NL9100536A - SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICES. - Google Patents

SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICES. Download PDF

Info

Publication number
NL9100536A
NL9100536A NL9100536A NL9100536A NL9100536A NL 9100536 A NL9100536 A NL 9100536A NL 9100536 A NL9100536 A NL 9100536A NL 9100536 A NL9100536 A NL 9100536A NL 9100536 A NL9100536 A NL 9100536A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
bit line
semiconductor memory
memory devices
contacts
bit
Prior art date
Application number
NL9100536A
Other languages
Dutch (nl)
Original Assignee
Gold Star Electronics
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Gold Star Electronics filed Critical Gold Star Electronics
Publication of NL9100536A publication Critical patent/NL9100536A/en

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/18Bit line organisation; Bit line lay-out
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/409Read-write [R-W] circuits 
    • G11C11/4097Bit-line organisation, e.g. bit-line layout, folded bit lines
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/06Arrangements for interconnecting storage elements electrically, e.g. by wiring
    • G11C5/063Voltage and signal distribution in integrated semi-conductor memory access lines, e.g. word-line, bit-line, cross-over resistance, propagation delay
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/522Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
    • H01L23/5222Capacitive arrangements or effects of, or between wiring layers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/522Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
    • H01L23/528Geometry or layout of the interconnection structure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Description

UITTREKSELEXTRACT

Een hal fgeleider-geheugeninrichting met bitlij ncontacten, welke in paren bitlijnen in een gevouwen bit 1 ijnstructuur verschaft worden, bevat een de bitlij ncontacten met elkaar verbindende zigzagvormige bitlijn.A semiconductor memory device with bitline contacts, which are provided in pairs of bitlines in a folded bitline structure, includes a zigzag-shaped bitline connecting the bitline contacts.

De pitch tussen de bitlijnen is ongeveer twee maal die van de halfgeleider-geheugeninrichting met de conventionele open bitlijn-structuur, waardoor de door de aangrenzende bitlijn geproduceerde kop-pelcapaciteit gereduceerd wordt. Daardoor wordt de ruis door de koppeling in het hoge-dichtheid geheugen van 16 mega en meer aanmerkelijk gereduceerd.The pitch between the bit lines is approximately twice that of the semiconductor memory device with the conventional open bit line structure, thereby reducing the coupling capacity produced by the adjacent bit line. As a result, the noise due to the coupling in the high-density memory of 16 mega and more is considerably reduced.

(figuur 5)(figure 5)

Figure NL9100536AD00021

Titel: Halfgeleider^geheugeninrichtingenTitle: Semiconductor ^ memory devices

De uitvinding heeft betrekking op hal fgeleider-geheugeninrich-tingen, welke toepasbaar zijn in de klasse van geheugens met hoge dichtheid van 16 mega en meer.The invention relates to semiconductor memory devices which are applicable in the class of high density memories of 16 mega and more.

Bekende halfgeleider-geheugeninrichtingen hebben een gevouwen bitlijnstructuur of een open bitlijnstructuur.Known semiconductor memory devices have a folded bit line structure or an open bit line structure.

Fig. 1 is een lay-out van conventionele halfgeleider-geheugenin-richtingen met de gevouwen bitlijnstructuur, die paren van parallel aangrenzend aan elkaar aangebrachte bitlijnen BL en BL bevat. De bit-lijn BL met een vorm van een rechte lijn bevat bitlijncontacten 1 met aan beide zijden respectievelijk begraven contacten 2a en 2b. Ook de bitlijn BL heeft bitlijncontacten 3, die aan beide zijden voorzien zijn van respectievelijk de begraven contacten 4a en 4b en aangrenzend aan de bitlijn BL tussen de begraven contacten 2a en 2b gepositioneerd zijn.Fig. 1 is a layout of conventional semiconductor memory devices with the folded bit line structure, which includes pairs of bit lines BL and BL arranged parallel to each other. The straight line bit line BL comprises bit line contacts 1 with contacts 2a and 2b buried on both sides, respectively. Bit line BL also has bit line contacts 3, which are provided on both sides with buried contacts 4a and 4b, respectively, and are positioned adjacent to bit line BL between buried contacts 2a and 2b.

Fig. 2 is een de halfgeleider-geheugeninrichting van fig. 1 weergevende schakeling. Wanneer één woordlijn WL van de woordlijnen WL gekozen wordt, wordt een met de woordlijn WL verbonden geselecteerde cel in de celreeks 5 aangeschakeld en een met een aangrenzende corresponderende woordlijn WL verbonden cel wordt uitgeschakeld. Een refe-rentiespanning wordt veroorzaakt in de bitlijn BL, aldus wordt een electrische potentiaal gewijzigd door een van de geselecteerde cel afkomstige electrische lading, in vergelijking met de referentiespan-ning. De paren van bitlijnen BL en EL zijn verbonden met detectiever-sterkers SA, zodat een verschil in potentiaal gedetecteerd wordt.Fig. 2 is a circuit showing the semiconductor memory device of FIG. When one word line WL of the word lines WL is selected, a selected cell connected to the word line WL is turned on in the cell string 5, and a cell connected to an adjacent corresponding word line WL is turned off. A reference voltage is produced in the bit line BL, thus an electrical potential is changed by an electrical charge from the selected cell, compared to the reference voltage. The pairs of bit lines BL and EL are connected to sense amplifiers SA so that a difference in potential is detected.

Fig. 3 is een lay-out van conventionele hal f geleider-géheugenin-richtingen met open bitlijnstructuur, die parallel aangrenzend aan elkaar aangebrachte bitlijnen EL bevat. De bitlijn BL in de vorm van een rechte lijn bevat bitlijncontacten 6 met aan beide zijden respectievelijk begraven contacten 7a en 7b. De aangrenzende bitlijnen BL hébben elk hetzelfde patroon.Fig. 3 is a layout of conventional open bit line structure semiconductor memory devices containing parallel bit lines EL arranged in parallel. The straight line bit line BL comprises bit line contacts 6 with contacts 7a and 7b buried on both sides, respectively. The adjacent bit lines BL each have the same pattern.

Fig. 4 is een de hal fgeleider-geheugeninr icht ingen van fig. 3 weergevende schakeling. Detectieversterkers SA zijn voorzien tussen celreeksen 8a en 8b, waarbij de bitlijn BL zich in de celreeks 8a en bitlijn BL zich in de celreeks 8b bevindt.Fig. 4 is a circuit illustrating the semiconductor memory devices of FIG. Detection amplifiers SA are provided between cell arrays 8a and 8b, where bit line BL is in cell array 8a and bit line BL is in cell array 8b.

De hal fgeleider-geheugeninrichtingen met gevouwen bitlijnstructuur kunnen een externe ruis goed verdragen en maken de inrichting van de detectieversterkers eenvoudig. Een pitch tussen de bitlijnen echter versmalt en een koppelcapaciteit neemt meer en meer toe met be trekking tot een hogere dichtheid. Bovendien zijn de halfgeleider-ge-heugeninrichtingen met open bitlijnstructuur toepasbaar bij geheugens van de klasse 4 mega, maar bij toepassing op geheugens met hoge dichtheid van 16 mega en meer wordt de inrichting van de detectieverster-kers moeilijk met betrekking tot de afname van de pitch van de geheu-gencel. Bovendien neemt de te koppelen belasting toe en een verschil in potentiaal voor de detectie neemt af overeenkomstig de smalle pitch tussen de bitlijnen, en aldus wordt de detectietijd vertraagt.The semiconductor memory devices with folded bit line structure can tolerate external noise well and make the arrangement of the sense amplifiers simple. However, a pitch between the bit lines narrows and a torque capacity increases more and more with respect to a higher density. In addition, the open bit line structure semiconductor memory devices are applicable to class 4 mega memories, but when applied to high density memories of 16 mega and above, the arrangement of the sense amplifiers becomes difficult with regard to the decrease in pitch of the memory cell. In addition, the load to be coupled increases and a difference in detection potential decreases in accordance with the narrow pitch between the bit lines, thus delaying the detection time.

Een doel van de uitvinding is het tot de helft reduceren van de bitlijnlengte per eeriheidscel.An object of the invention is to reduce the bit line length by half per cell of integrity.

Deze en andere doelen worden bereikt in een halfgeleider-geheu-geninrichting met bitlijncontacten in een lijnenpaar in een gevouwen bitlijnstructuur, die een de bitlijncontacten in een zigzag-vorm verbindende bitlijn bevat.These and other objects are accomplished in a semiconductor memory device having bit line contacts in a line pair in a folded bit line structure, which includes a bit line connecting the bit line contacts in a zigzag shape.

Deze en andere doelen en kenmerken van de uitvinding zullen duidelijk worden uit de volgende gedetailleerde beschrijving met verwijzing naar de tekeningen.These and other objects and features of the invention will become apparent from the following detailed description with reference to the drawings.

Fig. 1 is een lay-out van conventionele hal fgeleider-geheugenin-richtingen met een gevouwen bitlijnstructuur; fig. 2 is een de halfgeleider-géheugeninrichtingen van fig. 1 weergevende schakeling; fig. 3 is een lay-out van conventionele hal fgeleider-geheugenin-richtingen met epen bitlijnstructuur; fig. 4 is een de halfgeleider-géheugeninrichtingen van fig. 3 weergevende schakeling; fig. 5 is een lay-out van halfgeleider-gèheugeninrichtingen volgens een eerste uitvoering van de uitvinding; fig. 6 is een de halfgeleider-geheugeninrichtingen van fig. 5 weergevende schakeling; fig. 7 is een lay-out van halfgeleider-geheugeninrichtingen volgens een tweede uitvoering van de uitvoering; fig. 8 is een de halfgeleider-geheugeninrichtingen van fig. 7 weergevende schakeling.Fig. 1 is a layout of conventional semiconductor memory devices with a folded bit line structure; FIG. 2 is a circuit illustrating the semiconductor memory devices of FIG. 1; FIG. 3 is a layout of conventional semiconductor memory devices with a single bit line structure; FIG. 4 is a circuit showing the semiconductor memory devices of FIG. 3; FIG. 5 is a layout of semiconductor memory devices according to a first embodiment of the invention; FIG. 6 is a circuit showing the semiconductor memory devices of FIG. 5; FIG. 7 is a layout of semiconductor memory devices according to a second embodiment of the embodiment; FIG. 8 is a circuit showing the semiconductor memory devices of FIG. 7.

Fig. 5 is een lay-out van halfgeleider-geheugeninrichtingen met een zigzag-vorm vertonende bitlijnen volgens een eerste uitvoeringsvorm van de onderhavige uitvinding. Het in hal fgeleider-geheugenin-richtingen van fig. 1 gébruikte paar bitlijnen BL en BL is tot één bitlijn BL samengevoegd. De bitlijn BL in fig. 5 heeft een zigzagvorm, die er voor zorgt dat de bitlijncontacten 11 van de boven- en onder- zijden onder een rechte hoek met elkaar verbonden zijn.Fig. 5 is a layout of semiconductor memory devices with zigzag bit lines according to a first embodiment of the present invention. The pair of bit lines BL and BL used in semiconductor memory devices of FIG. 1 is combined into one bit line BL. The bit line BL in Fig. 5 has a zigzag shape, which ensures that the bit line contacts 11 are connected at right angles from the top and bottom sides.

De pitch van de zigzagvorm volgens de onderhavige uitvinding is ongeveer twee maal die van de halfgeleider-geheugeninrichtingen met een open bitlijnstructuur van fig. 3, hetgeen de inrichting van detec-tieversterkers SA eenvoudig maakt en een koppel capaciteit nauwelijks geproduceerd wordt. Bovendien is de lengte van de bitlijn per een-heidscel tot de helft gereduceerd in vergelijking met de halfgeleider-géheugeninrichtingen met de conventionele open bit 1 ij nstructuur, aldus is de detectietijd aanmerkelijk verbeterd.The pitch of the zigzag shape of the present invention is about twice that of the open bitline semiconductor memory devices of FIG. 3, which makes the arrangement of detection amplifiers SA simple and a coupling capacity is hardly produced. In addition, the length of the bit line per unit cell has been reduced by half compared to semiconductor memory devices having the conventional open bit 1 structure, thus the detection time has been remarkably improved.

In theorie is de RC-vertraging van de halfgeleider inrichtingen van fig. 3 gelijk aan Rx(GJ+CB) (R is de weerstand van de bitlijn, CJ is de junctiecapaciteit, en CB is de bitlijncapaciteit), maar de RC-vertraging volgens de onderhavige uitvinding is gelijk aan R/2x(CJ+CB/2) , door het gebruik van één bitlijn met hetzelfde aantal cellen. Daardoor wordt de RC-vertraging gereduceerd en de werksnelheid verbeterd.In theory, the RC delay of the semiconductor devices of Fig. 3 is equal to Rx (GJ + CB) (R is the resistance of the bit line, CJ is the junction capacitance, and CB is the bit line capacitance), but the RC delay according to the present invention is equivalent to R / 2x (CJ + CB / 2), using one bit line with the same number of cells. This reduces the RC delay and improves the working speed.

Fig. 6 is een de halfgeleider-geheugeninrichtingen van fig. 5 weergevende schakeling. Wanneer een woordlijn WL geselecteerd wordt in de celreeks 13a, worden de met de geselecteerde woordlijn WL verbonden cellen ingeschakeld. In de celreeks 13a zijn de bitlijnen BL verbonden met de detectieversterkers SA. De met een tegengestelde corresponderende woordlijn WL in celreeks 13b verbonden cellen worden uitgeschakeld, waarbij de bitlijnen BL verbonden zijn met de detectieversterkers SA. Daardoor kunnen gegevens gedetecteerd worden met betrekking tot een verschil in potentiaal tussen de geselecteerde bitlijn BL en de bitlijn BL, die een referentiesparming bezit.Fig. 6 is a circuit showing the semiconductor memory devices of FIG. When a word line WL is selected in the cell string 13a, the cells associated with the selected word line WL are turned on. In the cell string 13a, the bit lines BL are connected to the sense amplifiers SA. The cells connected to an opposite corresponding word line WL in cell string 13b are turned off, the bit lines BL being connected to the sense amplifiers SA. Therefore, data can be detected with respect to a difference in potential between the selected bit line BL and the bit line BL, which has a reference voltage.

Fig. 7 is een lay-out van halfgeleider-geheugeninrichtingen volgens een tweede uitvoeringsvorm van de uitvinding. De bitlijncontacten 11 in fig. 7 zijn onder een stompe hoek met elkaar verbonden. Fig. 8 is een de halfgeleider-geheugeninrichtingen van fig. 7 weergevende schakeling.Fig. 7 is a layout of semiconductor memory devices according to a second embodiment of the invention. The bit line contacts 11 in Fig. 7 are connected together at an obtuse angle. Fig. 8 is a circuit showing the semiconductor memory devices of FIG.

Zoals hierboven beschreven is het aantal cellen per eenheids-lengte van een bitlijn twee maal die van de halfgeleider-geheugenin-richtingen met de bekende open bitl ij nstructuur, waarbij door het gebruik van één bitlijn met hetzelfde aantal cellen de weerstand en de koppelcapaciteit gereduceerd worden, zodat de detectiespanning vergroot wordt bij het detecteren van gegevens, en het karakter en de werksnelheid verbeterd worden.As described above, the number of cells per unit length of a bit line is twice that of the semiconductor memory devices with the known open bit line structure, the resistance and coupling capacity being reduced by using one bit line with the same number of cells , so that the detection voltage is increased when detecting data, and the character and operating speed are improved.

Bovendien is de pitch tussen de bitlijnen volgens de uitvinding ongeveer twee maal die van de halfgeleider-geheugeninrichtingen met de conventionele open bitlijnstructuur, waardoor de door de aangrenzende bitlijn geproduceerde koppelcapaciteit gereduceerd wordt. Daardoor wordt de ruis door koppeling in het geheugen met hoge dichtheid van 16 mega en meer aanmerkelijk gereduceerd.In addition, the pitch between the bit lines according to the invention is about twice that of the semiconductor memory devices with the conventional open bit line structure, thereby reducing the coupling capacity produced by the adjacent bit line. As a result, the noise by coupling in the high-density memory of 16 mega and more is considerably reduced.

Hoewel de uitvinding hierin beschreven is met verwijzing naar specifieke uitvoeringsvormen, zal het duidelijk zijn dat deze uitvoeringsvormen voorkeursuitvoeringsvormen zijn en dat modificaties aangebracht kunnen worden zonder buiten de in de bijbehorende conclusies gedefinieerde omvang van de uitvinding te treden.While the invention has been described herein with reference to specific embodiments, it will be understood that these embodiments are preferred embodiments and that modifications may be made without departing from the scope of the invention defined in the accompanying claims.

Claims (3)

1. Halfgeleider-geheugeninricht ing met in een gevouwen bitlijn-structuur verschafte bitlijncontacten, met het kenmerk, dat de de bit-lijncontacten verbindende bitlijn een zigzagvorm heeft.1. Semiconductor memory device with bit line contacts provided in a folded bit line structure, characterized in that the bit line connecting the bit line contacts has a zigzag shape. 2. Halfgeleider-geheugeninrichting volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de bitlijncontacten onder een rechte hoek met elkaar verbonden zijn.Semiconductor memory device according to claim 1, characterized in that the bit line contacts are connected to each other at right angles. 3. Halfgeleider-geheugeninrichting volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de bitlijncontacten onder een stompe hoek met elkaar verbonden zijn.Semiconductor memory device according to claim 1, characterized in that the bit line contacts are connected to each other at an obtuse angle.
NL9100536A 1990-03-28 1991-03-26 SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICES. NL9100536A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR900004190 1990-03-28
KR1019900004190A KR920007358B1 (en) 1990-03-28 1990-03-28 Vlsi cell and core array

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL9100536A true NL9100536A (en) 1991-10-16

Family

ID=19297455

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL9100536A NL9100536A (en) 1990-03-28 1991-03-26 SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICES.

Country Status (6)

Country Link
JP (1) JPH0774266A (en)
KR (1) KR920007358B1 (en)
DE (1) DE4110155A1 (en)
FR (1) FR2660475A1 (en)
GB (1) GB2242568A (en)
NL (1) NL9100536A (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007013011A (en) * 2005-07-01 2007-01-18 Seiko Epson Corp Ferroelectric memory device and driving ic (integrated circuit) for indication
CN113053897B (en) * 2021-03-04 2022-06-17 长鑫存储技术有限公司 Memory and preparation method thereof
US11877441B2 (en) 2021-03-04 2024-01-16 Changxin Memory Technologies, Inc. Memory and fabricating method thereof

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2743619A1 (en) * 1977-09-28 1979-03-29 Siemens Ag SEMICONDUCTOR STORAGE ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING IT
US4319342A (en) * 1979-12-26 1982-03-09 International Business Machines Corporation One device field effect transistor (FET) AC stable random access memory (RAM) array
JPS57208691A (en) * 1981-06-15 1982-12-21 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor memory
JP2682021B2 (en) * 1988-06-29 1997-11-26 富士通株式会社 Semiconductor memory device
JPH0276258A (en) * 1988-09-13 1990-03-15 Fujitsu Ltd Semiconductor memory device
JP2681285B2 (en) * 1988-09-19 1997-11-26 富士通株式会社 Semiconductor memory device
JP2974252B2 (en) * 1989-08-19 1999-11-10 富士通株式会社 Semiconductor storage device

Also Published As

Publication number Publication date
KR910017640A (en) 1991-11-05
KR920007358B1 (en) 1992-08-31
FR2660475A1 (en) 1991-10-04
JPH0774266A (en) 1995-03-17
GB2242568A (en) 1991-10-02
GB9106576D0 (en) 1991-05-15
DE4110155A1 (en) 1991-10-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5332923A (en) Semiconductor memory
US7486580B2 (en) Wide databus architecture
US5864496A (en) High density semiconductor memory having diagonal bit lines and dual word lines
US4700328A (en) High speed and high efficiency layout for dram circuits
US5361223A (en) Semiconductor memory device comprising a plurality of memory arrays with improved peripheral circuit location and interconnection arrangement
EP0073486A2 (en) Stacked semiconductor memory
EP1081711A2 (en) Dynamic type memory
KR960026780A (en) Synchronous Memory and Manufacturing Methods Packaged in Single / Dual In-Line Memory Modules
EP1265287A3 (en) Non-volatile memory
KR930020447A (en) Bit line precharge method of semiconductor memory device
US6611062B2 (en) Twisted wordline strapping arrangement
EP0905703B1 (en) Semiconductor memory having space-efficient layout
JPS5894188A (en) Amplifier
NL9000431A (en) SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE.
NL9100536A (en) SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICES.
US6140704A (en) Integrated circuit memory devices with improved twisted bit-line structures
US5184321A (en) Semiconductor memory device comprising a plurality of memory arrays with improved peripheral circuit location and interconnection arrangement
KR980006294A (en) Semiconductor memory
US5255231A (en) Architecture of realizing balance of bit line sense amplifier in DRAM cell array
JP3227331B2 (en) Bit line structure
EP0913831B1 (en) Space-efficient master data line (MDQ) switch placement
CN1238527A (en) Improved dynamic access memory delay circuits and methods therefor
JPH11145426A (en) Dram and memory cell array thereof
JP3183541B2 (en) Semiconductor storage device
KR100319885B1 (en) Data input/output line scheme to reduce resistance of data input/output line

Legal Events

Date Code Title Description
A1A A request for search or an international-type search has been filed
BB A search report has been drawn up
BV The patent application has lapsed