NL8701603A - Vacuuminrichting voor het vastzuigen van werkstukken. - Google Patents
Vacuuminrichting voor het vastzuigen van werkstukken. Download PDFInfo
- Publication number
- NL8701603A NL8701603A NL8701603A NL8701603A NL8701603A NL 8701603 A NL8701603 A NL 8701603A NL 8701603 A NL8701603 A NL 8701603A NL 8701603 A NL8701603 A NL 8701603A NL 8701603 A NL8701603 A NL 8701603A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- support members
- vacuum
- vacuum device
- workpiece
- sealing means
- Prior art date
Links
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 22
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 11
- 239000005060 rubber Substances 0.000 claims description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 5
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 claims description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 241000288673 Chiroptera Species 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 2
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6838—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Jigs For Machine Tools (AREA)
- Sheets, Magazines, And Separation Thereof (AREA)
Description
PHQ 87.016 1 PHILIPS AND Dü PONT OPTICAL COMPANY te Nieuwegein "Vacuuminrichting voor het vastzuigen van werkstukken”
De uitvinding betreft een vacuuminrichting voor het vastzuigen van werkstukken en omvattende: een basis voorzien van een verzameling van op afstand van elkaar gesitueerde steunorganen waarvan de vrije uiteinden een ondersteuningsvlak vormen voor een werkstuk, waar-5 bij de ruimte tussen de steunorganen behoort tot een evacueerbare va-euumruimte, alsmede afdichtmiddelen die de verzameling steunorganen omringen en vacuumdicht op een aangebracht werkstuk aansluiten.
Uit het Amerikaanse Octrooischrift 4,213,698 (herewith incorporated by reference) is een vacuuminrichting van deze soort be-10 kend. Het betreft een inrichting speciaal geschikt voor het opspannen van siliciumplakken, te gebruiken bij het langs foto-lythografische weg aanbrengen van patronen op het oppervlak van de siliciumplak voor het fabriceren van geïntegreerde schakelingen. De verzameling steunorganen bestaat uit een aantal metalen pennen waarvan de vrije uiteinden zoda-15 nig zijn afgevlakt dat deze gezamenlijk nauwkeurig het ondersteuningsvlak voor het werkstuk definiëren. De afdichtmiddelen worden gevormd door een afdichtring die aan de bovenzijde van een cylindrische wand is aangebracht, welke cylindrische wand de vacuumruimte aan de omtrek begrensd. Een siliciumplak wordt op de vacuuminrichting zodanig neerge- 20 legd, dat de omtrek van de siliciumplak enigszins buiten de afdichtring uitsteekt. De afdichtring is voorzien van een nauwkeurig in het ondersteuningsvlak gesitueerde vlakke bovenrand. De siliciumplak is dus nauwkeurig in een vast ondersteuningsvlak gesitueerd op het moment dat de vacuumruimte wordt geevacueerd. Door het evacueren van de vacuum-25 ruimte wordt de siliciumplak in het ondersteuningsvlak gefixeerd.
De bekende inrichting is geschikt voor werkstukken, zoals siliciumplakken, die een betrekkelijk grote stijfheid bezitten. De inrichting is echter minder geschikt voor werkstukken die minder stijf zijn of uit relatief dun materiaal zijn gevormd. De afstanden tussen de 30 steunorganen kunnen namelijk moeilijk klein worden gemaakt, gezien de gecompliceerdheid die de inrichting daardoor zou verkrijgen. Een ander nadeel van de bekende inrichting is dat deze in feite alleen geschikt 8701603 PHQ 87-016 2 Η is voor toepassing in stofvrije ruimtes, althans wanneer een grote vlakheid van het werkstuk wordt verlangd. Bij aanwezigheid van een verontreiniging op het uiteinde van één der pennen, in het bijzonder indien de verontreiniging een hard deeltje betreft zoals een korreltje 5 zand of iets dergelijks, kunnen zeer grote krachten op het werkstuk ter plaatse worden uitgeoefend. Dit leidt op z’n minst tot plaatselijke vervorming van het werkstuk en eventueel zelfs tot breuk. Gezien de grote nauwkeurigheid waarmee de vrije uiteinden van de steunorganen en de afdichtmiddelen in het ondersteuningsvlak dienen te zijn gesitueerd ™ is de bekende inrichting betrekkelijk kostbaar en dus in zijn toepassingen betrekkelijk begrensd.
Het doel van de uitvinding is een vaeuuminrichting van de in de aanhef vermelde soort te verschaffen die minder kostbaar is, die geschikt is voor dunne en/of breekbare werkstukken, die aanzienlijk min-^ der gevoelig is voor vervuiling en die de mogelijkheid biedt om te komen tot een vacuumruimte met een gering volume. De uitvinding wordt daardoor gekenmerkt, dat de genoemde verzameling een aantal steunorganen omvat die uit een elastisch deformeerbaar materiaal bestaan en dat de afdichtmiddelen beweegbare delen omvatten zodat na het aanbrengen 20 van een werkstuk en door de evacuatie van de vacuumruimte een beweging van de genoemde delen van de afdichtmiddelen bij een gelijktijdige axiale deformatie van de steunorganen optreedt, waardoor de steunorganen in dwarsrichting in afmeting toenemen bij een gelijktijdige verkleining van het volume van de vacuumruimte. Door het feit dat de steunorganen
IC
elastisch deformeerbaar zijn zal een ter plaatse van een steunorgaan aanwezig stofje of korreltje een aanzienlijk geringer effect op de vervorming van het werkstuk hebben, waardoor ook de optredende vervor-mingskrachten veel geringer worden. Het betreffende steunorgaan kan namelijk door de elastische deformeerbaarheid plaatselijk enigszins uit-30 wijken. Niettemin ontstaat uiteindelijk een nauwkeurig gedefinieerde eindpositie van het werkstuk. De steunorganen nemen in dwarsrichting in afmeting toe, waardoor een vergroting van de deformatiekrachten ontstaat. Het is mogelijk de steunorganen zo dicht bij elkaar te plaatsen dat deze in de vervormde situatie elkander raken zodat een geheel dicht 35 - of althans bij benadering geheel dicht - ondersteuningsvlak uiteindelijk resulteert. Bij iedere uitvoeringsvorm speelt het voordeel dat naar mate de steunorganen verder deformeren het volume van de vacuum- 8701 603 » PHQ 87.016 3 ruimte afneemt waardoor dus een snel vastzuigen van het werkstuk plaatsvindt met een gering gebruik van vacuum. Ook het wederom beluchten van de vaeuumruimte voor het verwijderen van het werkstuk kan snel plaatsvinden. Het is met vacuuminrichtingen volgens de uitvinding moge-5 lijk gebleken om uit nikkel langs galvanische weg vervaardigde dunne schillen met een diameter van ongeveer 30 cm. en een dikte van ongeveer 100 micron op een vacuuminrichting volgens de uitvinding vast te zuigen bij een axiale deformatie van het oppervlak van het werkstuk die klei-ner was dan ongeveer 5 micron. Dergelijke dunne nikkelen schillen worden wel gebruikt bij de reproductie van optisch uitleesbare informatie-schijven. De nikkelen schil is voorzien van een informatiestructuur in het oppervlak die, na opspanning van de schil op de vacuuminrichting en bij roteren van de vacuuminrichting, met behulp van een stralingsbundel zoals een laserbundel kan worden uitgelezen.
15
Bij voorkeur wordt een uitvoeringsvorm van de uitvinding gebruikt die tot kenmerk heeft dat de elastische steunorganen behoren tot een steunmat, omvattende een in hoofdzaak planparalel matlichaam met aan één zijde uitstekende steunorganen. Een dergelijk matlïchaam met daarop de elastische steunorganen is makkelijk op de basis van een va-ouuminrichting aan te brengen. Met voordeel wordt een uitvoeringsvorm gebruikt die tot kenmerk heeft, dat het matlichaam en de elastische steunorganen samen een, althans grotendeels, uit elastisch materiaal vervaardigd geheel vormen. Een verdere uitvoeringsvorm valt met alle voorgaande uitvoeringsvormen goed te combineren en heeft tot kenmerk 25 dat de steunorganen uit een rubber bestaan.
In de praktijk heeft goed voldaan de toepassing van een matlichaam vervaardigd uit matmateriaal dat op zich reeds bekend is voor de bekleding van zogenaamde tafeltennisbatjes. Dergelijk matmateriaal is in de handel courant en tegen lage kosten verkrijgbaar. Het matmate-30 riaal omvat een textielweefsel dat is ingebed in een rubber waaruit ook de elastische steunorganen bestaan. Deze hebben de vorm van cylindri-sche evenwijdige pennetjes op korte afstand van elkaar. De toepassing van een rubber is in vele gevallen van groot belang. Rubbers bezitten namelijk de eigenschap dat onder compressie het volume van een rubber- 00 lichaam niet, althans niet in beduidende mate, veranderbaar is. De elastische deformatie brengt dus wel een vormverandering van de steunorganen teweeg, niet echter een volumeverandering. De betekenis hiervan 8701603 PHQ 87.016 4 zal in het hiernavolgende nader worden toegelicht bij de beschrijving van de tekening.
Een andere voordelige uitvoeringsvorm van de uitvinding heeft tot kenmerk dat de afdichtmiddelen een ringvormig lichaam omvat-5 ten met een elastische, axiaal vervormbare, afdichtlip. Dergelijke af-dichtlippen zijn tegen geringe kosten uit een geschikte kunststof of rubber te vervaardigen en bieden een goede afdichting.
Een andere uitvoeringsvorm is vooral van voordeel voor het opspannen van in vloeistof ondergedompelde werkstukken. Het is gebrui- 10 kelijk om ten behoeve van de vervaardiging van informatiedragers zoals grammofoonplaten of optisch uitleesbare platen gebruik te maken van in een nikkelbad langs galvanische weg opgegroeide nikkelen schillen die gebruikt kunnen worden als matrijs in een pers- of spuitgietprocédé, dan wel een'tussenstap vormen voor het vervaardigen van een matrijs.
15
Hiertoe wordt een werkstuk, in de vorm van een schijf met aan het oppervlak een informatiestruktuur, aangebracht op een roterende spindel die vervolgens in het nikkelbad wordt gedompeld. Bij toepassing van een vacuuminrichting volgens de uitvinding zou het gevaar aanwezig kunnen zijn dat vloeistof uit het bad wordt gezogen. Het is dan van voordeel 20 om een uitvoeringsvorm van de uitvinding toe te passen die tot kenmerk heeft dat de vacuumruimte is aangesloten op een evacueerinrichting omvattende een met een werkfluïdum opererende ejecteur-pomp. Pneumatische ejecteursystemen zijn in het algemeen minder geschikt om grote vacuum- ruimtes te evacuëren, bij de genoemde toepassing kan de vacuumruimte 25 evenwel zeer klein zijn en behoeft deze in principe niet veel meer te omvatten dan de ruimte tussen de steunorganen. Eventueel uit het bad opgezogen vloeistof wordt via de ejecteur tezamen met het werkmedium afgevoerd en kan desgewenst gemakkelijk in een geschikt vat worden opgevangen .
30
De uitvinding zal nu nader worden besproken aan de hand van de tekening, waarin
Figuur 1 een bovenaanzicht is op een vacuuminrichting volgens de uitvinding waarop een dunne glazen plaat is aangebracht, waarbij het linkergedeelte van de figuur betrekking heeft op een situatie 35 waarbij de glazen plaat niet is vastgezogen en het rechtergedeelte betrekking heeft op een situatie waarbij de glazen plaat wel is vastgezogen, en in elk van de beide figuurhelften een deel van de glazen plaat 8701603 * PHQ 87.016 5 is weggebroken voor het tonen van het zieh eronder bevindende gedeelte van de vaeuuminrichting,
Figuur 2 een dwarsdoorsnede is volgens de pijlen II-II in figuur 1,
Figuur 3 in detail toont volgens het gedeelte III in figuur 2,
Figuur 4 in detail toont volgens het gedeelte IV in figuur 2 en
Figuur 5 schematisch een uitvoeringsvoorbeeld van de uitvin- 10 ding toont bij toepassing in een galvanische inrichting.
De in de tekening getoonde vaeuuminrichting omvat een basis 1 in de vorm van een ronde plaat bijvoorbeeld uit metaal of een andere geschikte grondstof. Op de basis is een verzameling van op afstand van elkaar gesitueerde steunorganen 2 aanwezig, waarvan de vrije uiteinden 15 3 een ondersteuningsvlak 4 vormen voor een werkstuk 5 dat in dit geval bestaat uit een dunne glazen schijf. Tussen de steunorganen bevindt zich een ruimte 6, die behoort tot een evacueerbare vacuumruimte. De verzameling steunorganen wordt omringd door afdiehtmiddelen 7 die vacuumdicht op het werkstuk 5 aansluiten.
20
De steunorganen 2 zijn vervaardigd uit een elastisch defor-meerbaar materiaal en de afdiehtmiddelen 7 omvatten een axiaal beweegbare lip 8, zodat na het aanbrengen van het werkstuk 5 en door de evacuatie van de vacuumruimte 6 een beweging van de lip 8 optreedt bij een gelijktijdige axiale deformatie van de steunorganen 2, waardoor de 25 steunorganen in dwarsrichting in afmeting toenemen bij een verkleining van het volume van de vacuumruimte.
De elastische steunorganen 2 behoren tot een steunmat 9_, omvattende een in hoofdzaak planparallel mat-liehaam 10. Het mat-lichaam 10 en de steunorganen 2 vormen tezamen een althans grotendeels uit 30 elastisch materiaal zoals rubber vervaardigd geheel. In de getekende uitvoeringsvorm is de steunmat gesneden uit matmateriaal dat courant in de handel verkrijgbaar is en algemeen toegepast wordt voor het bekleden van tafeltennisbatjes. In het mat-lichaam bevindt zich ter versteviging een textiellaag 11. Dit courant verkrijgbare materiaal blijkt van 35 geschikte kwaliteit voor het beoogde doel te zijn. De penvormige steunorganen 2 bezitten onderlinge hoogteverschillen in de orde van grootte van slechts 10 μ terwijl ook de diameterverschillen zeer gering — 8701603 * PHQ 87.016 6 zijn.
De afdichtmiddelen 7 bestaan uit een als één geheel, inclusief de afdichtlip 8, uit een geschikte grondstof zoals siliconenrubber vervaardigde ring die op een geschikte wijze, zoals lijmen of klemmen, 5 is aangebracht op de basis 1.
Voor het evacueren van de vacuumruimte tussen het werkstuk 5 en de steunmat _9, rondom afgesloten door de afdichtlip 8, is in de basis 1 een vacuumkanaal 12 aanwezig.
Figuur 5 toont een uitvoeringsvoorbeeld van de uitvinding 10 waarbij het vacuumkanaal 12 is aangesloten op een evacueerinrichting 13. Het werkstuk 5 is ondergedompeld in een vloeistof 14 aanwezig in een bak 15 van een galvaniseerinrichting. Aangezien de galvaniseerin-richting op zich voor de uitvinding verder niet van belang wordt geacht is deze slechts zeer schematisch getekend en zal deze niet in detail 15 worden besproken. Het zij slechts vermeld dat de inrichting bijvoorbeeld van de soort kan zijn zoals beschreven in de Europese octrooiaanvrage 0.058.649 A1 (herewith incorporated by reference). De bak 15 wordt aan de bovenzijde afgedekt door een deksel 16 dat door middel van een scharnier 17 opengeklapt kan worden. Het deksel is voorzien van een 20 lager 18 voor een volgens 19 roteerbare holle stang 20, die aan het uiteinde de basis 1 van de vacuuminrichting draagt. Het vacuumkanaal 12 zet zich door de stang 20 voort en mondt uiteindelijk uit in de evacueerinrichting _1_3.
De slechts schematisch getoonde evacueerinrichting omvat een 25 straalpijp 21 alsmede een injecteurlichaam 22 dat inwendig voorzien is van een venturiprofiel 23· De straalpijl 21 is voorzien van een door-stroomopening 24 waardoor volgens de pijl 25 lucht wordt geperst. Het vacuumkanaal 12 mondt uit in het nauwste gedeelte van de venturi 23 waardoor ten gevolge van de aldaar optredende onderdruk de in de va-30 cuumruimte en in het vacuumkanaal aanwezige lucht volgens de pijl 26 wordt meegevoerd om uiteindelijk volgens de pijl 27 uit de evacueerinrichting te worden geblazen.
Een belangrijk voordeel van de uitvinding is dat in de ge-evacueerde situatie, zie figuur 4, het ondersteuningsvlak 4 goed gede-35 finieerd is en in zijn ligging weinig afhankelijk is van eventueel optredende variaties in het vacuum. Dit komt omdat vanaf een bepaalde onderdruk de steunlichamen 2 een zodanige deformatie in dwarsrichting 8701 60 3 s PHQ 87.016 7 hebben ondergaan dat deze kontakt met elkaar vormen zodat een aanzienlijke verstijving van de elastische axiale vervorming optreedt. De vervorming van de steunlichamen kan nog sterker zijn dan in figuur 4 is getoond en kan in principe zo ver gaan dat in het geheel geen ruimte 5 meer tussen steunorganen over is. In dat geval betekent een verdere verlaging van de onderdruk in de vacuumruimte niet langer een verdere axiale deformatie van de steunorganen, althans wanneer de steunorganen uit rubber bestaan. Rubber is immers, zoals reeds opgemerkt, nauwelijks compressibel. De vacuuminrichting volgens de uitvinding is dus ook ge- 10 schikt om voorwerpen aan te brengen in een vooraf nauwkeurig gedefinieerd vlak, onafhankelijk van kleine verschillen in het vacuum.
Hoewel de uitvinding slechts aan de hand van een enkel uit-voeringsvoorbeeld is getoond zijn in principe binnen het kader van de conclusies velerlei verschillende uitvoeringsvoorbeelden mogelijk. De 15 steunorganen behoeven geen ronde doorsnede te hebben maar kunnen iedere andere gewenste en geschikte vorm bezitten. Ze behoeven niet uit rubber te bestaan maar kunnen indien gewenst uit een ander materiaal zijn gevormd. De vacuuminrichting behoeft niet vlak te zijn maar kan bijvoorbeeld ook een gebogen vorm bezitten voor het vastzuigen van niet vlakke 20 werkstukken of werkstukken die in een niet vlakke vorm gebracht en gehouden dienen te worden. Behalve een verzameling van elastische op afstand van elkaar gesitueerde steunorganen kunnen ook nog steunorganen behorende tot een andere verzameling aanwezig zijn, bijvoorbeeld bestaande uit niet vervormbare afstandsorganen die de ligging van het op-25 spanvlak 4 in de geëvacueerde situatie bepalen.
Behalve de reeds genoemde voordelen van de uitvinding ten opzichte van de genoemde stand van de techniek kunnen velerlei andere voordelen zich manifesteren bij vergelijking van de uitvinding met andere vacuuminrichtingen.
30 35 8701 603
Claims (6)
1. Vacuuminrichting voor het vastzuigen van werkstukken en omvattende : - een basis (1) voorzien van een verzameling van op afstand van elkaar gesitueerde steunorganen (2) waarvan de vrije uiteinden (3) een onder- 5 steuningsvlak (4) vormen voor een werkstuk (5), waarbij de ruimte (6) tussen de steunorganen behoort tot een evacueerbare vacuumruimte, alsmede - afdichtmiddelen (7) die de verzameling steunorganen omringen en va-cuumdicht op een aangebracht werkstuk (5) aansluiten, 10 met het kenmerk, - dat de genoemde verzameling een aantal steunorganen (2) omvat die uit een elastisch deformeerbaar materiaal bestaan en - dat de afdichtmiddelen (7) beweegbare delen (8) omvatten zodat na het aanbrengen van een werkstuk (5) en door de evacuatie van de vacuumruim- 15 te (6) een beweging van de genoemde delen (8) van de afdichtmiddelen bij een gelijktijdige axiale deformatie van de steunorganen optreedt, waardoor de steunorganen in dwarsrichting in afmeting toenemen bij een gelijktijdige verkleining van het volume van de vacuumruimte.
2. Vacuuminrichting volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat 2D de elastische steunorganen (2) behoren tot een steunmat (9), omvattende een in hoofdzaak planparallel mat-lichaam (10) met aan één zijde uitstekende steunorganen.
3. Vacuuminrichting volgens conclusie 2, met het kenmerk, dat het mat-lichaam (10) en de elastische steunorganen (2) samen een, 25 althans grotendeels uit elastisch materiaal vervaardigd, geheel vormen.
4. Vacuuminrichting volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de steunorganen (2) uit een rubber bestaan.
5. Vacuuminrichting volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de afdichtmiddelen (7) een ringvormig lichaam omvatten met een 30 elastische, axiaal vervormbare, afdichtlip (8).
6. Vacuuminrichting volgens conclusie 1, voor het opspannen van in vloeistof (14) ondergedompelde werkstukken, met het kenmerk, dat de vacuumruimte is aangesloten op een evacueerinrichting (13) omvattende een met een werkfluïdum opererende ejecteur-pomp. 35 8701 603
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8701603A NL8701603A (nl) | 1987-07-08 | 1987-07-08 | Vacuuminrichting voor het vastzuigen van werkstukken. |
| US07/167,812 US4856766A (en) | 1987-07-08 | 1988-03-14 | Vacuum apparatus for holding workpieces |
| KR2019880010922U KR940003291Y1 (ko) | 1987-07-08 | 1988-07-05 | 작업물 지지용 진공장치 |
| EP88201409A EP0298564B1 (en) | 1987-07-08 | 1988-07-06 | Vacuum apparatus for holding workpieces |
| DE8888201409T DE3874981T2 (de) | 1987-07-08 | 1988-07-06 | Vakuumvorrichtung zum halten von werkstuecken. |
| JP1988089540U JPH07446Y2 (ja) | 1987-07-08 | 1988-07-07 | 加工物保持用の真空装置 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8701603A NL8701603A (nl) | 1987-07-08 | 1987-07-08 | Vacuuminrichting voor het vastzuigen van werkstukken. |
| NL8701603 | 1987-07-08 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL8701603A true NL8701603A (nl) | 1989-02-01 |
Family
ID=19850275
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL8701603A NL8701603A (nl) | 1987-07-08 | 1987-07-08 | Vacuuminrichting voor het vastzuigen van werkstukken. |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4856766A (nl) |
| EP (1) | EP0298564B1 (nl) |
| JP (1) | JPH07446Y2 (nl) |
| KR (1) | KR940003291Y1 (nl) |
| DE (1) | DE3874981T2 (nl) |
| NL (1) | NL8701603A (nl) |
Families Citing this family (37)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB8922225D0 (en) * | 1989-10-03 | 1989-11-15 | Superion Ltd | Apparatus and methods relating to ion implantation |
| DE69133413D1 (de) * | 1990-05-07 | 2004-10-21 | Canon Kk | Substratträger des Vakuumtyps |
| US5143450A (en) * | 1991-02-01 | 1992-09-01 | Aetrium, Inc. | Apparatus for handling devices under varying temperatures |
| JPH0521584A (ja) * | 1991-07-16 | 1993-01-29 | Nikon Corp | 保持装置 |
| US5671910A (en) * | 1992-05-06 | 1997-09-30 | James C. Carne | Vacuum plates |
| JPH0639818U (ja) * | 1992-11-09 | 1994-05-27 | 東燃化学株式会社 | 木材の搬出用シューター |
| JPH06268051A (ja) * | 1993-03-10 | 1994-09-22 | Mitsubishi Electric Corp | ウエハ剥し装置 |
| US5660699A (en) * | 1995-02-20 | 1997-08-26 | Kao Corporation | Electroplating apparatus |
| US5724121A (en) * | 1995-05-12 | 1998-03-03 | Hughes Danbury Optical Systems, Inc. | Mounting member method and apparatus with variable length supports |
| JPH1022184A (ja) * | 1996-06-28 | 1998-01-23 | Sony Corp | 基板張り合わせ装置 |
| JP3376258B2 (ja) | 1996-11-28 | 2003-02-10 | キヤノン株式会社 | 陽極化成装置及びそれに関連する装置及び方法 |
| EP0865039B1 (en) * | 1997-03-12 | 2002-05-29 | TAPEMATIC S.p.A. | A supporting device for data-storage optical discs |
| US5993302A (en) * | 1997-12-31 | 1999-11-30 | Applied Materials, Inc. | Carrier head with a removable retaining ring for a chemical mechanical polishing apparatus |
| US6080050A (en) * | 1997-12-31 | 2000-06-27 | Applied Materials, Inc. | Carrier head including a flexible membrane and a compliant backing member for a chemical mechanical polishing apparatus |
| US5989444A (en) * | 1998-02-13 | 1999-11-23 | Zywno; Marek | Fluid bearings and vacuum chucks and methods for producing same |
| DE29814100U1 (de) * | 1998-08-06 | 1999-12-16 | J. Schmalz GmbH, 72293 Glatten | Blocksauger |
| CH695405A5 (de) | 1999-12-14 | 2006-04-28 | Esec Trading Sa | Die Bonder und Wire Bonder mit einer Ansaugvorrichtung zum Flachziehen und Niederhalten eines gewölbten Substrats. |
| EP1109207A1 (de) * | 1999-12-14 | 2001-06-20 | Esec SA | Ansaugvorrichtung zum Niederhalten eines Substrates |
| CH695075A5 (de) | 2000-07-03 | 2005-11-30 | Esec Trading Sa | Greifwerkzeug. |
| EP1170781A1 (de) * | 2000-07-03 | 2002-01-09 | Esec Trading S.A. | Greifwerkzeug |
| EP1170783A1 (en) * | 2000-07-03 | 2002-01-09 | Esec Trading S.A. | Pick-up-tool |
| US6771482B2 (en) * | 2001-07-30 | 2004-08-03 | Unaxis Usa Inc. | Perimeter seal for backside cooling of substrates |
| ITMI20012014A1 (it) * | 2001-09-27 | 2003-03-27 | Lpe Spa | Utensile per maneggiare fette e stazione per crescita epitassiale |
| EP1762898A3 (en) * | 2003-05-09 | 2007-03-28 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| EP1475667A1 (en) * | 2003-05-09 | 2004-11-10 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| DE202004012259U1 (de) * | 2004-08-05 | 2005-04-07 | Weha Ludwig Werwein Gmbh | Saugvorrichtung für Plattenbearbeitung |
| JP4534978B2 (ja) * | 2005-12-21 | 2010-09-01 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体薄膜製造装置 |
| JP5312923B2 (ja) | 2008-01-31 | 2013-10-09 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
| KR100936643B1 (ko) * | 2009-06-22 | 2010-01-14 | 지기용 | 페달식 회전탈수장치 |
| CN102754199A (zh) * | 2009-12-15 | 2012-10-24 | 速力斯公司 | 用于薄晶片处理的可移动真空载具 |
| US9966293B2 (en) * | 2014-09-19 | 2018-05-08 | Infineon Technologies Ag | Wafer arrangement and method for processing a wafer |
| WO2016092700A1 (ja) * | 2014-12-12 | 2016-06-16 | キヤノン株式会社 | 基板保持装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法 |
| US10699934B2 (en) | 2015-10-01 | 2020-06-30 | Infineon Technologies Ag | Substrate carrier, a processing arrangement and a method |
| US9917000B2 (en) * | 2015-10-01 | 2018-03-13 | Infineon Technologies Ag | Wafer carrier, method for manufacturing the same and method for carrying a wafer |
| US10236203B2 (en) * | 2015-10-29 | 2019-03-19 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus substrate table and method of loading a substrate |
| JP6725326B2 (ja) * | 2016-06-03 | 2020-07-15 | 日本特殊陶業株式会社 | 真空チャック及び真空チャックの製造方法 |
| KR101926726B1 (ko) * | 2018-06-28 | 2018-12-07 | 주식회사 기가레인 | 부산물 증착 문제가 개선된 립실 및 이를 포함하는 반도체 공정 장치 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2133518A (en) * | 1937-08-20 | 1938-10-18 | William C Huebner | Vacuum holder |
| US2983638A (en) * | 1958-02-05 | 1961-05-09 | Du Pont | Laminating blanket |
| US2936139A (en) * | 1959-04-08 | 1960-05-10 | Oscar L Lindstrom | Resilient non-skid supporting shoes with suction cup |
| JPS5037892Y2 (nl) * | 1971-01-27 | 1975-11-04 | ||
| JPS50155472U (nl) * | 1974-06-12 | 1975-12-23 | ||
| SE444526B (sv) * | 1978-01-23 | 1986-04-21 | Western Electric Co | Sett att i lege och plan placera en substratbricka |
| SU829536A1 (ru) * | 1979-07-30 | 1981-05-15 | Предприятие П/Я А-1813 | Пневматический захват |
| US4530635A (en) * | 1983-06-15 | 1985-07-23 | The Perkin-Elmer Corporation | Wafer transferring chuck assembly |
-
1987
- 1987-07-08 NL NL8701603A patent/NL8701603A/nl not_active Application Discontinuation
-
1988
- 1988-03-14 US US07/167,812 patent/US4856766A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-07-05 KR KR2019880010922U patent/KR940003291Y1/ko not_active IP Right Cessation
- 1988-07-06 EP EP88201409A patent/EP0298564B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-07-06 DE DE8888201409T patent/DE3874981T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-07-07 JP JP1988089540U patent/JPH07446Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07446Y2 (ja) | 1995-01-11 |
| DE3874981T2 (de) | 1993-04-15 |
| EP0298564B1 (en) | 1992-09-30 |
| JPS6426648U (nl) | 1989-02-15 |
| KR940003291Y1 (ko) | 1994-05-19 |
| US4856766A (en) | 1989-08-15 |
| DE3874981D1 (de) | 1992-11-05 |
| EP0298564A1 (en) | 1989-01-11 |
| KR890003634U (ko) | 1989-04-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| NL8701603A (nl) | Vacuuminrichting voor het vastzuigen van werkstukken. | |
| US5704827A (en) | Polishing apparatus including cloth cartridge connected to turntable | |
| US20110097484A1 (en) | Lens holding tool, lens holding method, and lens processing method | |
| US20040074525A1 (en) | Transfer apparatus and method and a transfer apparatus cleaner and method | |
| JPH11309638A (ja) | 真空吸着盤 | |
| JP4002076B2 (ja) | マスクを用いたスピンコーティング装置およびスピンコーティング用マスク | |
| EP0790608B1 (en) | Rotary holding table for developing an adhesive | |
| EP0773372B1 (en) | Rotation holding table for rotating and holding a storage disc thereon and a boss thereof | |
| NL9002517A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een optisch uitleesbare plaat, alsmede inrichting voor de uitvoering van de werkwijze. | |
| JP4568366B2 (ja) | スタンパの成形方法 | |
| JP4051125B2 (ja) | ウェーハの接着装置 | |
| JP2517025B2 (ja) | 半導体ウェハ・マウンタ | |
| JP3593599B2 (ja) | 記憶ディスクにおけるバリの処理方法及びその装置 | |
| US6183577B1 (en) | Method and apparatus for manufacturing an optical information medium | |
| JP3466387B2 (ja) | 成膜方法および成膜装置 | |
| JPH01101386A (ja) | ウェーハの接着方法 | |
| CN211465912U (zh) | 一种可调节的抛头机构 | |
| JPH09167385A (ja) | ２ｐ成形装置 | |
| EP1795333A2 (en) | Optical disk production method, spin coating apparatus and optical disk production apparatus | |
| NL1007418C2 (nl) | Inrichting voor het vlak positioneren van een schijfvormig substraat alsmede een dergelijke werkwijze. | |
| JPH0668526A (ja) | ディスク基板の搬送装置 | |
| JPH10134423A (ja) | 保持台からの記憶ディスクの取り上げ方法及びその装置 | |
| JPH0620092B2 (ja) | 半導体ペレットのダイボンディング用チャック装置 | |
| CN111216288A (zh) | 微流道模具表面处理方法及微流道芯片的制作方法 | |
| EP1561576B1 (en) | Correcting stage, apparatus and method for laminating and laminated recording medium |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A1B | A search report has been drawn up | ||
| BV | The patent application has lapsed |