NL1003899C2 - Mold for pressing a glass substrate and shaped glass plate. - Google Patents

Mold for pressing a glass substrate and shaped glass plate. Download PDF

Info

Publication number
NL1003899C2
NL1003899C2 NL1003899A NL1003899A NL1003899C2 NL 1003899 C2 NL1003899 C2 NL 1003899C2 NL 1003899 A NL1003899 A NL 1003899A NL 1003899 A NL1003899 A NL 1003899A NL 1003899 C2 NL1003899 C2 NL 1003899C2
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
mold
metallic
pressing
glass plate
coating
Prior art date
Application number
NL1003899A
Other languages
Dutch (nl)
Other versions
NL1003899A1 (en
Inventor
Yasuaki Sakamoto
Original Assignee
Yasuaki Sakamoto
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=24073252&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=NL1003899(C2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Yasuaki Sakamoto filed Critical Yasuaki Sakamoto
Publication of NL1003899A1 publication Critical patent/NL1003899A1/en
Application granted granted Critical
Publication of NL1003899C2 publication Critical patent/NL1003899C2/en

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
    • C03B11/06—Construction of plunger or mould
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
    • C03B11/06—Construction of plunger or mould
    • C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
    • C03B11/084—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
    • C03B11/086—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor of coated dies
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B40/00—Preventing adhesion between glass and glass or between glass and the means used to shape it, hold it or support it
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
    • C23C16/0254—Physical treatment to alter the texture of the surface, e.g. scratching or polishing
    • C23C16/0263—Irradiation with laser or particle beam
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
    • C23C16/0272—Deposition of sub-layers, e.g. to promote the adhesion of the main coating
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
    • G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
    • G11B5/739—Magnetic recording media substrates
    • G11B5/73911—Inorganic substrates
    • G11B5/73913—Composites or coated substrates
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
    • G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
    • G11B5/739—Magnetic recording media substrates
    • G11B5/73911—Inorganic substrates
    • G11B5/73921—Glass or ceramic substrates
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2215/00—Press-moulding glass
    • C03B2215/02—Press-mould materials
    • C03B2215/08—Coated press-mould dies
    • C03B2215/14—Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
    • C03B2215/24—Carbon, e.g. diamond, graphite, amorphous carbon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2215/00—Press-moulding glass
    • C03B2215/40—Product characteristics
    • C03B2215/44—Flat, parallel-faced disc or plate products
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2215/00—Press-moulding glass
    • C03B2215/40—Product characteristics
    • C03B2215/45—Ring or doughnut disc products or their preforms
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
    • G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
    • G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
    • G11B11/10582—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Description

Korte aanduiding: Matrijs voor persen van een glazen substraat en gevormde glasplaat.Short designation: Die for pressing a glass substrate and shaped glass plate.

De uitvinding heeft betrekking op een metallische 5 matrijs voor het persen van een gevormd glazen substraat, te gebruiken bij een computergeheugen, waarbij een vereiste vlakheid is verzekerd, door het oppervlak van de metallische matrijs, vervaardigd uit een hard materiaal, te voorzien van een deklaag met koolstof. De uitvinding heeft verder betrekking op een gevormde glazen plaat te gebruiken als glazen 10 substraat voor een computergeheugen.The invention relates to a metallic mold for pressing a molded glass substrate to be used with a computer memory, whereby a required flatness is ensured by coating the surface of the metallic mold made of a hard material with carbon. The invention further relates to a shaped glass plate to be used as a glass substrate for a computer memory.

Tot nu toe worden in het algemeen harde schijven, vervaardigd uit een substraat van aluminium bedekt met magnetische materialen gebruikt. Omdat echter veel schuurbewerkingen zijn vereist ter verkrijging van een gespecificeerde ruwheid van het oppervlak op het 15 substraat van aluminium, zijn de produktiekosten hoog.Heretofore, hard disks made of an aluminum substrate covered with magnetic materials have generally been used. However, because many sanding operations are required to obtain a specified surface roughness on the aluminum substrate, production costs are high.

De doelstelling volgens de uitvinding is met het oog op het bovengestelde, matrijzen te verkrijgen waarmee het mogelijk is een speciale oppervlakteruwheid te bereiken en voor het vervaardigen van een substraat van glas voor onderdelen van een computergeheugen, samengeperst 20 met behulp van de persmatrijs door het uitvoeren van een efficiëntere bewerking en tegen lagere kosten.In view of the above, the object of the invention is to obtain molds with which it is possible to achieve a special surface roughness and for the manufacture of a substrate of glass for parts of a computer memory, compressed by means of the press mold by performing more efficient machining and at a lower cost.

De metallische matrijs volgens de uitvinding zoals in de aanhef vermeld wordt volgens de uitvinding hierdoor gekenmerkt dat het oppervlak van de metallische matrijs wordt geïnjecteerd met ionen en de 25 oppervlaktelaag wordt gemodificeerd, voor het aanbrengen van de koolstofhoudende deklaag.The metallic mold according to the invention as mentioned in the preamble is according to the invention characterized in that the surface of the metallic mold is injected with ions and the surface layer is modified, before applying the carbon-containing coating.

Hoewel de metallische matrijs, voorzien van grafiet of koolstof van het amorfe type een zekere vlakheid heeft, wordt een stikstofion geïnjecteerd op het oppervlak van het zeer harde matrijsmate-30 riaal juist voor het aanbrengen van de koolstofhoudende deklaag en de oppervlaktelaag van de matrijs wordt zodoende gemodificeerd.Although the metallic mold provided with graphite or carbon of the amorphous type has a certain flatness, a nitrogen ion is injected onto the surface of the very hard mold material just prior to the application of the carbonaceous coating, and the surface layer of the mold is thus modified.

Door deze werkwijze wordt het mogelijk de hechting van de koolstof op de matrijs en de levensduur van de matrijs aanzienlijk te verlengen.This method makes it possible to considerably increase the adhesion of the carbon to the mold and the life of the mold.

35 Volgens een de voorkeur verdienende uitvoeringsvorm wordt de ion-injectie uitgevoerd tot een minste een diepte van 0,5 μη\ van 1003899 2 het oppervlak en daarna wordt de koolstofhoudende deklaag uitgevoerd tot een dikte van 0,1-1 μτη op het met ionen geïnjecteerd oppervlak. Het oppervlak wordt zodanig behandeld dat de vlakheid hiervan een waarde bereikt van 2/1000-8/1000.According to a preferred embodiment, the ion injection is carried out to at least a depth of 0.5 μη \ of 1003899 2 the surface and then the carbonaceous coating is carried out to a thickness of 0.1-1 μτη on the ionized injected surface. The surface is treated in such a way that its flatness reaches a value of 2 / 1000-8 / 1000.

5 Verder worden volgens de uitvinding glasplaten vervaardigd te gebruiken als glazen substraat voor computergeheugens onder toepassing van de metallische matrijs waarvan het oppervlak is gemodificeerd door ion-injectie voordat de deklaag wordt aangebracht van koolstof zoals grafiet of amorfe diamant.Further, according to the invention, glass plates are manufactured to be used as a glass substrate for computer memories using the metallic die whose surface has been modified by ion injection before coating carbon such as graphite or amorphous diamond.

10 De uitvinding wordt nader toegelicht aan de hand van de volgende beschrijving, waarbij is verwezen naar de bijgevoegde tekening, waarbij:The invention is further elucidated on the basis of the following description, reference being made to the attached drawing, in which:

Fig. 1(a) een bovenaanzicht weergeeft van een glazen substraat voor computergeheugen, gevormd onder toepassing van een 15 metallische matrijs volgens de uitvinding enFig. 1 (a) shows a top view of a glass computer memory substrate formed using a metallic die according to the invention and

Fig. 1(b) geeft een zijaanzicht aan van de schijf weergegeven in figuur 1(a).Fig. 1 (b) indicates a side view of the disk shown in Figure 1 (a).

Een metallische matrijs vervaardigd uit een superhard materiaal, met een vlakheid van het oppervlak van meer dan 8/1000 wordt 20 gemodificeerd door het vormen van een Gauss-verdel ing op de oppervlaktelaag door ion-injectie zoals een atomair stikstofion voordat de deklaag wordt aangebracht van grafiet of koolstof van het amorfe diamanttype.A metallic mold made of a superhard material, with a surface flatness greater than 8/1000 is modified by forming a Gauss distribution on the surface layer by ion injection such as an atomic nitrogen ion before the coating of graphite or carbon of the amorphous diamond type.

Een ion-geïnjecteerde laag wordt gevormd tot een diepte van ten minste 0,5 μτη van het oppervlak van een sunperharde legering door 25 ion-injectie en daarna wordt de koolstofhoudende deklaag aangebracht tot een diepte van 0,1-1 pm op de met ion-geïnjecteerde laag en de laatste laag van het oppervlak wordt afgevlakt om de gladheid te houden in het gebied van 2/1000-8/1000.An ion-injected layer is formed to a depth of at least 0.5 μτη from the surface of a sunperhard alloy by ion injection and then the carbonaceous coating is applied to a depth of 0.1-1 µm on the ionized -injected layer and the last layer of the surface is smoothed to keep the smoothness in the range of 2 / 1000-8 / 1000.

Door het gebruik van de metallische matrijs volgens 30 de uitvinding wordt het mogelijk een glazen substraat 1 te vervaardigen voor een computergeheugen zoals weergegeven in de tekening.By using the metallic mold according to the invention, it becomes possible to manufacture a glass substrate 1 for a computer memory as shown in the drawing.

Bij de methode voor de ion-injectie wordt gebruik gemaakt van een ontlading bij hoge frequentie (105-107Hz) waarbij het mogelijk wordt ionen te injecteren tot een diepte van ten minste 0,5 pm 35 in de oppervlaktelaag van de metallische matrijs door de ioniserende stroom te houden op 10mA, de ionbestraling op 100 doseringen, de temperatuur op 1003899 3 300-500 °C en de tijdsduur op 10-40 seconden, waarna de metallische matrijs wordt bedekt met een koolstof van het amorfe diamanttype tot een dikte van 0,1-1 μιη op de geïoniseerde laag.The ion injection method uses a high frequency (105-107Hz) discharge that allows injecting ions to a depth of at least 0.5 µm into the surface layer of the metallic die by the ionizing keep current at 10mA, the ion irradiation at 100 dosages, the temperature at 1003899 3 300-500 ° C and the time at 10-40 seconds, after which the metallic die is covered with an amorphous diamond type carbon to a thickness of 0, 1-1 μιη on the ionized layer.

Indien bijvoorbeeld een glazen plaat met een diameter 5 van 63 mm wordt geperst door het gebruik van de metallische matrijs volgens deze uitvinding wordt de glazen plaat eerst voorgevormd tot een ronde schijf en verhit tot de verwekingstemperatuur van het glasmateriaal. Vervolgens wordt de verhitte glasplaat gebracht in de metallische matrijs en verhit tot dezelfde temperatuur en vervolgens geperst. Na het persen 10 wordt de geperste glasplaat geleidelijk afgekoeld gedurende een periode van 15-20 minuten en afgekoeld tot kamertemperatuur. Ondanks het feit dat 100.000 van dergelijke bewerkingen worden uitgevoerd wordt het af bladderen van de kool stofhoudende deklaag van het oppervlak van de metallische matrijs niet waargenomen. Het rendement dat volgens de uitvinding wordt 15 bereikt wordt door deze resultaten versterkt.For example, if a glass plate with a diameter of 63 mm is pressed using the metallic mold of this invention, the glass plate is first preformed into a round disk and heated to the softening temperature of the glass material. Then the heated glass plate is placed in the metallic mold and heated to the same temperature and then pressed. After pressing 10, the pressed glass sheet is gradually cooled over a period of 15-20 minutes and cooled to room temperature. Despite the fact that 100,000 of such operations are performed, peeling of the carbonaceous coating from the surface of the metallic mold is not observed. The efficiency achieved according to the invention is enhanced by these results.

De reden dat de bedrijfsduur van de metallische matrijs aanzienlijk was verlengd kan worden toegeschreven aan het feit dat de vermoeiingsverschijnselen van de metallische matrijs worden verminderd door de temperatuur van het glas en de temperatuur van de matrijs op 20 dezelfde waarde te houden en doordat de afbladdereigenschap van de metallische matrijs wordt verbeterd door de ionbestraling.The reason that the operating life of the metallic mold was extended considerably can be attributed to the fact that the fatigue phenomena of the metallic mold are reduced by keeping the temperature of the glass and the temperature of the mold at the same value and because the peeling property of the metallic mold is improved by the ion irradiation.

Zoals boven aangegeven wordt volgens de uitvinding voor het aanbrengen van de koolstofhoudende deklaag het gevormde oppervlak van de metallische matrijs gemodificeerd doordat de oppervlaktelaag hiervan 25 wordt onderworpen aan ion-injectie, waarna het mogelijk wordt om de hechting van de koolstofhoudende deklaag op de metallische matrijs te verbeteren en de bedrijfsduur van de metallische matrijs te verlengen en verder kan de polijsstap van de samengeperste produkten achterwege blijven door de vlakheid van de gevormde glasplaten.As indicated above, according to the invention, before applying the carbonaceous coating, the formed surface of the metallic mold is modified in that its surface layer is subjected to ion injection, after which it becomes possible to adhere the carbonaceous coating to the metallic mold. improve and extend the service life of the metallic mold, and further, the polishing step of the compressed products can be omitted due to the flatness of the glass plates formed.

30 Nadat het glazen substraat is verkregen onder toepassing van de matrijs volgens deze uitvinding wordt het oppervlak van het glazen substraat bedekt met magnetische materialen.After the glass substrate is obtained using the mold of this invention, the surface of the glass substrate is covered with magnetic materials.

y,\ ^ f !l > f f -4 J - w v. ; λ «ipy, \ ^ f! l> f f -4 J - w v.; λ «ip

Claims (5)

1. Metallische matrijs voor het persen van een gevormd glazen substraat, te gebruiken bij een computergeheugen, waarbij een 5 vereiste vlakheid is verzekerd door het oppervlak van de metallische matrijs vervaardigd uit een hard materiaal te voorzien van een deklaag van koolstof, met het kenmerk, dat het oppervlak van de metallische matrijs wordt geïnjecteerd met ionen en de oppervlaktelaag wordt gemodificeerd, voor het aanbrengen van de koolstofhoudende deklaag.1. Metallic mold for pressing a shaped glass substrate, to be used with a computer memory, a required flatness is ensured by coating the surface of the metallic mold made of a hard material with a carbon coating, characterized in that: that the surface of the metallic mold is injected with ions and the surface layer is modified to apply the carbonaceous coating. 2. Metallische matrijs voor het persen van een gevormd glazen substraat, te gebruiken bij een computergeheugen volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het oppervlak van de matrijs wordt onderworpen aan een ion-injectie tot ten minste een diepte van 0,5 jL/m in de oppervlaktelagen hiervan.Metallic mold for pressing a formed glass substrate, to be used with a computer memory according to claim 1, characterized in that the surface of the mold is subjected to an ion injection to at least a depth of 0.5 µL / m in its surface layers. 3. Metallische matrijs voor het persen van een glasplaat volgens conclusies 1-2, met het kenmerk, dat de koolstofhoudende deklaag met een dikte van 0,1-1 μη* wordt aangebracht op de geïoniseerde laag.Metallic die for pressing a glass plate according to claims 1-2, characterized in that the carbon-containing coating with a thickness of 0.1-1 μη * is applied to the ionized layer. 4. Gevormde glasplaat voor een substraat van glas voor een computergeheugen, onder persen gevormd door het toepassen van een 20 metallische matrijs vervaardigd uit een hard materiaal, welke metallische matrijs de vereiste vlakheid heeft door het aanbrengen van een koolstofhoudende deklaag op het oppervlak en het oppervlak is gemodificeerd door ion-injectie alvorens de koolstofhoudende deklaag is aangebracht.4. Shaped glass plate for a glass substrate for a computer memory, press-formed using a metallic die made of a hard material, which metallic die has the required flatness by applying a carbonaceous coating to the surface and surface is modified by ion injection before the carbonaceous coating is applied. 5. Schijf voor een computergeheugen op basis van een 25 glasplaat volgens conclusie 4, welke glasplaat is voorzien van magnetische materialen. 10038995. A disk for a computer memory based on a glass plate according to claim 4, which glass plate is provided with magnetic materials. 1003899
NL1003899A 1995-08-29 1996-08-28 Mold for pressing a glass substrate and shaped glass plate. NL1003899C2 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US52058595A 1995-08-29 1995-08-29
US52058595 1995-08-29

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL1003899A1 NL1003899A1 (en) 1997-03-03
NL1003899C2 true NL1003899C2 (en) 1998-02-12

Family

ID=24073252

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL1003899A NL1003899C2 (en) 1995-08-29 1996-08-28 Mold for pressing a glass substrate and shaped glass plate.

Country Status (13)

Country Link
JP (2) JP2909724B2 (en)
KR (1) KR100385257B1 (en)
CN (1) CN1102470C (en)
AU (1) AU718549B2 (en)
CA (1) CA2184206C (en)
DE (1) DE19634974A1 (en)
FR (1) FR2738236B1 (en)
GB (1) GB2304736B (en)
IL (1) IL119144A0 (en)
MY (1) MY115041A (en)
NL (1) NL1003899C2 (en)
SG (1) SG47172A1 (en)
ZA (1) ZA967329B (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999006333A1 (en) * 1997-07-30 1999-02-11 Hoya Corporation Method of producing glass substrate for information recording medium
NL1008105C2 (en) * 1998-01-23 1999-07-26 Axxicon Moulds Eindhoven Bv Injection mold.
JP2002079522A (en) * 2000-06-23 2002-03-19 Hitachi Maxell Ltd Die for molding disk substrate and die for molding resin
JP4702201B2 (en) * 2006-06-28 2011-06-15 東洋製罐株式会社 Resin processing parts

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2115267A1 (en) * 1970-11-27 1972-07-07 Eastman Kodak Co
DE3533856A1 (en) * 1985-09-23 1987-05-21 Wilhelm Koenig Apparatus for producing hard discs of glass
DE3832907A1 (en) * 1987-09-28 1989-04-20 Hoya Corp METHOD FOR PRODUCING A CAST MOLD FOR GLASS
DE3800567A1 (en) * 1988-01-12 1989-07-20 Wilhelm Koenig Compression mould for pressing hard glass diskettes
DE3808380A1 (en) * 1988-03-12 1989-09-21 Wilhelm Koenig Process for embossing fixed programs on glass discs and apparatus for carrying out the process
DE3917752A1 (en) * 1988-05-31 1989-12-07 Hoya Corp METHOD FOR PRODUCING A GLASS MOLD
DE4002681A1 (en) * 1989-01-30 1990-08-02 Hoya Corp Glass press-moulding mould prodn. - involving ion coating with 1-carbon release film
JPH0380190A (en) * 1989-08-23 1991-04-04 Tdk Corp Production of diamond-like thin film
US5125945A (en) * 1991-04-09 1992-06-30 Corning Incorporated Method and apparatus for parallel alignment of opposing mold surfaces by controlling the thermal expansion of the apparatus
US5380349A (en) * 1988-12-07 1995-01-10 Canon Kabushiki Kaisha Mold having a diamond layer, for molding optical elements
JPH0790553A (en) * 1993-09-27 1995-04-04 Shojiro Miyake Sliding member and its production
US5458927A (en) * 1995-03-08 1995-10-17 General Motors Corporation Process for the formation of wear- and scuff-resistant carbon coatings

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5026415A (en) * 1988-08-16 1991-06-25 Canon Kabushiki Kaisha Mold with hydrogenated amorphous carbon film for molding an optical element
US5202156A (en) * 1988-08-16 1993-04-13 Canon Kabushiki Kaisha Method of making an optical element mold with a hard carbon film
JPH0624991B2 (en) * 1988-08-24 1994-04-06 松下電器産業株式会社 Mold for press molding of optical glass element
US5112025A (en) * 1990-02-22 1992-05-12 Tdk Corporation Molds having wear resistant release coatings
US5246198A (en) * 1990-06-01 1993-09-21 Canon Kabushiki Kaisha Diamond crystal coated mold for forming optical elements
GB9019219D0 (en) * 1990-09-01 1990-10-17 Atomic Energy Authority Uk Diamond-like carbon coatings
JP3009761B2 (en) * 1991-07-26 2000-02-14 日本タングステン株式会社 Mold material for molding
FR2682125A1 (en) * 1991-10-07 1993-04-09 Nitruvid PROCESSING PROCESS FOR DEPOSITING A CARBON LAYER IN A STEAM PHASE ON THE SURFACE OF A METAL PART AND A PART THUS OBTAINED.
JP3049132B2 (en) * 1991-10-11 2000-06-05 オリンパス光学工業株式会社 Manufacturing method of optical element molding die and optical element molding die
US5347887A (en) * 1993-03-11 1994-09-20 Microsurgical Techniques, Inc. Composite cutting edge
JPH06320636A (en) * 1993-05-12 1994-11-22 Canon Inc Production of mold for molding optical element
JPH07109128A (en) * 1993-10-12 1995-04-25 Hoya Corp Mold for molding glass and its production
GB2300424A (en) * 1995-05-01 1996-11-06 Kobe Steel Europ Ltd Diamond growth on ion implanted surfaces

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2115267A1 (en) * 1970-11-27 1972-07-07 Eastman Kodak Co
DE3533856A1 (en) * 1985-09-23 1987-05-21 Wilhelm Koenig Apparatus for producing hard discs of glass
DE3832907A1 (en) * 1987-09-28 1989-04-20 Hoya Corp METHOD FOR PRODUCING A CAST MOLD FOR GLASS
DE3800567A1 (en) * 1988-01-12 1989-07-20 Wilhelm Koenig Compression mould for pressing hard glass diskettes
DE3808380A1 (en) * 1988-03-12 1989-09-21 Wilhelm Koenig Process for embossing fixed programs on glass discs and apparatus for carrying out the process
DE3917752A1 (en) * 1988-05-31 1989-12-07 Hoya Corp METHOD FOR PRODUCING A GLASS MOLD
US5380349A (en) * 1988-12-07 1995-01-10 Canon Kabushiki Kaisha Mold having a diamond layer, for molding optical elements
DE4002681A1 (en) * 1989-01-30 1990-08-02 Hoya Corp Glass press-moulding mould prodn. - involving ion coating with 1-carbon release film
JPH0380190A (en) * 1989-08-23 1991-04-04 Tdk Corp Production of diamond-like thin film
US5662877A (en) * 1989-08-23 1997-09-02 Tdk Corporation Process for forming diamond-like thin film
US5125945A (en) * 1991-04-09 1992-06-30 Corning Incorporated Method and apparatus for parallel alignment of opposing mold surfaces by controlling the thermal expansion of the apparatus
JPH0790553A (en) * 1993-09-27 1995-04-04 Shojiro Miyake Sliding member and its production
US5458927A (en) * 1995-03-08 1995-10-17 General Motors Corporation Process for the formation of wear- and scuff-resistant carbon coatings
EP0731190A1 (en) * 1995-03-08 1996-09-11 General Motors Corporation Process for the formation of carbon coatings

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
DATABASE WPI Section Ch Week 20, Derwent World Patents Index; Class E36, AN 91-144267, XP002047431 *
DATABASE WPI Section Ch Week 22, Derwent World Patents Index; Class M13, AN 95-167716, XP002047284 *

Also Published As

Publication number Publication date
JPH09183622A (en) 1997-07-15
CA2184206C (en) 2002-10-08
CN1147983A (en) 1997-04-23
MY115041A (en) 2003-03-31
FR2738236A1 (en) 1997-03-07
KR100385257B1 (en) 2003-08-09
CA2184206A1 (en) 1997-03-01
GB2304736B (en) 1999-09-22
CN1102470C (en) 2003-03-05
JP3275091B2 (en) 2002-04-15
AU6432296A (en) 1997-03-06
IL119144A0 (en) 1996-11-14
JPH09194227A (en) 1997-07-29
DE19634974A1 (en) 1997-03-27
JP2909724B2 (en) 1999-06-23
NL1003899A1 (en) 1997-03-03
ZA967329B (en) 1997-03-04
GB9618034D0 (en) 1996-10-09
KR970010687A (en) 1997-03-27
GB2304736A (en) 1997-03-26
AU718549B2 (en) 2000-04-13
SG47172A1 (en) 1998-03-20
FR2738236B1 (en) 1999-03-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4287301B2 (en) Patterned abrasive material and method for producing the same
US20110229595A1 (en) Casting, molding or pressing tool with temperature control medium channels
NL1003899C2 (en) Mold for pressing a glass substrate and shaped glass plate.
KR100440500B1 (en) Ceramic parts production and repair for semiconductor fabrication by plasma spray process
GB2346107A (en) Resin mould
US6314763B1 (en) Method of manufacturing a 2-5 inch diameter glass substrate for a magnetic disk
CA1162467A (en) Wear resistant composites
KR20080022254A (en) Metal film-coated ceramic composite and fabrication method thereof
CN114012944A (en) Manufacturing method of large Fresnel flat plate die
US5902369A (en) Carbon coated metallic mold for making a glass plate
US6972049B2 (en) Method for fabricating a diamond film having low surface roughness
US6248408B1 (en) Method for simultaneously curing powder underlayer coating and PVD deposition of thin film layer
JP2000135718A (en) Composite stamper
RU2201871C1 (en) Method of making articles from composite materials
CN110576161A (en) Deformation control method for crystallizer copper plate manufactured and remanufactured by laser
CN109502993A (en) A kind of porous structure processing method in material surface
JPS63108930A (en) Manufacture of metallic die
JPH0489212A (en) Mold material for molding optical element
RU2185965C1 (en) Process of manufacture of articles from composite materials
JPH08259241A (en) Method for forming optical device
RU2162033C2 (en) Method for manufacture of products of composite materials
KR100653004B1 (en) Two-phase glass-like carbon member and method of manufacturing the same
JPH0339340B2 (en)
KR20160055991A (en) Internal member applying plasma treatment apparatus and method for manufacturing the same
JPH05205324A (en) Manufacture of optical disk substrate

Legal Events

Date Code Title Description
AD1A A request for search or an international type search has been filed
PD2B A search report has been drawn up
SD Assignments of patents

Owner name: TORIOTO SHOJI CO., LTD

SD Assignments of patents

Owner name: YASUAKI SAKAMOTO

Owner name: ZAATEC TECHNOLOGY INC.

Owner name: SAATEC ENGINEERING CORPORATION

SD Assignments of patents

Owner name: ZAATEC TECHNOLOGY INC.

SD Assignments of patents

Owner name: ZAATEC TECHNOLOGY INC.

VD1 Lapsed due to non-payment of the annual fee

Effective date: 20050301