NL1007418C2 - Inrichting voor het vlak positioneren van een schijfvormig substraat alsmede een dergelijke werkwijze. - Google Patents

Inrichting voor het vlak positioneren van een schijfvormig substraat alsmede een dergelijke werkwijze. Download PDF

Info

Publication number
NL1007418C2
NL1007418C2 NL1007418A NL1007418A NL1007418C2 NL 1007418 C2 NL1007418 C2 NL 1007418C2 NL 1007418 A NL1007418 A NL 1007418A NL 1007418 A NL1007418 A NL 1007418A NL 1007418 C2 NL1007418 C2 NL 1007418C2
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
substrate
support
vacuum suction
clamping means
gripper
Prior art date
Application number
NL1007418A
Other languages
English (en)
Inventor
Jacob De Boer
Petrus Johannes Mari Goudsmits
Original Assignee
Od & Me Bv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Od & Me Bv filed Critical Od & Me Bv
Priority to NL1007418A priority Critical patent/NL1007418C2/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL1007418C2 publication Critical patent/NL1007418C2/nl

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6838Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25BTOOLS OR BENCH DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR, FOR FASTENING, CONNECTING, DISENGAGING OR HOLDING
    • B25B11/00Work holders not covered by any preceding group in the subclass, e.g. magnetic work holders, vacuum work holders
    • B25B11/002Magnetic work holders
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25BTOOLS OR BENCH DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR, FOR FASTENING, CONNECTING, DISENGAGING OR HOLDING
    • B25B11/00Work holders not covered by any preceding group in the subclass, e.g. magnetic work holders, vacuum work holders
    • B25B11/005Vacuum work holders
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C33/00Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
    • B29C33/30Mounting, exchanging or centering
    • B29C33/305Mounting of moulds or mould support plates
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/707Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B23/00Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
    • G11B23/0057Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29LINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
    • B29L2017/00Carriers for sound or information
    • B29L2017/001Carriers of records containing fine grooves or impressions, e.g. disc records for needle playback, cylinder records
    • B29L2017/003Records or discs
    • B29L2017/005CD''s, DVD''s

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Description

Korte aanduiding: Inrichting voor het vlak positioneren van een schijf vormig substraat alsmede een dergelijke werkwijze.
De uitvinding heeft betrekking op een inrichting voor 5 het vlak positioneren van een schijfvormig substraat tegen een ondersteuning, waarbij de ondersteuning is voorzien van klemmiddelen en vacuüm aanzuigmiddelen, waarbij met behulp van de klemmiddelen de buitenrand van het substraat en met behulp van de vacuüm aanzuigmiddelen het midden van het substraat tegen de ondersteuning klembaar is.
10 De uitvinding heeft tevens betrekking op een werkwijze voor het vlak positioneren van een schijfvormig substraat, waarbij het schijfvormige substraat nabij een vlakke ondersteuning wordt gebracht, vervolgens in een dwars op de vlakke ondersteuning uitstrekkende richting naar de ondersteuning toe wordt verplaatst en daarna met klemmiddelen en 15 vacuüm aanzuigmiddelen tegen de ondersteuning wordt geklemd, waarbij het substraat langs de buitenrand met behulp van de klemmiddelen tegen de ondersteuning aan wordt geklemd, en met behulp van de vacuüm aanzuigmiddelen het midden van het substraat tegen de ondersteuning aan wordt getrokken.
20 Bij een dergelijke, uit het Amerikaanse octrooi US-A-3.608.909 bekende inrichting en werkwijze wordt een grammofoonplaat vlak tegen een ondersteuning aangetrokken. De klemmiddelen omvatten haakvormige elementen welke aan een van de ondersteuning afgekeerde zijde tegen de grammofoonplaat aan worden gedrukt.
25 Indien een dergelijke inrichting zal worden gebruikt voor het uitvoeren van bepaalde bewerkingen op een schijfvormig substraat, kunnen deze bewerkingen zich niet uitstrekken over dat gedeelte van het substraat waartegen de grijpmiddelen aanliggen.
De uitvinding beoogt een inrichting te verschaffen 30 waarbij een substraat op eenvoudige wijze vlak gepositioneerd tegen een ondersteuning kan worden geklemd terwijl de van de ondersteuning afgekeerde zijde van het substraat geheel vrij is.
Dit doel wordt bij de inrichting volgens de uitvinding bereikt doordat de klemmiddelen tenminste een magneet omvatten, terwijl 35 het substraat magnetiseerbaar is.
Met behulp van een magneet is de buitenrand van een 1007418 2 magnetiseerbaar substraat eenvoudig tegen de ondersteuning aan te klemmen. Een dergelijke inrichting is met name geschikt voor het positioneren van bijvoorbeeld nikkel omvattende substraten die voor de fabricage van matrijzen voor schijfvormige registratiedragers zoals CD-s, CD-ROM’s en 5 dergelijke worden gebruikt.
Bij het aanbrengen van een substraat op de ondersteuning wordt met behulp van de klemmiddelen de buitenrand van het substraat tegen de ondersteuning aangetrokken. Indien het substraat concaaf is ligt het midden van het substraat reeds tegen de ondersteuning aan en zal door de 10 klemmiddelen de buitenrand van het substraat tegen de ondersteuning aan worden getrokken. Indien het substraat convex is wordt door het met behulp van de klemmiddelen uitoefenen van een klemkracht op de buitenrand van het substraat ook het midden van het substraat tegen de ondersteuning aangetrokken waarna met behulp van de vacuüm aanzuigmiddelen een verdere 15 klemkracht op het midden van het substraat wordt uitgeoefend. Met name bij schijfvormige substraten die (nog) niet zijn voorzien van een centrale doorgang wordt op deze wijze een uitstekende vlakke klemming van het substraat tegen de ondersteuning verkregen. Ook bij substraten die reeds zijn voorzien van een centrale doorgang kan op deze wijze het substraat 20 tegen de ondersteuning aan worden getrokken.
Opgemerkt wordt verder dat uit de Europese octrooiaanvrage EP-A1-0.770.467 een inrichting en werkwijze bekend zijn, waarbij een matrijsdeel vormend substraat in een spuitgietmachine tegen een ondersteuning wordt geklemd. De vlakheid van de met de spuitgietmachine 25 te vervaardigen producten hangt in grote mate af van de vlakheid van het substraat in de spuitgietmachine. Bij de bekende inrichting is de ondersteuning voorzien van een centrale as die zich dwars door een gat in het middelpunt van het ringvormige substraat heen uitstrekt. De inrichting is verder voorzien van een om de centrale as gelegen ringvormige 30 permanentmagneet en om de permanentmagneet heen gelegen vacuüm aanzuigmiddelen. Met behulp van de permanentmagneet wordt het midden van het substraat tegen de ondersteuning getrokken, terwijl met de daaromheen uitstrekkende vacuüm aanzuigmiddelen de buitenrand van het substraat tegen de ondersteuning wordt getrokken. Vacuüm aanzuigmiddelen kunnen pas een 35 klemkracht op het substraat uitoefenen op het moment dat de afstand tussen het substraat en de vlakke ondersteuning nagenoeg nihil is. Dit heeft als t "7 ^ 3 nadeel dat als bij het aanbrengen van het substraat tegen de ondersteuning het substraat een concave vorm heeft, alleen het midden tegen de ondersteuning aanligt en de buitenrand op afstand van de ondersteuning ligt, waarbij met behulp van de vacuüm aanzuigmiddelen het substraat niet 5 tegen de ondersteuning kan worden aangetrokken.
Een andere uitvoeringsvorm van de inrichting volgens de uitvinding wordt gekenmerkt doordat de klemmiddelen een aandrukring omvatten.
Met behulp van de aandrukring wordt vanaf een van de 10 ondersteuning afgekeerde zijde een aandrukkracht op de buitenrand van het substraat uitgeoefend. Vervolgens wordt met behulp van de vacuüm aanzuigmiddelen het midden van het substraat tegen de ondersteuning aangetrokken.
Het is uiteraard ook mogel ijk om voor een relatief grote 15 klemkracht gebruik te maken van zowel een aandrukring voor het uitoefenen van aandrukkrachten op het substraat en een magneet voor het uitoefenen van aantrekkrachten op het substraat.
De uitvinding beoogt tevens een werkwijze te verschaffen waarbij de nadelen van de bekende werkwijze worden voorkomen.
20 Dit doel wordt bij de werkwijze volgens de uitvinding bereikt doordat het substraat langs de buitenrand met behulp van de klemmiddelen tegen de ondersteuning aan wordt geklemd, waarna met behulp van de vacuüm aanzuigmiddelen het midden van het substraat tegen de ondersteuning aan wordt getrokken.
25 Met behulp van de klemmiddelen wordt zowel bij een convex, vlak als concaaf gevormd substraat de buitenrand stevig tegen de ondersteuning aangedrukt. Vervolgens wordt met behulp van de vacuüm aanzuigmiddelen het midden van het substraat tegen de ondersteuning aangetrokken en ligt het substraat in een vlakke vorm tegen de ondersteu-30 ning aan.
De uitvinding zal nader worden toegelicht aan de hand van de tekeningen, waarin fig. 1 een bovenaanzicht toont van een apparaat voorzien van een inrichting volgens de uitvinding, 35 fig. 2 een grijper volgens de uitvinding toont, fig. 3-5 het vlak positioneren van een substraat op 1007418 4 een ondersteuning volgens de uitvinding tonen, fig. 6A-I verschillende processtappen tonen van het bewerken van een substraat met het in fig. 1 weergegeven apparaat, fig. 7 een dwarsdoorsnede toont van de in fig. 3 5 weergegeven ondersteuning, fig. 8 een dwarsdoorsnede toont van een deel van de in fig. 7 weergegeven ondersteuning, fig. 9 een dwarsdoorsnede toont van een andere ondersteuning volgens de uitvinding, 10 fig. 10 een uitvergroot gedeelte van een deel van de in fig. 9 weergegeven ondersteuning toont, fig. 11 de in fig. 9 weergegeven ondersteuning toont alsmede een aandrukring volgens de uitvinding.
In de figuren zijn overeenkomende onderdelen voorzien 15 van eenzelfde verwijzingscijfer.
Fig. 1 toont een apparaat 1 volgens de uitvinding voor het bewerken van een schijfvormig substraat op een wijze die in grote lijnen overeenkomt met de werkwijze zoals beschreven in de Europese octrooiaanvrage EP-A1-0.667.608 van aanvraagster.
20 Het in bovenaanzicht weergegeven apparaat 1 omvat drie cassettes 2, 3, 4 die elk zijn voorzien van een aantal boven elkaar gelegen schijfvormige substraten 5. De cassettes 2, 3 zijn voorzien van nog te bewerken substraten 5 terwijl de cassette 4 is voorzien van de substraten die de in apparaat 1 uit te voeren bewerkingen reeds hebben ondergaan.
25 Het apparaat 1 is verder voorzien van een grijper 6 die met behulp van op zich bekende transportmiddelen verplaatsbaar is in X-, Y- en Z-richting als mede zwenkbaar is in (D-richting.
Het apparaat 1 is verder voorzien van een op zich bekende laserbundel recorder 7, waarin een ondersteuning 8 volgens de 30 uitvinding is voorzien. De ondersteuning 8 is voorzien van een ringvormige permanentmagneet 9 en daarbinnen gelegen vacuüm aanzuigmiddelen 10.
Het apparaat 1 is verder voorzien van een centreereen-heid 11 die ten opzichte van een middelpunt 12 drie schuin omhoog uitstrekkende pennen 13 omvat.
35 Het apparaat 1 is verder voorzien van twee verwarmings- eenheden 14, 15 die elk zijn voorzien van een verwarmbare ondersteuning 1001ζ· ' 5 16, 17.
De verwarmingseenheden 14, 15 zijn voorzien van een aantal op een cirkel gelegen magneten en daarbinnen gelegen vacuüm aanzuigmiddelen.
5 Het apparaat 1 is verder voorzien van een ontwikkel en belichtingsinrichting 18 die een cirkelvormige ontwikkelkamer 19 en een om een zich in Z-richting uitstrekkende zwenkas 20 zwenkbaar gelagerde belichtingseenheid 21 met twee lampen 22 omvat.
Het apparaat 1 is verder voorzien van een UV-10 belichtingseenheid 23.
De ontwikkelkamer 19 en de UV-belichtingseenheid 23 zijn voorzien van cirkel vormige ondersteuningen 8 die elk een ringvormige magneet 10 en daarbinnen gelegen vacuüm aanzuigmiddelen 9 omvatten.
Fig. 2 toont een grijper 6 volgens de uitvinding die 15 is voorzien van een met de transportmiddelen (niet weergegeven) verbonden pl aatvormige drager 24 en een evenwijdig daaraan uitstrekkende pl aatvormige schijf 25 die is voorzien van een aantal groeven 26 waarin vacuüm kan worden aangebracht.
Onder vacuüm wordt een onderdruk verstaan die voldoende 20 is om het substraat 5 met voldoende kracht te kunnen aantrekken tegen de schijf 25 of de ondersteuning 8.
Fig. 3 toont een ondersteuning 8 die is voorzien van een conisch gevormde voet 27 die aan een zich horizontaal uitstrekkend bovenvlak 28 is voorzien van een magnetische ring 9 en daarbinnen gelegen 25 vacuüm aanzuigmiddelen 10. De vacuüm aanzuigmiddelen 10 omvatten in het bovenvlak 28 gelegen cirkel vormige groeven 40 (zie fig. 7, 8) die op een vacuümpomp (niet weergegeven) zijn aangesloten. Om de conisch gevormde voet 27 is een ringvormige drager 29 gelegen die aan de bovenzijde is voorzien van zes regelmatig langs de omtrek verdeelde pennen 30. Elke 30 pen 30 is aan een van de drager afgekeerde zijde voorzien van een magneet 31. De ringvormige drager 29 is met behulp van een flens 32 verbonden met een verplaatsingsinrichting (niet weergegeven) met behulp waarvan de ringvormige drager 29 in Z-richting verplaatsbaar is.
De werking van het apparaat 1, de grijper 6 en de 35 ondersteuning 8 zal nu beknopt worden toegelicht, waarbij aan de hand van fig. 6 de verschillende processtappen zullen worden beschreven.
6
In de cassettes 3 worden substraten 5 aangeleverd die zijn voorzien van een nikkel omvattende basisplaat 33 (fig. 6A) en een daarop aangebrachte, negatief werkende fotoresistlaag 34 (fig. 6B). De fotoresistlaag is buiten het apparaat 1 gedroogd (fig. 6C).
5 De grijper 6 wordt vanuit de in fig. 1 weergegeven stand in een door pijl PI aangegeven richting in de cassette 2 verplaatst tot onder een substraat 5. Vervolgens wordt de grijper 6 in opwaartse richting verplaatst totdat het substraat 5 op de flens 25 ligt, waarna met behulp van de vacuüm aanzuigmiddelen 26 op het midden van het substraat 5 een 10 klemkracht wordt uitgeoefend.
Vervolgens wordt de grijper 6 met het daarop gelegen substraat 5 in een aan pijl PI tegengestelde richting verplaatst, gezwenkt over 180° in een door pijl P2 aangegeven richting, in X-richting verplaatst in een door pijl P3 aangegeven richting tot nabij de centreerinrichting 15 en in een door pijl P4 aangegeven richting boven de centreerinrichting 11 gebracht. Het vacuüm wordt tijdelijk uitgezet. De pennen 13 worden naar het midden 12 toe gekanteld waarbij de buitenrand van het substraat 5 in aanraking komt met de schuin naar beneden en naar het midden 12 toelopende pennen 13. Tengevolge van deze aanraking met de pennen 13 wordt het 20 substraat 5 ten opzichte van de pennen 13 en het centrum 12 gecentreerd. Het substraat 5 ondergaat hierbij een geringe verplaatsing ten opzichte van de grijper 6. Vervolgens wordt het vacuüm weer aangezet en de pennen 13 worden weer naar buiten gekanteld. Na het centreren van het substraat 5 in de centreerinrichting 11 wordt de grijper 6 samen met het substraat 5 25 in een aan pijl P4 tegengestelde richting verplaatst, over 90° in een aan pijl P2 tegengestelde richting geroteerd en in een door pijl P3 aangegeven richting verplaatst totdat de grijper 6 met het daarop gelegen substraat 5 de ondersteuning 8 in de laserbundel recorder 7 bereikt. Tijdens het naderen van de ondersteuning 8 wordt de ringvormige drager 29 met behulp van 30 flens 32 in een door pijl P5 aangegeven richting omhoog verplaatst tengevolge waarvan de magneten 31 boven het bovenvlak 28 van de conische voet 27 komen te liggen.
Zodra het substraat 5 boven de pennen 30 is gelegen wordt de grijper 6 in een aan pijl P5 tegengestelde, neerwaartse richting 35 verplaatst tengevolge waarvan het substraat 5 op de pennen 30 komt te liggen. Het vacuüm van de vacuüm aanzuigmiddelen 26 is hierbij uitgescha- 1007418 7 keld. Het substraat 5 wordt hierbij door de magneten 31 stevig vastgeklemd waardoor de met de grijper 6 bepaalde gecentreerde positie van het substraat 5 ten opzichte van de ondersteuning 8 gewaarborgd blijft. De grijper 6 wordt vervolgens in een aan pijl P3, door pijl P6 aangegeven 5 richting onder het substraat 5 vandaan verplaatst, zoals is weergegeven in fig. 5. Daarna wordt de flens 32 in een aan pijl P5 tegengestelde richting verplaatst waardoor het substraat 5 op het bovenvlak 28 komt te liggen en onmiddellijk door de ringvormige magneet 9 tegen het bovenvlak 28 wordt aangetrokken. De vacuüm aanzuigmiddelen 10 zijn dan inmiddels ook 10 geactiveerd waardoor tevens het midden van het substraat 5 tegen het bovenvlak 28 wordt aangetrokken. Op de hier beschreven wijze wordt een positie van het substraat 5 ten opzichte van de grijper 6 eenduidig overgenomen op het bovenvlak 28 van de conische voet 27.
Nadat het substraat 5 nauwkeurig op de ondersteuning 15 is gepositioneerd en met behulp van de ringvormige magneet en vacuüm aanzuigmiddelen 10 vlak tegen het bovenvlak 28 van de voet 27 is aangetrokken, wordt met behulp van de laserbundel recorder 7 de gewenste gedeeltes 35 van de fotogevoelige laag 34 belicht (fig. 6D).
Vervolgens worden de vacuüm aanzuigmiddelen 10 20 gedeactiveerd, waarna met behulp van de ringvormige drager 29 en de daarop bevestigde pennen 30 het substraat 5 in een door pijl P5 aangegeven richting wordt verplaatst, de grijper 6 onder het substraat 5 wordt gepositioneerd en de vacuüm aanzuigmiddelen 26 worden geactiveerd. Na het laten zakken van de ringvormige drager 29 is het substraat 5 wederom op 25 de grijper 6 gelegen en wordt uit de laserbundel recorder 7 verwijderd. Het substraat 5 wordt met behulp van de grijper 6 vervolgens naar de verwarmingseenheid 16 gebracht alwaar op een wijze overeenkomend met de wijze zoals beschreven bij de laserbundel recorder 7 het substraat 5 op een ondersteuning 8 wordt gepositioneerd. De verwarmingsinrichting 16 is 30 verder voorzien van een aandrukring (zie fig. 11). Met behulp van de aandrukring, waarvan de diameter bij voorkeur overeenkomt met de diameter van de ring van magneten, wordt het substraat 5 vanaf een van de ondersteuning 8 afgekeerde zijde stevig tegen de ondersteuning 8 aangedrukt. Nadat is waargenomen dat met behulp van de vacuüm aanzuigmidde-35 len het substraat stevig tegen de ondersteuning is aangezogen, wordt de aandrukring verwijderd. Met behulp van de aandrukring worden eventuele 1ΓΦ · · ·'* 1 <. Λ * 8 vervormingen ten gevolge van het opwarmen van het substraat volledig voorkomen. Het verwarmen van het substraat met de belichte gedeeltes 35 is weergegeven in fig. 6E. Nadat het substraat 5 is verwarmd wordt met behulp van de grijper 6 het substraat 5 boven de ontwikkelkamer 19 5 gebracht, alwaar het substraat 5 wederom op een ondersteuning 8 wordt gepositioneerd. Vervolgens wordt de belichtingseenheid 21 in een door pijl P7 aangegeven richting om de zwenkas 20 tot boven het substraat 5 gezwenkt waarna met behulp van de lampen 22 het gehele substraat 5 wordt belicht (fig. 6F). Na het in een aan pijl P7 tegengestelde richting zwenken 10 van de bel ichtingseenheid 21 wordt de fotogevoel ige laag 34 in de ontwikkelkamer 19 ontwikkeld (fig. 6G).
Na het ontwikkelen van de fotogevoel ige laag wordt het substraat 5 met behulp van de grijper 6 in de UV-belichtingsinrichting 23 gebracht en wederom op een ondersteuning 8 gepositioneerd. In de 15 inrichting 23 wordt het thans belichte en ontwikkelde deel van de fotogevoelige laag 35 met behulp van diepe UV-stralen 36 bestraald (fig. 6H) tengevolge waarvan de randen 37 van de delen 35 worden uitgehard.
Vervolgens wordt het substraat 5 in de verwarmingsinrichting 17 gebracht alwaar de gedeeltes 35 worden verwarmd en volledig 20 worden uitgehard (fig. 61). De inrichting 17 is evenals de inrichting 16 voorzien van een in Z-richting verplaatsbare aandrukring met behulp waarvan het substraat 5 stevig tegen de ondersteuning 8 wordt aangedrukt zodat kromtrekken van het substraat 5 volledig wordt voorkomen.
Na de verwarmingsinrichting 17 wordt het substraat 5 25 met behulp van de grijper 6 naar de cassette 4 verplaatst, welke cassette 4 na geheel of gedeeltelijk te zijn gevuld uit het apparaat 1 wordt verwijderd.
Fig. 7 en 8 tonen dwarsdoorsnedes van de in fig. 3 weergegeven ondersteuning 8 waarbij met name de magnetische ring 9 en de 30 daarbinnen gelegen vacuüm aanzuigmiddelen 10 duidelijk zijn weergegeven. De vacuüm aanzuigmiddelen 10 omvatten in het bovenvlak 28 gelegen cirkel vormige groeven 40 die met op zich bekende middelen op een vacuümpomp zijn aangesloten.
Fig. 9-11 tonen respectievelijk een dwarsdoorsnede, 35 een in dwarsdoorsnede uitvergroot detail en het gebruik van de aandrukring volgens een andere uitvoeringsvorm van een ondersteuning 41 volgens de 1007418 9 uitvinding. Een dergelijke ondersteuning is met name geschikt voor toepassing bij de verwarmingsinrichtingen 16, 17. De ondersteuning 41 is voorzien van zes in een cirkel opgestelde magneetjes 42 die in een ondersteuningsplaat 43 zijn aangebracht. De ondersteuningsplaat 43 is 5 verder voorzien van een aantal cirkelvormige groeven 40 die op vacuüm kanalen 44 zijn aangesloten. De ondersteuningsplaat 43 is met op zich bekende middelen verwarmbaar tot een gewenste temperatuur. Het gebruik van afzonderlijke losse magneetjes 42 verdient hierbij de voorkeur om uitzettingsverschillen tussen de afzonderlijke onderdelen van de 10 ondersteuning 41 te kunnen ondervangen. Om de ondersteuningsplaat 43 is een ringvormige drager 29 met daarop bevestigde pennen 30 en magneten 31 gelegen, welke met behulp van een flens 32 in en tegengesteld aan een door pijl P5 aangegeven richting verplaatsbaar is.
Fig. 11 toont de in fig. 9 weergegeven ondersteuning 41 15 met een daarbij behorende aandrukring 45. De aandrukring 45 is met behulp van een ringvormige schijf 46 en een daaraan bevestigde flens 47 verbonden met een verplaatsingsinrichting (niet weergegeven) met behulp waarvan de aandrukringen 45 in en tegengesteld aan een door pijl P8 aangegeven richting verplaatsbaar is. Bij het op de ondersteuningsplaat 43 aanbrengen 20 van het substraat 5 wordt door de magneten 42 en het in de groeven 40 voorziene vacuüm een aantrekkracht op het substraat 5 uitgeoefend. Om een vlakke positionering van het substraat 5 op de verwarmbare ondersteuning 43 te garanderen wordt de aandrukring 45 in een aan pijl P8 tegengestelde richting naar de ondersteuning 43 toe verplaatst waarbij de aandrukring 45 25 het substraat 5 tegen de ondersteuningsplaat 43 aandrukt. Bij voorkeur heeft de aandrukring 45 een diameter die overeenkomt met de diameter van de ring waarop de magneten 42 zijn gelegen, waardoor de door de aandrukring 45 uitgeoefende aandrukkrachten de door de magneten 42 op het substraat 5 uitgeoefende aantrekkrachten worden versterkt.
30 Het is ook mogelijk dat de grijper 6 niet in Z-richting verplaatsbaar is, in welk geval andere delen van het apparaat een Z-verplaatsing dienen te ondergaan.
tCO·/'-:: -

Claims (11)

1. Inrichting voor het vlak positioneren van een schijfvormig substraat tegen een ondersteuning, waarbij de ondersteuning 5 is voorzien van klemmiddelen en vacuüm aanzuigmiddelen, waarbij met behulp van de klemmiddelen de buitenrand van het substraat en met behulp van de vacuüm aanzuigmiddelen het midden van het substraat tegen de ondersteuning klembaar is, met het kenmerk, dat de klemmiddelen tenminste een magneet omvatten, terwijl het substraat magnetiseerbaar is.
2. Inrichting volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de magneet een magnetische ring of een aantal op een cirkel gelegen magneten omvat.
3. Inrichting volgens conclusie 1 of 2, met het kenmerk, dat het magnetiseerbare substraat zacht magnetiseerbaar materiaal, bij 15 voorkeur nikkel omvat.
4. Inrichting volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat de klemmiddelen verder een aandrukring omvatten.
5. Inrichting volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat de ondersteuning is omringd door een aantal, van magneten 20 voorziene pennen, die in een dwars op de vlakke ondersteuning uitstrekkende richting verplaatsbaar zijn van een eerste positie waarin de magneten boven de ondersteuning zijn gelegen naar een tweede positie waarin de magneten onder de ondersteuning zijn gelegen en vice versa.
6. Inrichting volgens een der voorgaande conclusies, met 25 het kenmerk, dat de inrichting is voorzien van een onder vacuüm werkende grijper met behulp waarvan het substraat van en naar de ondersteuning toe verplaatsbaar is.
7. Inrichting volgens conclusie 6, met het kenmerk, dat de inrichting is voorzien van een centreereenheid waarin het substraat 30 ten opzichte van de grijper centreerbaar is.
8. Werkwijze voor het vlak positioneren van een schijfvormig substraat, waarbij het schijfvormige substraat nabij een vlakke ondersteuning wordt gebracht, vervolgens in een dwars op de vlakke ondersteuning uitstrekkende richting naar de ondersteuning toe wordt 35 verplaatst en daarna met klemmiddelen en vacuüm aanzuigmiddelen tegen de ondersteuning wordt geklemd, waarbij het substraat langs de buitenrand 1007418 met behulp van de klemmiddelen tegen de ondersteuning aan wordt geklemd, en met behulp van de vacuüm aanzuigmiddelen het midden van het substraat tegen de ondersteuning aan wordt getrokken, met het kenmerk, dat met behulp van de klemmiddelen magnetische krachten op de buitenrand van het 5 magnetiseerbare substraat worden uitgeoefend.
9. Werkwijze volgens conclusie 8, met het kenmerk, dat het magnetiseerbare substraat is vervaardigd van zacht magnetiseerbaar materiaal, bij voorkeur nikkel.
10. Werkwijze volgens conclusie 8 of 9, met het kenmerk, 10 dat met behulp van de een aandrukring omvattende klemmiddelen aandrukkrach- ten op de buitenrand van het substraat worden uitgeoefend.
11. Werkwijze volgens een der conclusies 8-10, met het kenmerk, dat het substraat met behulp van een grijper nabij de ondersteuning wordt gebracht, waarbij de met de grijper ingestelde positie van het 15 substraat eenduidig door de ondersteuning wordt overgenomen. a f- . .
NL1007418A 1997-11-03 1997-11-03 Inrichting voor het vlak positioneren van een schijfvormig substraat alsmede een dergelijke werkwijze. NL1007418C2 (nl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1007418A NL1007418C2 (nl) 1997-11-03 1997-11-03 Inrichting voor het vlak positioneren van een schijfvormig substraat alsmede een dergelijke werkwijze.

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1007418A NL1007418C2 (nl) 1997-11-03 1997-11-03 Inrichting voor het vlak positioneren van een schijfvormig substraat alsmede een dergelijke werkwijze.
NL1007418 1997-11-03

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL1007418C2 true NL1007418C2 (nl) 1999-05-04

Family

ID=19765933

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL1007418A NL1007418C2 (nl) 1997-11-03 1997-11-03 Inrichting voor het vlak positioneren van een schijfvormig substraat alsmede een dergelijke werkwijze.

Country Status (1)

Country Link
NL (1) NL1007418C2 (nl)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017198697A1 (en) * 2016-05-17 2017-11-23 Koninklijke Philips N.V. Plasma fill sensor

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3608909A (en) * 1969-11-03 1971-09-28 Jacob Rabinow Record-flattening turntable
JPS6163926A (ja) * 1984-09-05 1986-04-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 円盤状記録担体金型クランプ装置
DE8502555U1 (de) * 1985-01-31 1987-02-19 Modellbau Paul Apitz, 7913 Senden Spannvorrichtung für Werkstücke an einer Werkzeugmaschine
EP0302561A2 (de) * 1987-08-07 1989-02-08 Philips and Du Pont Optical Deutschland GmbH Saughaltevorrichtung zum Halten eines plattenförmigen Informationsträgers beim Abspielvorgang
US5564682A (en) * 1993-08-13 1996-10-15 Kabushiki Kaisha Toshiba Wafer stage apparatus for attaching and holding semiconductor wafer
EP0770467A1 (en) * 1995-10-25 1997-05-02 SEIKOH GIKEN Co., Ltd. Means for holding stamper plate in molding metal die
EP0782911A2 (en) * 1995-11-28 1997-07-09 SEIKOH GIKEN Co., Ltd. Stamper plate attaching/detaching device of injection mold for optical disc substrate

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3608909A (en) * 1969-11-03 1971-09-28 Jacob Rabinow Record-flattening turntable
JPS6163926A (ja) * 1984-09-05 1986-04-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 円盤状記録担体金型クランプ装置
DE8502555U1 (de) * 1985-01-31 1987-02-19 Modellbau Paul Apitz, 7913 Senden Spannvorrichtung für Werkstücke an einer Werkzeugmaschine
EP0302561A2 (de) * 1987-08-07 1989-02-08 Philips and Du Pont Optical Deutschland GmbH Saughaltevorrichtung zum Halten eines plattenförmigen Informationsträgers beim Abspielvorgang
US5564682A (en) * 1993-08-13 1996-10-15 Kabushiki Kaisha Toshiba Wafer stage apparatus for attaching and holding semiconductor wafer
EP0770467A1 (en) * 1995-10-25 1997-05-02 SEIKOH GIKEN Co., Ltd. Means for holding stamper plate in molding metal die
EP0782911A2 (en) * 1995-11-28 1997-07-09 SEIKOH GIKEN Co., Ltd. Stamper plate attaching/detaching device of injection mold for optical disc substrate

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 010, no. 229 (P - 485) 8 August 1986 (1986-08-08) *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017198697A1 (en) * 2016-05-17 2017-11-23 Koninklijke Philips N.V. Plasma fill sensor
CN109154557A (zh) * 2016-05-17 2019-01-04 皇家飞利浦有限公司 血浆填充传感器

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0833315B1 (en) Method of correcting nonalignment of a storage disc
JP3916677B2 (ja) コンパクトディスクを仮付け硬化する組立ライン
JP3618057B2 (ja) 光学素子の製造装置
JP2001515637A (ja) 光学的情報記録を作る方法と装置
EP0576253B1 (en) Disc loading device
NL1007418C2 (nl) Inrichting voor het vlak positioneren van een schijfvormig substraat alsmede een dergelijke werkwijze.
JP4577522B2 (ja) パターン転写装置及びパターン転写方法
EP0025387A1 (fr) Dispositif de moulage de disques porteurs d&#39;informations
JPH08293131A (ja) 光ディスクの製造方法
JP3777737B2 (ja) パターン形成基板の製造装置、及びパターン形成基板の製造方法
KR920010555A (ko) 광판독 디스크 제조방법 및 장치
JPH02166645A (ja) 光学的記録媒体用基板の製造方法
JP3232665B2 (ja) 光ディスク製造装置
JP2822251B2 (ja) ディスク基板製造装置
KR940001174B1 (ko) 스트레치된 표면을 지닌 기록매체
JP3703230B2 (ja) 保持台から記憶ディスクを取り上げる方法
JP4087158B2 (ja) 記録媒体の製造装置、及び記録媒体の製造方法
WO2006123507A1 (ja) 貼合装置及び貼合方法
JPH10134423A (ja) 保持台からの記憶ディスクの取り上げ方法及びその装置
JP2844667B2 (ja) 転写装置
JP3277989B2 (ja) 記憶ディスクにおけるズレ修正方法
JP2002260306A (ja) 光ディスクの製造方法および光ディスクの製造装置
JPH1064126A (ja) スタンパー用ホルダ
JP2004358888A (ja) 貼合装置及び貼合方法
JP3058958B2 (ja) ホログラムレンズの製造方法およびホログラムレンズの製造装置

Legal Events

Date Code Title Description
PD2B A search report has been drawn up
VD1 Lapsed due to non-payment of the annual fee

Effective date: 20020601