij ncontacten met elkaar verbindende zigzagvormige bitlijn.
De pitch tussen de bitlijnen is ongeveer twee maal die van de halfgeleider-geheugeninrichting met de conventionele open bitlijn-structuur, waardoor de door de aangrenzende bitlijn geproduceerde kop-pelcapaciteit gereduceerd wordt. Daardoor wordt de ruis door de koppeling in het hoge-dichtheid geheugen van 16 mega en meer aanmerkelijk gereduceerd.
(figuur 5)
Titel: Halfgeleider^geheugeninrichtingen
De uitvinding heeft betrekking op hal fgeleider-geheugeninrich-tingen, welke toepasbaar zijn in de klasse van geheugens met hoge dichtheid van 16 mega en meer.
Bekende halfgeleider-geheugeninrichtingen hebben een gevouwen bitlijnstructuur of een open bitlijnstructuur.
Fig. 1 is een lay-out van conventionele halfgeleider-geheugenin-richtingen met de gevouwen bitlijnstructuur, die paren van parallel aangrenzend aan elkaar aangebrachte bitlijnen BL en BL bevat. De bit-lijn BL met een vorm van een rechte lijn bevat bitlijncontacten 1 met aan beide zijden respectievelijk begraven contacten 2a en 2b. Ook de bitlijn BL heeft bitlijncontacten 3, die aan beide zijden voorzien zijn van respectievelijk de begraven contacten 4a en 4b en aangrenzend aan de bitlijn BL tussen de begraven contacten 2a en 2b gepositioneerd zijn.
Fig. 2 is een de halfgeleider-geheugeninrichting van fig. 1 weergevende schakeling. Wanneer één woordlijn WL van de woordlijnen WL gekozen wordt, wordt een met de woordlijn WL verbonden geselecteerde cel in de celreeks 5 aangeschakeld en een met een aangrenzende corresponderende woordlijn WL verbonden cel wordt uitgeschakeld. Een refe-rentiespanning wordt veroorzaakt in de bitlijn BL, aldus wordt een electrische potentiaal gewijzigd door een van de geselecteerde cel afkomstige electrische lading, in vergelijking met de referentiespan-ning. De paren van bitlijnen BL en EL zijn verbonden met detectiever-sterkers SA, zodat een verschil in potentiaal gedetecteerd wordt.
Fig. 3 is een lay-out van conventionele hal f geleider-géheugenin-richtingen met open bitlijnstructuur, die parallel aangrenzend aan elkaar aangebrachte bitlijnen EL bevat. De bitlijn BL in de vorm van een rechte lijn bevat bitlijncontacten 6 met aan beide zijden respectievelijk begraven contacten 7a en 7b. De aangrenzende bitlijnen BL hébben elk hetzelfde patroon.
Fig. 4 is een de hal fgeleider-geheugeninr icht ingen van fig. 3 weergevende schakeling. Detectieversterkers SA zijn voorzien tussen celreeksen 8a en 8b, waarbij de bitlijn BL zich in de celreeks 8a en bitlijn BL zich in de celreeks 8b bevindt.
De hal fgeleider-geheugeninrichtingen met gevouwen bitlijnstructuur kunnen een externe ruis goed verdragen en maken de inrichting van de detectieversterkers eenvoudig. Een pitch tussen de bitlijnen echter versmalt en een koppelcapaciteit neemt meer en meer toe met be trekking tot een hogere dichtheid. Bovendien zijn de halfgeleider-ge-heugeninrichtingen met open bitlijnstructuur toepasbaar bij geheugens van de klasse 4 mega, maar bij toepassing op geheugens met hoge dichtheid van 16 mega en meer wordt de inrichting van de detectieverster-kers moeilijk met betrekking tot de afname van de pitch van de geheu-gencel. Bovendien neemt de te koppelen belasting toe en een verschil in potentiaal voor de detectie neemt af overeenkomstig de smalle pitch tussen de bitlijnen, en aldus wordt de detectietijd vertraagt.
Een doel van de uitvinding is het tot de helft reduceren van de bitlijnlengte per eeriheidscel.
Deze en andere doelen worden bereikt in een halfgeleider-geheu-geninrichting met bitlijncontacten in een lijnenpaar in een gevouwen bitlijnstructuur, die een de bitlijncontacten in een zigzag-vorm verbindende bitlijn bevat.
Deze en andere doelen en kenmerken van de uitvinding zullen duidelijk worden uit de volgende gedetailleerde beschrijving met verwijzing naar de tekeningen.
Fig. 1 is een lay-out van conventionele hal fgeleider-geheugenin-richtingen met een gevouwen bitlijnstructuur; fig. 2 is een de halfgeleider-géheugeninrichtingen van fig. 1 weergevende schakeling; fig. 3 is een lay-out van conventionele hal fgeleider-geheugenin-richtingen met epen bitlijnstructuur; fig. 4 is een de halfgeleider-géheugeninrichtingen van fig. 3 weergevende schakeling; fig. 5 is een lay-out van halfgeleider-gèheugeninrichtingen volgens een eerste uitvoering van de uitvinding; fig. 6 is een de halfgeleider-geheugeninrichtingen van fig. 5 weergevende schakeling; fig. 7 is een lay-out van halfgeleider-geheugeninrichtingen volgens een tweede uitvoering van de uitvoering; fig. 8 is een de halfgeleider-geheugeninrichtingen van fig. 7 weergevende schakeling.
Fig. 5 is een lay-out van halfgeleider-geheugeninrichtingen met een zigzag-vorm vertonende bitlijnen volgens een eerste uitvoeringsvorm van de onderhavige uitvinding. Het in hal fgeleider-geheugenin-richtingen van fig. 1 gébruikte paar bitlijnen BL en BL is tot één bitlijn BL samengevoegd. De bitlijn BL in fig. 5 heeft een zigzagvorm, die er voor zorgt dat de bitlijncontacten 11 van de boven- en onder- zijden onder een rechte hoek met elkaar verbonden zijn.
De pitch van de zigzagvorm volgens de onderhavige uitvinding is ongeveer twee maal die van de halfgeleider-geheugeninrichtingen met een open bitlijnstructuur van fig. 3, hetgeen de inrichting van detec-tieversterkers SA eenvoudig maakt en een koppel capaciteit nauwelijks geproduceerd wordt. Bovendien is de lengte van de bitlijn per een-heidscel tot de helft gereduceerd in vergelijking met de halfgeleider-géheugeninrichtingen met de conventionele open bit 1 ij nstructuur, aldus is de detectietijd aanmerkelijk verbeterd.
In theorie is de RC-vertraging van de halfgeleider inrichtingen van fig. 3 gelijk aan Rx(GJ+CB) (R is de weerstand van de bitlijn, CJ is de junctiecapaciteit, en CB is de bitlijncapaciteit), maar de RC-vertraging volgens de onderhavige uitvinding is gelijk aan R/2x(CJ+CB/2) , door het gebruik van één bitlijn met hetzelfde aantal cellen. Daardoor wordt de RC-vertraging gereduceerd en de werksnelheid verbeterd.
Fig. 6 is een de halfgeleider-geheugeninrichtingen van fig. 5 weergevende schakeling. Wanneer een woordlijn WL geselecteerd wordt in de celreeks 13a, worden de met de geselecteerde woordlijn WL verbonden cellen ingeschakeld. In de celreeks 13a zijn de bitlijnen BL verbonden met de detectieversterkers SA. De met een tegengestelde corresponderende woordlijn WL in celreeks 13b verbonden cellen worden uitgeschakeld, waarbij de bitlijnen BL verbonden zijn met de detectieversterkers SA. Daardoor kunnen gegevens gedetecteerd worden met betrekking tot een verschil in potentiaal tussen de geselecteerde bitlijn BL en de bitlijn BL, die een referentiesparming bezit.
Fig. 7 is een lay-out van halfgeleider-geheugeninrichtingen volgens een tweede uitvoeringsvorm van de uitvinding. De bitlijncontacten 11 in fig. 7 zijn onder een stompe hoek met elkaar verbonden. Fig. 8 is een de halfgeleider-geheugeninrichtingen van fig. 7 weergevende schakeling.
Zoals hierboven beschreven is het aantal cellen per eenheids-lengte van een bitlijn twee maal die van de halfgeleider-geheugenin-richtingen met de bekende open bitl ij nstructuur, waarbij door het gebruik van één bitlijn met hetzelfde aantal cellen de weerstand en de koppelcapaciteit gereduceerd worden, zodat de detectiespanning vergroot wordt bij het detecteren van gegevens, en het karakter en de werksnelheid verbeterd worden.
Bovendien is de pitch tussen de bitlijnen volgens de uitvinding ongeveer twee maal die van de halfgeleider-geheugeninrichtingen met de conventionele open bitlijnstructuur, waardoor de door de aangrenzende bitlijn geproduceerde koppelcapaciteit gereduceerd wordt. Daardoor wordt de ruis door koppeling in het geheugen met hoge dichtheid van 16 mega en meer aanmerkelijk gereduceerd.
Hoewel de uitvinding hierin beschreven is met verwijzing naar specifieke uitvoeringsvormen, zal het duidelijk zijn dat deze uitvoeringsvormen voorkeursuitvoeringsvormen zijn en dat modificaties aangebracht kunnen worden zonder buiten de in de bijbehorende conclusies gedefinieerde omvang van de uitvinding te treden.
Claims (3)
1. Halfgeleider-geheugeninricht ing met in een gevouwen bitlijn-structuur verschafte bitlijncontacten, met het kenmerk, dat de de bit-lijncontacten verbindende bitlijn een zigzagvorm heeft.
2. Halfgeleider-geheugeninrichting volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de bitlijncontacten onder een rechte hoek met elkaar verbonden zijn.
3. Halfgeleider-geheugeninrichting volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de bitlijncontacten onder een stompe hoek met elkaar verbonden zijn.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR900004190 | 1990-03-28 | ||
KR1019900004190A KR920007358B1 (ko) | 1990-03-28 | 1990-03-28 | 고집적 메모리 셀 및 코아 어레이 구조 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL9100536A true NL9100536A (nl) | 1991-10-16 |
Family
ID=19297455
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL9100536A NL9100536A (nl) | 1990-03-28 | 1991-03-26 | Halfgeleider-geheugeninrichtingen. |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0774266A (nl) |
KR (1) | KR920007358B1 (nl) |
DE (1) | DE4110155A1 (nl) |
FR (1) | FR2660475A1 (nl) |
GB (1) | GB2242568A (nl) |
NL (1) | NL9100536A (nl) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007013011A (ja) * | 2005-07-01 | 2007-01-18 | Seiko Epson Corp | 強誘電体メモリ装置及び表示用駆動ic |
CN113053897B (zh) * | 2021-03-04 | 2022-06-17 | 长鑫存储技术有限公司 | 存储器及其制备方法 |
US11877441B2 (en) | 2021-03-04 | 2024-01-16 | Changxin Memory Technologies, Inc. | Memory and fabricating method thereof |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2743619A1 (de) * | 1977-09-28 | 1979-03-29 | Siemens Ag | Halbleiter-speicherelement und verfahren zu seiner herstellung |
US4319342A (en) * | 1979-12-26 | 1982-03-09 | International Business Machines Corporation | One device field effect transistor (FET) AC stable random access memory (RAM) array |
JPS57208691A (en) * | 1981-06-15 | 1982-12-21 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor memory |
JP2682021B2 (ja) * | 1988-06-29 | 1997-11-26 | 富士通株式会社 | 半導体メモリ装置 |
JPH0276258A (ja) * | 1988-09-13 | 1990-03-15 | Fujitsu Ltd | 半導体記憶装置 |
JP2681285B2 (ja) * | 1988-09-19 | 1997-11-26 | 富士通株式会社 | 半導体記憶装置 |
JP2974252B2 (ja) * | 1989-08-19 | 1999-11-10 | 富士通株式会社 | 半導体記憶装置 |
-
1990
- 1990-03-28 KR KR1019900004190A patent/KR920007358B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1991
- 1991-03-22 FR FR9103522A patent/FR2660475A1/fr active Pending
- 1991-03-26 NL NL9100536A patent/NL9100536A/nl not_active Application Discontinuation
- 1991-03-27 JP JP3063190A patent/JPH0774266A/ja active Pending
- 1991-03-27 GB GB9106576A patent/GB2242568A/en not_active Withdrawn
- 1991-03-27 DE DE4110155A patent/DE4110155A1/de not_active Ceased
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4110155A1 (de) | 1991-10-02 |
FR2660475A1 (fr) | 1991-10-04 |
KR920007358B1 (ko) | 1992-08-31 |
GB9106576D0 (en) | 1991-05-15 |
JPH0774266A (ja) | 1995-03-17 |
GB2242568A (en) | 1991-10-02 |
KR910017640A (ko) | 1991-11-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5332923A (en) | Semiconductor memory | |
US7486580B2 (en) | Wide databus architecture | |
US5864496A (en) | High density semiconductor memory having diagonal bit lines and dual word lines | |
US4700328A (en) | High speed and high efficiency layout for dram circuits | |
US5361223A (en) | Semiconductor memory device comprising a plurality of memory arrays with improved peripheral circuit location and interconnection arrangement | |
EP0073486A2 (en) | Stacked semiconductor memory | |
EP1081711A2 (en) | Dynamic type memory | |
KR960026780A (ko) | 단일/이중 인-라인 메모리 모듈에 패키징되는 동기식 메모리 및 제조 방법 | |
EP1265287A3 (en) | Non-volatile memory | |
KR930020447A (ko) | 반도체 메모리 장치의 비트라인 프리차아지방식 | |
US6611062B2 (en) | Twisted wordline strapping arrangement | |
EP0905703B1 (en) | Semiconductor memory having space-efficient layout | |
JPS5894188A (ja) | 増幅装置 | |
NL9100536A (nl) | Halfgeleider-geheugeninrichtingen. | |
US6140704A (en) | Integrated circuit memory devices with improved twisted bit-line structures | |
US5184321A (en) | Semiconductor memory device comprising a plurality of memory arrays with improved peripheral circuit location and interconnection arrangement | |
KR980006294A (ko) | 반도체 기억장치 | |
US5255231A (en) | Architecture of realizing balance of bit line sense amplifier in DRAM cell array | |
JP3227331B2 (ja) | ビット線構造 | |
EP0913831B1 (en) | Space-efficient master data line (MDQ) switch placement | |
CN1238527A (zh) | 改进的动态存取存储器延迟电路及其方法 | |
JPH11145426A (ja) | Dram及びそのメモリセルアレイ | |
JP3183541B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
KR100319885B1 (ko) | 데이터 입출력 라인의 저항값을 줄이는 데이터 입출력 라인 구조 | |
JPH09306169A (ja) | 半導体記憶装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A1A | A request for search or an international-type search has been filed | ||
BB | A search report has been drawn up | ||
BV | The patent application has lapsed |