NL1003899C2 - Matrijs voor persen van een glazen substraat en gevormde glasplaat. - Google Patents

Matrijs voor persen van een glazen substraat en gevormde glasplaat. Download PDF

Info

Publication number
NL1003899C2
NL1003899C2 NL1003899A NL1003899A NL1003899C2 NL 1003899 C2 NL1003899 C2 NL 1003899C2 NL 1003899 A NL1003899 A NL 1003899A NL 1003899 A NL1003899 A NL 1003899A NL 1003899 C2 NL1003899 C2 NL 1003899C2
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
mold
metallic
pressing
glass plate
coating
Prior art date
Application number
NL1003899A
Other languages
English (en)
Other versions
NL1003899A1 (nl
Inventor
Yasuaki Sakamoto
Original Assignee
Yasuaki Sakamoto
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=24073252&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=NL1003899(C2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Yasuaki Sakamoto filed Critical Yasuaki Sakamoto
Publication of NL1003899A1 publication Critical patent/NL1003899A1/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL1003899C2 publication Critical patent/NL1003899C2/nl

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
    • C03B11/06—Construction of plunger or mould
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
    • C03B11/06—Construction of plunger or mould
    • C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
    • C03B11/084—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
    • C03B11/086—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor of coated dies
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B40/00—Preventing adhesion between glass and glass or between glass and the means used to shape it, hold it or support it
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
    • C23C16/0254—Physical treatment to alter the texture of the surface, e.g. scratching or polishing
    • C23C16/0263—Irradiation with laser or particle beam
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
    • C23C16/0272—Deposition of sub-layers, e.g. to promote the adhesion of the main coating
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
    • G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
    • G11B5/739—Magnetic recording media substrates
    • G11B5/73911—Inorganic substrates
    • G11B5/73913—Composites or coated substrates
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
    • G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
    • G11B5/739—Magnetic recording media substrates
    • G11B5/73911—Inorganic substrates
    • G11B5/73921—Glass or ceramic substrates
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2215/00—Press-moulding glass
    • C03B2215/02—Press-mould materials
    • C03B2215/08—Coated press-mould dies
    • C03B2215/14—Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
    • C03B2215/24—Carbon, e.g. diamond, graphite, amorphous carbon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2215/00—Press-moulding glass
    • C03B2215/40—Product characteristics
    • C03B2215/44—Flat, parallel-faced disc or plate products
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2215/00—Press-moulding glass
    • C03B2215/40—Product characteristics
    • C03B2215/45—Ring or doughnut disc products or their preforms
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
    • G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
    • G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
    • G11B11/10582—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

Korte aanduiding: Matrijs voor persen van een glazen substraat en gevormde glasplaat.
De uitvinding heeft betrekking op een metallische 5 matrijs voor het persen van een gevormd glazen substraat, te gebruiken bij een computergeheugen, waarbij een vereiste vlakheid is verzekerd, door het oppervlak van de metallische matrijs, vervaardigd uit een hard materiaal, te voorzien van een deklaag met koolstof. De uitvinding heeft verder betrekking op een gevormde glazen plaat te gebruiken als glazen 10 substraat voor een computergeheugen.
Tot nu toe worden in het algemeen harde schijven, vervaardigd uit een substraat van aluminium bedekt met magnetische materialen gebruikt. Omdat echter veel schuurbewerkingen zijn vereist ter verkrijging van een gespecificeerde ruwheid van het oppervlak op het 15 substraat van aluminium, zijn de produktiekosten hoog.
De doelstelling volgens de uitvinding is met het oog op het bovengestelde, matrijzen te verkrijgen waarmee het mogelijk is een speciale oppervlakteruwheid te bereiken en voor het vervaardigen van een substraat van glas voor onderdelen van een computergeheugen, samengeperst 20 met behulp van de persmatrijs door het uitvoeren van een efficiëntere bewerking en tegen lagere kosten.
De metallische matrijs volgens de uitvinding zoals in de aanhef vermeld wordt volgens de uitvinding hierdoor gekenmerkt dat het oppervlak van de metallische matrijs wordt geïnjecteerd met ionen en de 25 oppervlaktelaag wordt gemodificeerd, voor het aanbrengen van de koolstofhoudende deklaag.
Hoewel de metallische matrijs, voorzien van grafiet of koolstof van het amorfe type een zekere vlakheid heeft, wordt een stikstofion geïnjecteerd op het oppervlak van het zeer harde matrijsmate-30 riaal juist voor het aanbrengen van de koolstofhoudende deklaag en de oppervlaktelaag van de matrijs wordt zodoende gemodificeerd.
Door deze werkwijze wordt het mogelijk de hechting van de koolstof op de matrijs en de levensduur van de matrijs aanzienlijk te verlengen.
35 Volgens een de voorkeur verdienende uitvoeringsvorm wordt de ion-injectie uitgevoerd tot een minste een diepte van 0,5 μη\ van 1003899 2 het oppervlak en daarna wordt de koolstofhoudende deklaag uitgevoerd tot een dikte van 0,1-1 μτη op het met ionen geïnjecteerd oppervlak. Het oppervlak wordt zodanig behandeld dat de vlakheid hiervan een waarde bereikt van 2/1000-8/1000.
5 Verder worden volgens de uitvinding glasplaten vervaardigd te gebruiken als glazen substraat voor computergeheugens onder toepassing van de metallische matrijs waarvan het oppervlak is gemodificeerd door ion-injectie voordat de deklaag wordt aangebracht van koolstof zoals grafiet of amorfe diamant.
10 De uitvinding wordt nader toegelicht aan de hand van de volgende beschrijving, waarbij is verwezen naar de bijgevoegde tekening, waarbij:
Fig. 1(a) een bovenaanzicht weergeeft van een glazen substraat voor computergeheugen, gevormd onder toepassing van een 15 metallische matrijs volgens de uitvinding en
Fig. 1(b) geeft een zijaanzicht aan van de schijf weergegeven in figuur 1(a).
Een metallische matrijs vervaardigd uit een superhard materiaal, met een vlakheid van het oppervlak van meer dan 8/1000 wordt 20 gemodificeerd door het vormen van een Gauss-verdel ing op de oppervlaktelaag door ion-injectie zoals een atomair stikstofion voordat de deklaag wordt aangebracht van grafiet of koolstof van het amorfe diamanttype.
Een ion-geïnjecteerde laag wordt gevormd tot een diepte van ten minste 0,5 μτη van het oppervlak van een sunperharde legering door 25 ion-injectie en daarna wordt de koolstofhoudende deklaag aangebracht tot een diepte van 0,1-1 pm op de met ion-geïnjecteerde laag en de laatste laag van het oppervlak wordt afgevlakt om de gladheid te houden in het gebied van 2/1000-8/1000.
Door het gebruik van de metallische matrijs volgens 30 de uitvinding wordt het mogelijk een glazen substraat 1 te vervaardigen voor een computergeheugen zoals weergegeven in de tekening.
Bij de methode voor de ion-injectie wordt gebruik gemaakt van een ontlading bij hoge frequentie (105-107Hz) waarbij het mogelijk wordt ionen te injecteren tot een diepte van ten minste 0,5 pm 35 in de oppervlaktelaag van de metallische matrijs door de ioniserende stroom te houden op 10mA, de ionbestraling op 100 doseringen, de temperatuur op 1003899 3 300-500 °C en de tijdsduur op 10-40 seconden, waarna de metallische matrijs wordt bedekt met een koolstof van het amorfe diamanttype tot een dikte van 0,1-1 μιη op de geïoniseerde laag.
Indien bijvoorbeeld een glazen plaat met een diameter 5 van 63 mm wordt geperst door het gebruik van de metallische matrijs volgens deze uitvinding wordt de glazen plaat eerst voorgevormd tot een ronde schijf en verhit tot de verwekingstemperatuur van het glasmateriaal. Vervolgens wordt de verhitte glasplaat gebracht in de metallische matrijs en verhit tot dezelfde temperatuur en vervolgens geperst. Na het persen 10 wordt de geperste glasplaat geleidelijk afgekoeld gedurende een periode van 15-20 minuten en afgekoeld tot kamertemperatuur. Ondanks het feit dat 100.000 van dergelijke bewerkingen worden uitgevoerd wordt het af bladderen van de kool stofhoudende deklaag van het oppervlak van de metallische matrijs niet waargenomen. Het rendement dat volgens de uitvinding wordt 15 bereikt wordt door deze resultaten versterkt.
De reden dat de bedrijfsduur van de metallische matrijs aanzienlijk was verlengd kan worden toegeschreven aan het feit dat de vermoeiingsverschijnselen van de metallische matrijs worden verminderd door de temperatuur van het glas en de temperatuur van de matrijs op 20 dezelfde waarde te houden en doordat de afbladdereigenschap van de metallische matrijs wordt verbeterd door de ionbestraling.
Zoals boven aangegeven wordt volgens de uitvinding voor het aanbrengen van de koolstofhoudende deklaag het gevormde oppervlak van de metallische matrijs gemodificeerd doordat de oppervlaktelaag hiervan 25 wordt onderworpen aan ion-injectie, waarna het mogelijk wordt om de hechting van de koolstofhoudende deklaag op de metallische matrijs te verbeteren en de bedrijfsduur van de metallische matrijs te verlengen en verder kan de polijsstap van de samengeperste produkten achterwege blijven door de vlakheid van de gevormde glasplaten.
30 Nadat het glazen substraat is verkregen onder toepassing van de matrijs volgens deze uitvinding wordt het oppervlak van het glazen substraat bedekt met magnetische materialen.
y,\ ^ f !l > f f -4 J - w v. ; λ «ip

Claims (5)

1. Metallische matrijs voor het persen van een gevormd glazen substraat, te gebruiken bij een computergeheugen, waarbij een 5 vereiste vlakheid is verzekerd door het oppervlak van de metallische matrijs vervaardigd uit een hard materiaal te voorzien van een deklaag van koolstof, met het kenmerk, dat het oppervlak van de metallische matrijs wordt geïnjecteerd met ionen en de oppervlaktelaag wordt gemodificeerd, voor het aanbrengen van de koolstofhoudende deklaag.
2. Metallische matrijs voor het persen van een gevormd glazen substraat, te gebruiken bij een computergeheugen volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het oppervlak van de matrijs wordt onderworpen aan een ion-injectie tot ten minste een diepte van 0,5 jL/m in de oppervlaktelagen hiervan.
3. Metallische matrijs voor het persen van een glasplaat volgens conclusies 1-2, met het kenmerk, dat de koolstofhoudende deklaag met een dikte van 0,1-1 μη* wordt aangebracht op de geïoniseerde laag.
4. Gevormde glasplaat voor een substraat van glas voor een computergeheugen, onder persen gevormd door het toepassen van een 20 metallische matrijs vervaardigd uit een hard materiaal, welke metallische matrijs de vereiste vlakheid heeft door het aanbrengen van een koolstofhoudende deklaag op het oppervlak en het oppervlak is gemodificeerd door ion-injectie alvorens de koolstofhoudende deklaag is aangebracht.
5. Schijf voor een computergeheugen op basis van een 25 glasplaat volgens conclusie 4, welke glasplaat is voorzien van magnetische materialen. 1003899
NL1003899A 1995-08-29 1996-08-28 Matrijs voor persen van een glazen substraat en gevormde glasplaat. NL1003899C2 (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US52058595A 1995-08-29 1995-08-29
US52058595 1995-08-29

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL1003899A1 NL1003899A1 (nl) 1997-03-03
NL1003899C2 true NL1003899C2 (nl) 1998-02-12

Family

ID=24073252

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL1003899A NL1003899C2 (nl) 1995-08-29 1996-08-28 Matrijs voor persen van een glazen substraat en gevormde glasplaat.

Country Status (13)

Country Link
JP (2) JP3275091B2 (nl)
KR (1) KR100385257B1 (nl)
CN (1) CN1102470C (nl)
AU (1) AU718549B2 (nl)
CA (1) CA2184206C (nl)
DE (1) DE19634974A1 (nl)
FR (1) FR2738236B1 (nl)
GB (1) GB2304736B (nl)
IL (1) IL119144A0 (nl)
MY (1) MY115041A (nl)
NL (1) NL1003899C2 (nl)
SG (1) SG47172A1 (nl)
ZA (1) ZA967329B (nl)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0953548B1 (en) 1997-07-30 2006-05-03 Hoya Corporation Method of producing glass substrate for information recording medium
NL1008105C2 (nl) * 1998-01-23 1999-07-26 Axxicon Moulds Eindhoven Bv Spuitgietmatrijs.
JP2002079522A (ja) * 2000-06-23 2002-03-19 Hitachi Maxell Ltd ディスク基板成形金型及び樹脂成形金型
JP4702201B2 (ja) * 2006-06-28 2011-06-15 東洋製罐株式会社 樹脂加工用部材

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2115267A1 (nl) * 1970-11-27 1972-07-07 Eastman Kodak Co
DE3533856A1 (de) * 1985-09-23 1987-05-21 Wilhelm Koenig Vorrichtung zur herstellung von hartdisketten aus glas
DE3832907A1 (de) * 1987-09-28 1989-04-20 Hoya Corp Verfahren zur herstellung einer gussform fuer glas
DE3800567A1 (de) * 1988-01-12 1989-07-20 Wilhelm Koenig Presswerkzeug zum pressen von hartdisketten aus glas
DE3808380A1 (de) * 1988-03-12 1989-09-21 Wilhelm Koenig Verfahren zum praegen von festprogrammen auf glasdisks und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
DE3917752A1 (de) * 1988-05-31 1989-12-07 Hoya Corp Verfahren zur herstellung einer glasform
DE4002681A1 (de) * 1989-01-30 1990-08-02 Hoya Corp Verfahren zum herstellen einer form zur erzeugung eines pressformartikels aus glas
JPH0380190A (ja) * 1989-08-23 1991-04-04 Tdk Corp ダイヤモンド様薄膜を形成する方法
US5125945A (en) * 1991-04-09 1992-06-30 Corning Incorporated Method and apparatus for parallel alignment of opposing mold surfaces by controlling the thermal expansion of the apparatus
US5380349A (en) * 1988-12-07 1995-01-10 Canon Kabushiki Kaisha Mold having a diamond layer, for molding optical elements
JPH0790553A (ja) * 1993-09-27 1995-04-04 Shojiro Miyake 摺動部品およびその製造方法
US5458927A (en) * 1995-03-08 1995-10-17 General Motors Corporation Process for the formation of wear- and scuff-resistant carbon coatings

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5202156A (en) * 1988-08-16 1993-04-13 Canon Kabushiki Kaisha Method of making an optical element mold with a hard carbon film
US5026415A (en) * 1988-08-16 1991-06-25 Canon Kabushiki Kaisha Mold with hydrogenated amorphous carbon film for molding an optical element
JPH0624991B2 (ja) * 1988-08-24 1994-04-06 松下電器産業株式会社 光学ガラス素子のプレス成形用型
US5112025A (en) * 1990-02-22 1992-05-12 Tdk Corporation Molds having wear resistant release coatings
US5246198A (en) * 1990-06-01 1993-09-21 Canon Kabushiki Kaisha Diamond crystal coated mold for forming optical elements
GB9019219D0 (en) * 1990-09-01 1990-10-17 Atomic Energy Authority Uk Diamond-like carbon coatings
JP3009761B2 (ja) * 1991-07-26 2000-02-14 日本タングステン株式会社 成形用型材料
FR2682125A1 (fr) * 1991-10-07 1993-04-09 Nitruvid Procede de traitement pour deposer une couche de carbone en phase vapeur sur la surface d'une piece metallique et piece ainsi obtenue.
JP3049132B2 (ja) * 1991-10-11 2000-06-05 オリンパス光学工業株式会社 光学素子成形用型の製造方法および光学素子成形用型
US5347887A (en) * 1993-03-11 1994-09-20 Microsurgical Techniques, Inc. Composite cutting edge
JPH06320636A (ja) * 1993-05-12 1994-11-22 Canon Inc 光学素子成形用型の製造方法
JPH07109128A (ja) * 1993-10-12 1995-04-25 Hoya Corp ガラス成形用型およびその製造方法
GB2300424A (en) * 1995-05-01 1996-11-06 Kobe Steel Europ Ltd Diamond growth on ion implanted surfaces

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2115267A1 (nl) * 1970-11-27 1972-07-07 Eastman Kodak Co
DE3533856A1 (de) * 1985-09-23 1987-05-21 Wilhelm Koenig Vorrichtung zur herstellung von hartdisketten aus glas
DE3832907A1 (de) * 1987-09-28 1989-04-20 Hoya Corp Verfahren zur herstellung einer gussform fuer glas
DE3800567A1 (de) * 1988-01-12 1989-07-20 Wilhelm Koenig Presswerkzeug zum pressen von hartdisketten aus glas
DE3808380A1 (de) * 1988-03-12 1989-09-21 Wilhelm Koenig Verfahren zum praegen von festprogrammen auf glasdisks und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
DE3917752A1 (de) * 1988-05-31 1989-12-07 Hoya Corp Verfahren zur herstellung einer glasform
US5380349A (en) * 1988-12-07 1995-01-10 Canon Kabushiki Kaisha Mold having a diamond layer, for molding optical elements
DE4002681A1 (de) * 1989-01-30 1990-08-02 Hoya Corp Verfahren zum herstellen einer form zur erzeugung eines pressformartikels aus glas
JPH0380190A (ja) * 1989-08-23 1991-04-04 Tdk Corp ダイヤモンド様薄膜を形成する方法
US5662877A (en) * 1989-08-23 1997-09-02 Tdk Corporation Process for forming diamond-like thin film
US5125945A (en) * 1991-04-09 1992-06-30 Corning Incorporated Method and apparatus for parallel alignment of opposing mold surfaces by controlling the thermal expansion of the apparatus
JPH0790553A (ja) * 1993-09-27 1995-04-04 Shojiro Miyake 摺動部品およびその製造方法
US5458927A (en) * 1995-03-08 1995-10-17 General Motors Corporation Process for the formation of wear- and scuff-resistant carbon coatings
EP0731190A1 (en) * 1995-03-08 1996-09-11 General Motors Corporation Process for the formation of carbon coatings

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
DATABASE WPI Section Ch Week 20, Derwent World Patents Index; Class E36, AN 91-144267, XP002047431 *
DATABASE WPI Section Ch Week 22, Derwent World Patents Index; Class M13, AN 95-167716, XP002047284 *

Also Published As

Publication number Publication date
AU718549B2 (en) 2000-04-13
IL119144A0 (en) 1996-11-14
GB9618034D0 (en) 1996-10-09
JP2909724B2 (ja) 1999-06-23
JPH09194227A (ja) 1997-07-29
CN1102470C (zh) 2003-03-05
GB2304736B (en) 1999-09-22
CA2184206C (en) 2002-10-08
JP3275091B2 (ja) 2002-04-15
KR970010687A (ko) 1997-03-27
ZA967329B (en) 1997-03-04
AU6432296A (en) 1997-03-06
SG47172A1 (en) 1998-03-20
KR100385257B1 (ko) 2003-08-09
CN1147983A (zh) 1997-04-23
DE19634974A1 (de) 1997-03-27
GB2304736A (en) 1997-03-26
JPH09183622A (ja) 1997-07-15
NL1003899A1 (nl) 1997-03-03
FR2738236A1 (fr) 1997-03-07
CA2184206A1 (en) 1997-03-01
FR2738236B1 (fr) 1999-03-12
MY115041A (en) 2003-03-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4287301B2 (ja) パターン化された研磨材料およびその製造方法
NL1003899C2 (nl) Matrijs voor persen van een glazen substraat en gevormde glasplaat.
KR100440500B1 (ko) 플라즈마 스프레이 방식을 이용한 세라믹 반도체 부품의제조 및 재생 방법
KR100586736B1 (ko) 광택도를 가지는 표면의 제조 및 처리 방법
US20180169909A1 (en) Method of Making a Reinforced Friction Material
US6314764B1 (en) Method of manufacturing a 1-inch diameter glass substrate for a magnetic disk
GB2346107A (en) Resin mould
US6314763B1 (en) Method of manufacturing a 2-5 inch diameter glass substrate for a magnetic disk
CN111411330A (zh) 锂靶材组件的制造方法
CA1162467A (en) Wear resistant composites
JP3554460B2 (ja) 金属部材内蔵セラミックス部材の製造方法
KR20080022254A (ko) 금속박막이 코팅된 세라믹 복합체 및 그 제조방법
CN114012944A (zh) 一种大型菲涅尔平板模具的制作方法
US6972049B2 (en) Method for fabricating a diamond film having low surface roughness
US6248408B1 (en) Method for simultaneously curing powder underlayer coating and PVD deposition of thin film layer
RU2201871C1 (ru) Способ изготовления изделий из композиционных материалов
CN110576161A (zh) 激光制造与再制造结晶器铜板变形控制方法
KR20160055991A (ko) 플라즈마 처리 장치용 내부재 및 이의 제조 방법
CN109502993A (zh) 一种在材料表层的多孔结构加工方法
JPS63108930A (ja) 金型の製造方法
RU2185965C1 (ru) Способ изготовления изделий из композиционных материалов
JPH06304820A (ja) 刃物およびその製造方法
KR100653004B1 (ko) 2상형 유리상 탄소 부재 및 그 제조방법
JPH05205324A (ja) 光ディスク基板の製造方法
CN118422121A (zh) 一种复合涂层微结构化的金刚石砂轮及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
AD1A A request for search or an international type search has been filed
PD2B A search report has been drawn up
SD Assignments of patents

Owner name: TORIOTO SHOJI CO., LTD

SD Assignments of patents

Owner name: YASUAKI SAKAMOTO

Owner name: ZAATEC TECHNOLOGY INC.

Owner name: SAATEC ENGINEERING CORPORATION

SD Assignments of patents

Owner name: ZAATEC TECHNOLOGY INC.

SD Assignments of patents

Owner name: ZAATEC TECHNOLOGY INC.

VD1 Lapsed due to non-payment of the annual fee

Effective date: 20050301