LV11854B - Removing dust particles from a relatively moving material web - Google Patents
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Description
1. Paņēmiens putekļu daļiņu (S) savākšanai no relatīvi līdzenas, pret vibrācijām stabila materiāla lentas virsmas (1; 71) ar bezfrikcijas atputekļošanas ierīci, kas atšķiras arto, ka pret materiāla lentas virsmu (1; 71) orientētā, iezemotā poteciāla aizvadīšanas platē (6, 33; 54a, 54b) ir iebūvēta atputekļošanas ierīces pūtējsprausla (3a, 3b; 53), kas novietota tādā attālumā (d; d/53) no materiāla virsmas (1; 71), ka no sprauslas (3a, 3b; 53) izplūstošās gāzes plūsmas (G) ātrumu un spiedienu (P) starp materiāla virsmu un potenciāla aizvadīšanas plati (6, 33; 54a, 54b) iespējams noregulēt tā, lai no spiediena (p) un attāluma (d; d/53) reizinājuma atbilstoši Pašena (Paschen) formulai atkarīgais kritiskais spriegums (U/krit) būtu mazāks par elektrostatisko spriegumu (E), kas saista putekļu daļiņas (S) uz materiāla lentas virsmas (1; 71), kā rezultātā notiek sprieguma (E) neitralizācija un tādējādi tiek pārvarēts putekļu daļiņu un materiāla lentas virsmas saistības spēks (E/W) un minētās daļiņas (S), neizmantojot elektroenerģiju patērējošu jonizācijas ierīci, tiek aizvāktas tikai ar gāzes (G) plūsmu un uzsūktas ar vismaz viena uzsūkšanās bloka (7a, 7b; 65) palīdzību.
2. Paņēmiens pēc 1. punkta, kas atšķiras ar to, ka gāzes plūsma, vislabāk gaisa plūsma (G) tiek pūsta pret materiāla lentas virsmu (1; 71) 20 100 vislabāk 30 - 55 0 lielā leņķī (a, d) un uzsūkta ar vismaz vienu uzsūkšanās bloku (7a, 7b; 65), kas novietots pret gāzes plūsmas virzienu, respektīvi, atrodas materiāla lentas kustības virzienā.
3. Paņēmiens pēc 2. punkta, kas atšķiras ar to, ka putekļu daļiņas (S), kas tiek nopūstas no materiāla lentas, uzsūc ar 20 -70 °, vislabāk 45 0 leņķī (a, d) pret gāzes (G) plūsmas virzienu (25) vērstu pirmo uzsūkšanās sprauslu (27; 65), bet vislabāk ar otro papildsprauslu (29), kas vērsta pret materiāla lentas virsmu (1) gandrīz vertikāli.
4. Atputekļošanas ierīce ar gāzes pievadu (13; 57), kas savienots ar pūtējsprauslu (3a, 3b; 53) un uzsūkšanās bloku (7a, 7b; 65), kas piemērota paņēmiena pēc jebkura no 1. - 3. punktam realizēšanai, atšķiras ar to, ka pūtējsprausla (3a, 3b; 53) tās savienojuma vietā ar gāzes pievadu (13; 57) ir izveidota ar pastāvīgi sašaurinošos spraugas šķērsgriezumu (15; 59), kas pēc sašaurinājuma (17; 55) pāriet paplašinātā šķērsgriezumā (19; 61), pie tam pūtējsprauslas korpusa virsma (6, 33; 54a, 54b) ir izveidota no elektrovadoša materiāla, iezemēta un vērsta pret ar putekju daļiņām (S) pārklāto materiāla lentas virsmu (1; 71), pie kam gāzes spiediens gāzes pievadā (13; 57), kā arī attālums (d; d/53) starp iezemēto virsmu (6, 33; 54a, 54b) un nepārtraukti atputekļošanai pievadīto materiāla lentas virsmu (1; 71) ir regulējami tā, lai putekļu daļiņas (S) tiktu aizvāktas un ar uzsūkšanās bloka (7a, 7b; 65) palīdzību savāktas, neizmantojot gāzes plūsmas jonizācijai pie elektroenerģijas avota pieslēgtu jonizācijas ierīci.
5. Ierīce pēc 4. punkta, kas atšķiras ar to, ka gāzes spiediens gāzes pievadā (13; 57), iezemētās potenciāla novadīšanas plates (6, 33; 54a, 54b) attālums (d; d/53) no atputekjojamās materiāla lentas virsmas (1; 71), kā arī sprauslas šķērsgriezuma profils (15, 17, 19; 59, 56, 55, 61) un tās garums piemērojami atputekļojamai virsmai tādā veidā, lai kritiskais spriegums (U/krit) fon Pasena formulā, kas atkarīgs no attāluma (d; d/53) un gāzes spiediena (p) reizinājuma, būtu mazāks par putekļu daļiņas (S) saistošo elektrostatisko spriegumu (E), kur gāzes spiediens tiek radīts ar spiedienu gāzes pievadā (13; 57), kas nodrošina vajadzīgo spiedienu (p) spraugā starp iezemoto virsmas daļu (6, 33; 54a, 54b) un nepārtraukti atputekļošanai pievadāmo materiāla lentas virsmas daļu (1; 71) ar pūtējsprauslas (3a, 3b; 53) palīdzību.
6. Ierīce pēc 4. vai 5. punkta, kas atšķiras ar to, ka sprauslas atvere iestādītā tā, lai gāzes plūsma no tās būtu vērsta pretēji materiāla lentas (1; 71) pārvietošanās virzienam (11; 70).
7. Ierīce pēc jebkura no 4. I7dz 6. punktam, kas atšķiras ar to, ka pūtējsprauslas (3a, 3b; 53) atveres (21; 55) ass novietota plaknē, kas attiecībā pret materiāla lentu (1; 71), resp., tās pieskari (68), novietota 20 100 0, vislabāk 30 - 55 0 lielā leņķī (a, d).
8. Ierīce pēc 7. punkta, kas atšķiras ar to, ka pūtējsprauslas (3a, 3b; 53) siena izveidota ar vismaz vienu attiecībā pret sprauslas asi nesimetrisku posmu, it sevišķi tās atveres (20; 60) rajonā, kur viena no pūtējsprauslas (3a, 3b; 53) atveres malām ir taisne (21; 55), kas atrodas plaknē, kura novietota 20 - 100 °, vislabāk 30 -55 0 lielā leņķī (a, d) attiecībā pret materiāla lentu (1; 71).
9. Ierīce pēc 8. punkta, kas atšķiras ar to, ka sprauslas atveres (20; 60) taisnā mala (21; 55) izveidota ar asu šķautni (22; 63), lai radītu pret materiāla lentas virsmu vērstu plūsmas virpuli.
10. Ierīce pēc jebkura no 4. līdz 9. punktam, kas atšķiras ar to, ka uzsūkšanās bloka (27; 65) uzsūkšanās sprausla (35) tās atveres virzienā ir piltuvveidīga (31a), pie tam sprauslas taisnā pirmā mala (36a) atrodas plaknē, kas ar materiāla lentas (1; 71) virsmu veido 15 - 50 °, vislabāk 33 39 0 lielu leņķi (a, d).
11. Ierīce pēc jebkura no 4. līdz 10. punktam, kas atšķiras ar to, ka pūtējsprausla (3a, 3b; 53) veidota no vismaz divām daļām (3’, 3”; 54a, 54b), pie tam optimālā gadījumā daļas savienojošās līnijas, vai vismaz viena no tām (47) sakrīt ar sprauslas atveres ass līniju (21; 55).
12. Ierīce pēc jebkura no 4. līdz 11. punktam, kas atšķiras ar to, ka ierīce veidota no blokiem, kas optimālā risinājumā novietoti paralēli materiāla lentas (1; 71) relatīvajam kustības virzienam (11; 70), lai konstruktīvi vienkāršotu ierīces platuma pieskaņošanu materiāla lentas (1; 71) platumam.
13. Ierīce pēc jebkura no 4. līdz 12. punktam, kas atšķiras arto, ka tā satur pirmo un otro pūtējsprauslu (3a), kas novietotas materiāla lentas (1) relatīvās kustības virzienā (11) zināmā attālumā viena no otras abpus uzsūkšanās blokam (7a), pie tam pirmās un otrās sprauslas izplūdes atveru asis vērstas viena pret otru.
- 1 Entfernen von Staubpartikeln vm einer relativ bevegten Materialbabn
Die Erfindung betrifft ein Verfahren gemass dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1 sowie eine Vorrichtung gemass dem Oberbegriff des Patentanspruchs 4.
Die Konstruktionen von Entstaubungsanlagen fur bewegte Materialbahnen, auch Bahnreinigungsanlagen genannt, konnen grob in beruhrungsfrei, sowie in solche mit Burstenunterstūtzung arbeitende unterteilt verden. Bei den letzteren Entstaubungsanlagen wurden die Stauhpartikel mit rotierenden Būrstenwalzen oder stationaren Burstenreihen von der Materialbahn mechanisch gelost und dann abgesaugt.
Die Būr3tenbeschaffenheit, sowie deren Stārke, Material und Ausfuhrungsart der Borsten waren dabei auf die Eigenschaften der zu reinigenden Materialoberflāche abgestinmt. Derartige nicht gattungsgemāsse Entstaubungsanlagen sind im Bundesverband Druck e.V., Postfach 1869, Biebricher Allee 79, D - 6200 Wiesbaden 1,
Technischer Informationsdienst, 11/1985, S. 1 bis 20, sowie in der WO87/06527 beschrieben.
Beruhrungsfrei arbeitende Entstaubungsanlagen wiesen eine Einblaseinheit auf, velche einen Gasstrahl auf die zu reinigende Bahn fūhrte, sovie eine Absaugeinheit, mit der das die Staubpartikel aufnehmende Gas wieder abgesaugt vurde. Mit der Einblaseinheit zusansnen oder in deren Nāhe vurden Entladungselektroden zum Entladen der auf der Materialbahn befindlichen Staubpartikel angegeordnet. Derartige Entstaubungsanlagen sind aus der EP-A 0 245 525, der EP-A 0 520 145, der EP-A 0 524 415, der EP-A 0 395 864 und der CH-A 649 725 bekannt.
Ein anderer Weg vurde in der EP-A 0 084 633 beschritten.
Hier vurde ein turbulenter Gasstrom auf eine zu entstaubende Gevebebahn gerichtet und diese durch die turbulente Stromung in Vibration versetzt, vodurch die Staubpartikel von der Gewebeoberflāche abgelost wurden. Diese Entstaubungsart liess sich jedoch nur bei dūnnen Materialbahnen anvenden, velche sich durch den Gasstrahl in Vibrationen versetzen liessen.
Eine nicht gattungsgemāsse Reinigungsanlage zum Entfernen von einer auf einem bevegten Band, insbesondere einem Walzband haftenden Flussigkeit wird in der DE-A 4 215 602 beschr ieben.
Die bei einer Entstaubungsanlage sich ergebenden Probleme mit auf der Oberflāche durch elektrostatische Krāfte anhaftende Partikel ergaben sich hier nicht.
Sofem bei den oben aufgefuhrten Entstaubungsanlagen uberhaupt eine stromungstechnische Ausgestaltung der Dusenaustritte der Einblaseinheiten vorgenonmen vurde, sind sie als zur Materialbahn geneigte Kanāle mit konstantēm Kanalquerschnitt im Bereich der Dusenaustrittsoffnung ausgebildet vorden, vie z.B. in der EP-A 0 245 526, der EP-A 0 520 145 und der DE-A 4 214 602 dargestellt ist. Lediglich in der EP-A 0 084 633 und in einer Ausfuhrungsvariante der DE-A 4 215 602 vurde ein Austrittskanalquerschnitt der Dūse mit einem sich verāndernden Ģuerschnitt beschr ieben. In der EP-A 0 084 633 vurde der Gasstrom senkrecht auf die Gevebebahn gefuhrt. In der DE-A 4 215 602 vurde eine fāschlicherveise als Laval-Duse bezeichnete Duse mit einem nach einer Verengung sich birnenformig erveiternden und vieder verengLV 11854
- 3 enden Ouerscbnitt verwendet.
Die Erfindung lost die Aufgabe, eine Entstaubung einer bewegten, stabilen, fur die Entstaubung nicht in Vibration zu versetzende Materialbahn vorzunehmen, bei der auf Entladungselektroden verzichtet werden kann.
Der Erfindung liegt die 1. uberrascbende Erkenntnis zugrunde, dass ledlglich durch die Auswahl eines Gasstromes, insbesondere dessen Drucks, auf einem zu entstaubenden Bereich einer Materialbahnoberflāche sowie die Auavahl der Distanzierung dieses Bereichs von einer geerdeten Flāche eine effiziente Entstaubung moglich ist. Es wird nun davon ausgegangen, dass die effiziente Entstaubung nur dann moglich ist, wenn der auf dem im zu entstaubenden Bereich erzeugte Gasdruck des Gasstroms so gross ist, dass die dem Produkt aus dem Gasdruck und dem obigen Abstand gemass dem Gesetz von Paschen entsprechende kritische Spannung kleiner ist als die elektrostatische Spannung (Ladung) der Staubpartikel, welche diese hauptsāchlich an der hfaterialbahnoberflāche festhālt.
D.h. unter diesen Verhāltnissen erfolgt eine Selbstentladung der Staubpartikel. Sie werden neutralisiert. Sie haften nun nur noch aufgrund der bedeutend kleineren Van-der-Waals-Kraft und anderer nicht elektrostatischsr Krāfte. Die Gasgeschwindigkeit des die Bedingungea des Paschengesetzes erzeugenden Gasstroms ist nun noch derart boch, um auch die nur noch gering anhaftenden Staubpartikel zu entfernen.
Der Entladungseffekt (Gesetz von Paschen) wird noch durch den Effekt der Balloelektrizitāt (Wasserfallelektrizitāt, LenardEffekt) unterstūtzt, wie er durch den sich verengenden Du8enquerschnitt sich ergibt. Hierdurch erfolgt eine wenigstens teilweise Ionisation des durchstromenden Gases, hier Luft, ohne Verwendung irgendeiner elektrische Energie bendtigenden Ionisationseinheit.
Der 2. ūberraschenden Erkenntnis liegt zugrunde, dass durch die Spezialgestaltung der Absaugeinheit der Gasstrom bei einem Ablenkungsvfinkel umgelenkt wird und somit den notigen Absaugeffekt der
- 4 Staubpartikel in die Absaugeinheit fdrdert.
Ausgehend von diesen Erkenntnissen gibt es fūr den Fachmann eine Vielzahl von Ausge3taltungsmdglichkeiten, wobei hier nur eine geringe Auswahl auf gezeigt werden kann.
Der nahezu tāgliche Ausbauvorgang zur Reinigung der Ebchspannungselektroden und deren nachtrāglicher exakten Justage beim Wiedereinbau entfallen somit bei gemāss der Erfindung konstruierten Vorrichtungen.
Die geforderte Gasstromung ist in bevorzugter Weise durch die Ausgestaltung der Einblaseinheit und/oder der Absaugeinheit, wie sie in den abhangigen Patentansprūchen beschrieben ist bzw. sind, erreichbar.
Im folgenden werden Beispiele des erfindungagemāssen Verfahrens sowie der zur Durchfūhrung des Verfahrens in bevorzugter Weise verwendbaren Vorrichtungen anhand der Zeichnungen nšher beschrieben. Neben den hier beschriebenen Dūsenanordnungen und -konstruktionen konnen selbstverstāndlich auch noch andere Ausfuhrungsformen bentitzt werden, sofem die unten beschriebenen Bedingungen fūr eine Entladung der Staubpartikel sowie der Ueberwindung deren Haltekrāfte auf der Materialbahn ohne Vervendung elektrischsr Energie bendtigende Hochspannungselektroden erreicht werden. Weitere Vorteile der Erfindung ergeben sich aus dem nachfolgenden Beschreibungstext. Es zeigen:
Fig. 1 eine schematische Darstellung der Krāfte, welche Staubpartikel auf einer Materialbahn halten,
Fig. 2 das Paschen-Gesetz,
Fig. 3 einen Ouerschnitt durch die Entstaubungsvorrichtung,
Fig. 4a und 4b einen Teilguerschnitt und eine Draufsicht in
Richtung IVb auf eine Einblaseinheit der EntstaubungsvorLV 11854
- 5 richtung mit schlitzformigem Gasaustritt,
Fig. 5a und 5b eine zu den Figuren 4a und 4b analoge Darstellung fur einen in einer Dusenreihe angeordneten Gasaustritt,
Fig. 6 einen Querschnitt durch eine Variante der Entstaubungsvorrichtung mit zwei auf der gleichen Seite der Materialbahnoberflāche angeordneten Einblaseinheiten,
Fig. 7 einen Ģuerschnitt durch eine weitere Variante der Entstaubungsvorrichtung, bei der die zu entstaubende Materialbahn umgelenkt wird,
Fig. 8 einen Querschnitt durch die in Figur 3 dargestellte Entstaubungsvorrichtung, jedoch mit Stromungsbeeinflussungselementen in der Einblas- und Absaugeinheit,
Fig. 9 eine Draufsicht in Blickrichtung IX in Figur 8 auf die Strdmungsbeeinflussungselemente der Einblaseinheit,
Fig. 10 eine Draufsicht in Blickrichtung X in Figur 8 auf die Strdmungsbeeinflussungselemente der Absaugeinheit,
Fig. 11 einen LSngsschnitt durch eine Variante einer Einblasund Absaugeinheit und
Fig.12 eine schenatische Darstellung einer Entstaubungsvorrichtung mit der in Figur 11 dargestellten Einblas- und Absaugeinheit zur Entstaubung von blattformigem Gut.
In Figur 1 sind die auf Staubpartikel S wirkenden elektrostatischen und Van-der-Vaāls-Krāfte E und W schematisch dargestellt. Oftmals sind die Staubpartikel S zusātzlich durch Flūssigkeitsbriicken F festgehalten. Der auf die Staubpartikel S einvirkende Gasstrom G tritt auf der rechten Seite B der
Figur 1 ein. Der Gasstrom G wird auf der linken Seite A abgesaugt.
In Figur 2 ist das Gesetz von Paschen - die Abhāngigkeit der kritischen Spannung U/krit vom Produkt aus Druck p und Abstand d fūr unterschiedliche Gase - aufgetragen. Figur 2 ist eine Kopie der Abbildung 6.20 aus K. Simonyi,, Physikalische Elektronik, Verlag B.G. Teubner Stuttgart, 1972, Seite 526. Das Gesetz von Paschen ist u.a. in dem hier gerade zitierten Buch auf den Seiten 524 bis 526, sowie in Ch. Gertsen, Ph.ysik Springer-Verlag 1960, S. 303 beschrieben. Durch dieses Gesetz wird die kritische elektrische Spannung U/krit angegeben, bei der eine Entladung zwischen zwei ebenen Elektroden zundet, wobei p der Druck im Gasstrom zwischen den Elektroden ist. Das Druck-AbstandsProdukt p-d ist auf der Abszisse der Figur 2 in Torr-cm angegeben, wobei 1 Torr 133 Pa bei 0* C ist.
Erfindungsgemāss wird nun das Gesetz von Paschen bei der Entstaubung einer Materialbahn 1 verwendet. Die Staubpartikel S haften infolge ihrer elektrischen Ladung auf dieser. Es wird nun erfindungsgemāss eine Einblaseinheit 3a/b der Entstaubungsvorrichtung mit einer geerdeten Potentialflāche in einem Abstand d von der Materialbahnoberflāche angeordnet und die Geschwindigkeit und der Druck zwischen der Materialoberflāche und der Potentialflāche des aus der Einblaseinheit 3 austretenden Ueberschall-Gasstroms G derart eingestellt, dass die Spannung, hervorgerufen durch die geladenen Staubpartikel S, gleich der kritischen Spannung U/krit im Paschen-Gesetz ist. Es kann, nun aus der Figur 2 das fūr die kritische Spannung U/krit benotigte Produkt p-d herausgesucht werden. Nun wird der Gasdruck zwischen der die Staubpartikel S tragenden Materialoberflāche und der geerdeten Potentialflāche derart eingestellt, dass bei vorgegebenem konstruktivem Abstand d zwischen der Materialoberflāche und der geerdeten Potentialflāche der oben herausgesuchte Wert des Produkts p-d angenāhert'wird. Mit Hilfe eines elektronischen Feldmeters, kann festgestellt werden, wie hoch die elektrische Ladung ist. Hierdurch ist eine Optimierung des Produkts p-d bei der Montage und Einstellung der Entstaubungsvorrichtung moglich.
- 7 Die geforderten Bedingungen lassen sich mit dem Ueberschallgasstrom G erreichen. Die entladenen Staubpartikel S werden nun durch den Ueberschall-Gasstrom G ohne Verwendung elektrisch vorgespannter Entladungselektroden aufgenonnen und mit einer Absaugeinheit 7 abgesaugt. Die hohen Uaterhaltskosten, wie sie fur Anlagen mit elektrisch vorgespannten Entladungselektroden benotigt werden, entfallen somit hier.
Die Einblas- wie auch die Absaugeinheit 3a/b, bzw. 7a/b sind aus Mstall hergestellt und geerdet. Es ist deshalb der Abstand der Einblaseinheit 3a/b von der Oberflāche der Materialbahn 1 gleich dem Abstand d der Geerdeten Potentialflāche von dieser.
Um eine gute elektrische Leitfāhigkeit zu erhalten, konnen die der Materialbahn 1 zugewandten Oberflāchen der Einblas- wie auch die Absaugeinheit 3a/b, bzw. 7a/b mit einer elektrisch leitfahigen Schicht beschichtet sein. Bei Aluminium wurde man z.B. ein Anodisierungsverfahren vervenden, um eine gute elektrische Leitfāhigkeit zu erhalten.
Bei der in Figur 3 im Ģuerschnitt dargestellten Entstaubungsvorrichtung ist sowohl eine Entstaubung der Ober- wie auch der Uhterseite 9a, bzw. 9b der Materialbahn 1 mbglich. Es sind hierzu uber der Ober-, wie auch iiber der Uaterseite 9a, bzw. 9b je eine Einblas- 3a und 3b und je eine Absaugeinheit 7a und 7b angeordnet. Die Bewegung der Materialbahn 1 erfolgt in Richtung des Pfeils 11. Die Fdrdergeschwindigkeit der Materialbahn 1 liegt bei dem hier beschriebenen Ausfiihrungsbeispiel bei 4,75 bis 15 m/s. Die Fordergeschwindigkeit hat keinen Einfluss auf den Wirkungsgrad der Entstaubungsvorrichtung.
Die unten beschriebene Einblaseinrichtung 3a, bzw. 3b ist derart ausgebildet, dass aus ihr ein Ueberschall-Gasstrom, hier ein Ueberschall-Luftstrom G austritt. Der aus der Einblaseinrichtung 3a/b austretende Gasstrom G trifft auf die Oberflāche der Materialbahn 1 unter einem Winkel α zwischen 20* und 100*, bevorzugt zwischen 30' und 55* gegen deren Bewegungsrichtung 11 ein. Die Absaugung der von der Materialoberflāche abgehobenen
- 8 Staubpartikel S erfolgt in der Stromungsrichtung 25 des ausstromenden Gases G nachgeschaltet unter einem ersten Winkel σ zwischen 20* und 70*, bevorzugt unter etwa 45* und noch einmal nachgeschaltet an einer zweiten Stelle etwa senkrecht zur tfeterialoberflāche. Diese zveite Absaugung wirkt insbesondere auf in Vertiefungen und Lochem liegende Staubpartikel S.
Die Einblaseinheit 3a/b hat einen zweigeteilten, unten beschriebenen Dusenaufbau. Ausgehend von einem Druckkanal· 13 als Gasversorgungseinheit ist ein sich stetig verjūngender Dusenquerscbnitt 15 vorhanden, der nach einer Verengung 17 in einen sich stetig erweiternden Dusenquerschnitt 19 bis zum Dusenausgang 20 ūbergeht. Die Breite der Verengung 17 liegt zwischen 0,02 mm und 0,08 nm, bevorzugt unter etwa 0,04 mm. Der Oeffnungswihkel am Dūsenausgang 20 liegt zvischen 3 * und 15 *, bevorzugt jedoch zwischen 5 * und 10 *. Die im Querschnitt der Figur 3 links liegende Mantellinie im sich erweitemden Dusenquerschnitt 19 ist gevolbt ausgebildet, wāhrend die gegenūberliegende hfentellinie eine Gerade 21 ist. Diese Gerade 21 verlāuft unter dem Winkel a zur Ebene der Materialbahn 1. Der Winkel a liegt zwischen 20* und 100*, bervorzugt zwischen 30* und 55*. Der Randpuhkt 22 dieser Geraden 21 am Dusenausgang 20 hat den geringsten Abstand d zur Ifeterialbahn 1, der je nach zu entstaubendem Material zwischen 0,5 und 2 mm liegt. Dieser Abstand d entspricht dem Abstand d des Paschen-Gesetzes. Die Oeffnung 23 zwischen den beiden Einblaseinheiten 3a und 3b ist in Bewegungsrichtung 11 als dreifach sich erweiterndes V” ausgebildet, dessen Schenkel-Winkel sich an jeder Uebergangsstufe 24a und 24b vergrossert.
Der Gasaustritt aus der Dusenoffnung 20 erfolgt, wie in der Figur 3 durch einen Pfeil 25 angedeutet ist, schrāg auf die i-feterialbahn 1 entgegen deren Bewegungsrichtung 11 in Richtung auf die betreffende Absaugeinheit 7a, bzw. 7b hin.
Der Randpunkt 22 ist als scharfe Kante ausgebildet. Durch diese scharfe Kante 22 entsteht beim Austritt der
- 9 Ueberschallstromung G aus dem. Dusenausgang 20 ein Stromungswirbelbereich, dessen Turbulenzen ein Abheben der gemass dem Paschen-Gesetz entladenen Staubpartikel S von der Oberflāche 9a, bzw. 9b der Materialbahn 1 entgegen der Van-der-Waalschen-Krāfte W unterstutzt. Die Einblaseinheiten 3a und 3b sind aus Metāli und durch eine schematisch dargestellte elektrische Erdung analog zur Absaugeinheit 7a und 7b geerdet. Der Dusenausgang 20 liegt in einer Ebene 6, welche die Materialbahn 1 in einem Winkel zwischen 25' und 65', bevorzugt unter 45' schneidet.
Analog zu den beiden Einblaseinheiten 3a und 3b sind auch zwei Absaugeinheiten 7a und 7b vorhanden. Die beiden Absaugeinheiten 7a und 7b sind symmetrisch zueinander angeordnet und ausgebildet. Jede der beiden Absaugeinheiten 7a und 7b hat zwei Absaugkanāle 27 und 29, welche in eine Absaugkammer 30 iminden. Die Eingānge der Absaugkanāle 31a und 31b sind in einer Ebene 33 angeordnet, welchs einen konstanten Abstand von der Ober-, bzw. Uaterseite 9a, bzw. 9b der Materialbahn 1 aufveist. Die Ebene 33 ist gleichzeitig die der Ifeterialober-, bzw. Uaterseite gegeniiberliegende Oberseite der Absaugeinheit 7a, bzw. 7b. Bevorzugt werden die Absaugeinheiten 7a und 7b aus elektrisch leitfāhigem Material (Mstall) gefertigt. Sollte jedoch anderes tfeterial vervendet werden oder das Metāli sich im Laufe der Zeit mit einem nichtleitenden Korrosionsūberzug uberziehen konnen, so ist diese Ober flāche, wie auch diejenige der Einblaseinheiten 3a und 3b, wie bereits oben ausgefuhrt, mit einer elektrisch leitfāhigen Schicht zu versehen. Die Ebene 33 ist, wie in Figur 3 dargestellt, gegenuber dem Dusenausgang 20 zuruckversetzt. Diese Zurūckversetzung kann auch kleiner sein. Die Ebene 33 konnte auch direkt anschliessend an den Dusenausgang 20 angeordnet sein.
Der Absaugkanal 27 hat einen sich trichterformig verjungenden, gegen die Ober flāche der Materialbahn 1 geneigten Absaugmund 35. Die Neigung des Ansaugmundes 35 ist in Richtung zum Dūsenausgang 20 gerichtet. Die dem Dūsenausgang 20 zugewandte Mantellinie 36a des trichterformigen Absaugmundes 35 weist einen. moglichst flachen Winkel fi zur Oberflāche der Materialbahn 1 auf. Der Winkel β liegt zwischen 15' und 30' Die der Mantellinie 36a gegenūberliegende andere Mantellinie 36b des Absaugmundes 35 verlāuft steiler und weist zur Oberflāche der Materialbahn 1 einen Winkel σ zwischen 20' und 70' auf. Da auf jeden Fall der Absaugmund 35 trichterformig ausgebildet sein soli, verbietet sich von selbst, dass bei den Winkeln 8 und σ die beiden Winkelextrenwerte von 30' zusaamen verwendet werden konnen.
Der Absaugmund 35 geht dann in ein verengtes Kanalstūck 37 uber, dessen eine Mantellinie die Verlāngerung der Mantellinie 36b ist. Dieses Kanalstūck 37 erveitert sich zu einem weiteren Kanalstūck 39, welcbes dann in die Absaugkammer 30 einmiindet.
Der Abstand h des Schnittpunktes der Mantellinie 36b mit der Ebene 33 von der Kante 22 (= das eine untere Ende der Geraden 21) ist zehn- bis fūnfundzwanzigmal der Abstand d.
Durch die Anordnung der Einblaseinbeit 3a, bzw. 3b wird der Absaugkanal 27 von eventuell anhaftenden Staubpartikeln S freigespūlt.
Der Absaugkanal 29 ist ebenfalls trichterformig ausgebildet, vrobei jedoch dessen dem Dūsenausgang 20 zugevandte Mantellinie 40a senkrecht zur Oberflāche der Materialbahn 1 verlāuft, wāhrend die hierzu gegenūberliegende Mantellinie 40b leicht zur Oberflāche der Materialbahn 1 geneigt verlāuft.
Die Absaugkammer 30 weist wenigstens jeweils an einer ihrer gegenūberliegenden Wānde eine Profilierung 44 auf.
Diese Profilierung 44 dient zum Einhāngen nicht dargestellter Stromungsleitbleche. Die Strdmungsleitbleche sind notvendig,
- 11 damit in der Absaugkammer 30 mbglichst uber allen Einrraindungen der Kanāle 27 und 29 annaherad gleiche Druckverhāltnisse herrschen.
Zum Entstauben der mit einer Geschwindigkeit von bis zu 30 m/s bevegten Materialbahn l wird Luft G mit der Einblaseinheit 3a und 3b mit einer Luftgeschwindigkeit von bis zu maximal 550 m/s geblasen. Uīn diese Ausstromgeschwindigkeit zu erreichen, herrscht im Druckkanal 13 ein Druck von etwa 2 bar. Auf der Oberflāche der Materialbahn 1 ergibt sich dann ein Druck, je nach gewāhlter Ueberschall-Gas-Geschwindigkeit, von 50 bis 100 mbar. Die auf der Oberflāche der Materialbahn 1 sich befindenden Staubpartikel S werden nun aufgrund der oben beschriebenen Gesetzmāssigkeiten von Paschen in einer Duhkelentladung, welche im Prinzip eine Glimmentladung bei sehr kleinen Stromstārken ist, neutralisiert. Gleichzeitig erfolgt ein Abheben der Staubpartikel S durch den Ueberschalluftstrom G, unterstūtzt durch die Verwirbelung, hervorgerufen durch die Kante 22 entgegen der auf sie virkenden Van-der-Waals-Krāfte. Die Staubpartikel S werden durch die Absaugkanāle 27 und 29 abgesaugt, wobei der nahezu senkrecht zur Oberflāche der Materialbahn 1 verlaufende Kanal 29 hauptsāchlich dažu dient, Staubpartikel S aus Vertiefungen und Lochem aufzunehmen.
Die eingeblasene Luft durch die Einblaseinheit, bzw, -einheiten 3a und 3b sowie die Absaugleistung der Absaugeinheit, bzw, -einheiten 7a und 7b liegt im Temperaturbereich von 18’ C bis 23’ C. Im Raum, in velchem die Entstaubungsvorrichtung steht, herrscht ein Ueberdruck.
Der Dūsenausgang 20 wie auch die Eingānge zu den Kanālen 27 und 29 konnen nun, wie in Figur 4a und Figur 4b einnal vergrossert im Ouerschnitt und einmal in Draufsicht dargestellt ist, als Lāngsschlitze 41 und einmal als Dusenreihen 43, wie in den Figuren 5a und 5b dargestellt ist, ausgebildet werden.
- 12 Zur Verbesserung des Aufnahmevorgangs der Staubpartikel S in den Ueberschallgasstrom G konnen im sich erweiternden Dusenquerschnitt 19 der Einblaseinheit 3a und 3b, sowie auch in den beiden Absaugkanālen 27 und 29 Stromungsbeeinflussungselemente 49, 50 und 51, wie in Figur 8 angedeutet, angeordnet werden.
Bei den im Dusenbereich 19 an der Wandung 21 angeordneten Stromungsbeeinflussungselementen 49 handelt es sich um schmale Lāngsstege, wie sie in einer Draufsicht in Blickrichtung IX in Figur 9 dargestellt sind. Jeder Lāngssteg 49 liegt in einer zur Bewegungsrichtung 11 parallel verlaufenden Ebene, welche unter einem Winkel von 82* zur Materialbahn 1 steht. In dem oben beschriebenen Beispiel haben die Lāngsstege 49 eine Breite von 1 mm und einen gegenseitigen Abstand von 15 mm.
Bei denen in den Absaugkanālen 27 und 29 angeordneten Reihen von Stegen 50 und 51 handelt es sich um schmale Lāngsstege, wie sie in einer Draufsicht in Blickrichtung X in Figur 10 dargestellt sind. Jeder Lāngssteg 50 und 51 liegt in einer zur Bevegungsrichtung 11 ebenfalls parallel verlaufenden Ebene, welche unter einem Winkel von 60* zur Materialbabn 1 verlāuft. In dem oben beschriebenen Beispiel haben die Lāngsstege 50 und 51 eine Breite von 2 um und einen gegenseitigen Abstand von 30 mm.
Zusātzlich zu den in Figur 3 angeordneten Einblaseinheiten 3a und 3b konnen auch beidseits der Absaugeinheit, bzw. -einheiten 7a und 7b je eine weitere Einblaseinheit, wie in Figur 6 dargestellt, angeordnet werden.
Anstelle von ebenen Materialbabnen 1 konnen auch durch eine Umlenkeinheit 45 umgelenkte Materialbahnen 46 entstaubt werden. Die Lage der Einblas-, wie auch die der Absaugeinheit ist dann, wie in Figur 7 dargestellt, dem Verlauf der Materialbahn 46 angepasst. Der Ablosewinkel der Materialbahn 46 von der
- 13 Umlenkeinheit 45 liegt bevorzugt zwischen 15' und 20*, um eine elektrische Aufladung durch Ladungsaustausch und Ladungstrennung nicht unnotig anwachaen zu lassen.
Die bereits obenerwāhnte Zveiteilung der Einblaseinheit 3a, bzw. 3b mit den Teilstiicken 3' und 3 gestattet gegeniiber einer einteiligen Ausftihrung eine einfachere Herstellung. Die Teilung erfolgt entlang der Linie 47, welche in die Gerade 19 tibergeht. Die Abdichtung erfolgt iiber einen Dichtring 48, dessen Verlauf je nach Verwendung der Dtisenreihe 43 oder des Lāngsschlitzes 41 gelegt wird. Durch die Teilung der Einblaseinheit 3a, bzw. 3b ist eine einfache Herstellung der Stromungsbeeinflussungseleniente 49 erst mbglich.
Die Einblaseinheit 3a und 3b, sowie die dazugehbrenden Absaugeinheiten 7a und 7b werden bevorzugt als Blocke ausgebildet, welche parallel zur Bewegung der Materialbahn 1 aneinander gereiht angebaut werden konnen, um die Breite der Entstaubungsvorrichtung der jeveiligen zu entstaubenden Materialbahnbreite anpassen zu konnen.
Anstelle die Materialbahn zu bevegen, kann selbstverstāndlich auch die Entstaubungsvorrichtung iiber die Materialbahn bewegt werden. In der Regel wird man aber die Materialbahn unter, bzw. zvischen den Diisenaus- und -eingāngen hindurchziehen.
Mit der oben beschriebenen Entstaubungsvorrichtung konnen nicht nur Materialbahnen entstaubt werden, sondern auch Platten und Bogen.
Die oben beschriebene Entstaubungsvorrichtung kann zum Entstauben von jeglichem bahnformigen und plattenformigen Material, wie Press-Spanplatten, Tischlerplatten, Kunststoff-, Papier-, Pappbānder, Glas, allg. Folien, Metāli- und medizinische Folien, Textilien, Leiterplatten, Industriegeflechte, Film- und Magnetstreifen etc. verwendet werden.
- 14 Anstelle der in den Figuren 3 bis 10 dargestellten Einblaseinheit 3a und 3b kann auch eine in Figur 11 dargestellte Einheit 53 verwendet werden, welche eine Vereinigung einer Einblasmit einer Absaugeinheit darstellt. Ferner wird hier gegeniiber den Einblaseinheiten 3a und 3b mit einer Gasausstromgeschwindigkeit im Uaterschallbereich gearbeitet; es kann jedoch auch im Bereich der Schallgeschwindigkeit gearbeitet werden. Analog zu den Einblaseinheiten 3a und 3b ist auch die Eihheit 53 aus zwei geerdeten DUsenteilen 54a und 54b aufgebaut und hat eine Verengung 55 des Dilsenkanalguerschnitts 56. Ausgehend von einem zum Druckkanal 13 analog ausgebildeten Druckkanal 57 hat auch diese Duse einen sich verjungenden Dusenquerschnitt 59 (analog zu 15). Im Gegensatz zu den Einblaseinheiten 3a und 3b ist jedoch hier die gerade Mantellinien aufweisende Verengung 55 bis zum Dusenausgang 60 vorgezogen und somit bedeutend lānger.
D.h. es erfolgt hier eine stārkere Ionisationsvirkung (Balloelektrizitāt) auf den durchfliessenden Gasstrom. Die Achse der Verengung 55 weist einen bevorzugten Vihkel $ von etwa 51’ mit der Tangente 68 zur Materialoberflāche 71 auf. Es konnen auch andere Werte fur den Winkel & zwischen 20’ und 100' und insbesondere zvischen 30’ und 55’ vervendet werden. Der im Ausfuhrungsbeispiel aufgefūhrte Wert erlaubt jedoch ein optimales Ar bei ten, insbesondere im Hinblick auf einen geringen Luftverbrauch und ein gutes AndrUcken der zu entstaubendea Materialbahn 71 an die Troranel 74 (Druckzylinder).
Auch diese Einheit 53 hat analog zu den obigen Einblaseinheiten 3a und 3b einen sich stromungstechnisch erveiternden Dusenquerschnitt, den jetzt hier der Raum 61 vor dem Dusenausgang 60 bildēt. Im Gegensatz zu den obigen Einblaseinheiten 3a und 3b ist nāmlich hier die zur unteren Kante 22 analog ausgebildete Kante 63 der einen Dusenkanalseite gegeniiber der anderen um eine Kantenhdhe a von 0,1 mm bis 0,9 nm, hier um 0,6 mm nach aussen verlāngert. Diese Verlāngerung bewirkt einerseits eine Dusenkanalerweiterung und andererseits eine Umlenkung des austretenden Gasstroms, wie mit dem Rfeil 64 angedeutet ist. Dieser Gasstrom bewirkt somit einen AbsaugLV 11854
- 15 effekt, der die Staubpartikel in die Absaugeinheit 65 fordert, die letztlich durch eine angeordnete Reihe von Stegen im Absaugkanal fur die Stromungsrichtung sorgt und zuletzt eine sehr vichtige Rolle fur die Forderung von Staubpartikeln bis zum Absaugschlauch bewirkt.
Die Breite b der Verengung 55 wird zusammen mit dem Gasdruck im Druckkanal 57 derart eingestellt, dass eine optimale Entstaubung bei mbglichst geringem Luftverbrauch erfolgt. Bei der hier beschriebenen Ausfuhrungsvariante wird mit einer Breite der Verengung von 0,04 mm bei einem Druck von 1,5 bar im Druckkanal 57 und einem Abstand d/53 von 4 mm bis 7 mm, bevorzugt 5 nm gearbeitet. Die Neigung des verengten Dusenkanals 55 gegenūber der Tangente 68 zur Materialbahn 71 betrāgt hier beispielsveise 51 *.
In die Einheit 53 integrierte Absaugeinheit besteht in einem annāhemd zum Absaugkanal 35, 37 und 39 analog ausgebildet en Absaugkanal 65, wobei hier in einer einfacheren konstruktiven Ausfuhrung die eine Kanalwand lediglich durch ein ansetzbares entsprechend geformtes Blech 67 gebildet ist.
Auch hier weist der Einlauf des Absaugkanals 65 analog zu dem bereits oben beschriebenen einen spitzen Winkel Φ in Transportrichtung 70 der Materialbahn auf. Der Winkel Φ sollte einen Wert zwischea 20* und 50* haben und bevorzugt zwischen 33* und 39* liegen. Der dem Dūsenausgang 60 abgvandte Rand der Eingangsoffnung des Absaugkanals 65 befindēt sich in einem Abstand e, der bei dem Ausfuhrungsbeispiel 17 mm betrāgt.
Um den fūr die Entstaubung benotigten Luftverbrauch zu minimieren, ist der Druckkanal 57 in Ouerrichtung zur Materialbahn 71 in einzelne Teilkanāle unterteilt. Diese nicht explizit dargestellten Teilkanāle, velchs in den Figuren 11 und 12 mit dem Bezugszeichen 57 identisch sind, sind ūber jeweils einen mit einem (nicht dargestellten) Kolben verschliessbaren Versorgungskanal mit einer Versorgungs- 16 kanrner 69 verbunden. Zum Druckausgleich haben die Versorgungskanāle geringfugig sich āndernde Stromungsquerschnitte. Die Kolben sind uber einen nicht dargestellten Machanismus derart verstellbar, dass beginnend von der āusseren Peripherie ein Versorgungskanal nach dem anderen und damit auch ein Teilkanal nach dem anderen von der Luftzufuhr und damit von der Versorgungskanmer 69 abtrennbar ist. Hiermit ist eine Anpassung an die tatsāchlich zu reinigende Bahnbreite moglich. Es vird nur die benotigte Anzahl Teilkanale mit Druckluft versorgt und damit der Luftverbrauch optimiert, d.h. minimiert.
Die Anordnung der Einblas-/Absaugeinheit 53 in einer Entstaubungsvorrichtung fur blattformiges Gut 71 zeigt Figur 12. Die zu reinigenden Blātter 71 verden jeweils mit einer Klanner 72 auf einer ersten Tronnel 73 (Zufuhrzylinder) gefasst und gebalten. Die Uebergabe an eine zveite Tronnel 74 (Druckzylinder) erfolgt in deren Annāherungsort 76 mit benachbarten Klammern 72 und 75, vobei synchron zueinander die Klanmer 72 geoffnet und die Klammer 75 zur Bogenubemahme geschlossen vird. Die Darstellung in Figur 12 zeigt das bereits von der Klanner 75 gefasste Gut 71 bei geoffneter Klanner 72, vobei ein Teil des blattformigen Gūts 71 noch auf der Troimel 73 anliegt, sovie auf diese aufgezogen vird. Der Tronnel 74 zugeordnet ist die Einblas-/Absaugeinheit 53, an der in Ģuerrichtung zur Breite des Gūts 71 Sicherheitsrollen 77 angeordnet sind, velche eine Fūhrung des blattformigen Gūts 71 bei einem Luftstromausfall oder einer nicht einvandfreien Blattubergabe sicherstellen sollten.
Infolge der bohen verwendeten Rotationsgeschvindigkeiten der Troimeln 73 und 74 tendieren die Bogen 71 (Gut) zum Herausschlagen, bzv. zum Ablosen von der Troimeloberflāche. Mit den erfindungsgemāssen Vorrichtungen lāsst sich nun durch Einstellung des Luftdrucks dieses Abheben neben der Entstaubung zufriedenstellend einstellen. Wird der Luftdruck
- 17 jedoch derart eingestellt, dass lediglich eine einwandfreie Entstaubung erreicht wird, kann dieser fur die Fixierung der Bogen zu gering sein. In diesem Fall ubernimmt dann die Sicherheitsrolle 77 die gevrunschte Niederhaltung.
Claims (13)
1. Verfahren zum Entfemen von Staubpartikeln (S) von einer relativ bewegten, insbesonderen stabilen Materialbahnoberflāche (1; 71) mit einer beruhrungsfrei arbeitenden Entstaubungsvorrichtung, dadurch gekennzeichnet, dass ein geerdeter, der Materialbahnoberflāche (1; 71) zugewandter Potentialflāchenbereich (6, 33; 54a, 54b) einer Einblaseinheit (3a, 3b; 53) der Entstaubungsvorrichtung in einem Abs t and (d; d/53) zur Materialbahnoberf lāche (1; 71) angeordnet wird, die Geschwindigkeit und der Druck (p) zwischen einem jeweils zu entstaubenden Materialbahnoberf lāchenbereich und der Potentialflāche (6, 33; 54a, 54b) des aus der Einblaseinheit (3a, 3b; 53) austretenden Gasstroms (G) derart eingestellt werden, dass die dem Produkt aus Druck (p) und Abstand (d; d/53) gemāss dem Gesetz von Paschen zugeordnete kritische Spannung (U/krit) unter der elektrostatischen Spannung (E) der Staubpartikel (S) auf der Materialbahnoberflāche (1; 71) liegt, damit deren Neutralisation erfolgt und somit eine Uebervindung der Haltekrāfte (E/W) der Staubpartikel auf der Materialbahnoberflāche gegeben ist und diese (S) ohne eine elektrische Energie benotigende Ionisationseinheit, lediglich durch den Gasstrom (G) aufgenommen und von wenigstens einer Absaugeinheit (7a, 7b; 65) abgesaugt werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Gasstrom, insbesondere ein Luftstrom (G), unter einem Wihkel (a, i) zwischen 20' und 100', bevorzugt zwischen
30’ und 55' auf die Materialbahnoberflāche (1; 71) geblasen und durch wenigstens eine entgegen der Gasstromrichtung nachgeschaltete, d.h. in Materialtransportrichtung (11; 70) vorgelagerte Absaugeinheit (7a, 7b; 65) abgesaugt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die durch den Gasstrom (G) von der Materialbahnoberflache abgehobenen Staubpartikel (S) von einer unter einem Winkel (σ; Φ) zwischen 20' und 70”, bevorzugt unter 45' gegen die Gasstromrichtung (25) geneigten ersten Absaugoffnung (27; 65) sowie vorzugsweise mit einer zusātzlichen zweiten annāhernd senkrecht zur Materialbahnoberf lache (1) stehenden Absaugoffnung (29) aufgenommen werden.
4. Entstaubungsvorrichtung zur Durchfuhrung des Verfahrens nach einem der Ansprūche 1 bis 3 mit einer Versorgungseinheit (13; 57) verbundenen Einblaseinheit (3a, 3b; 53) sowie einer Absaugeinheit (7a, 7b; 65), dadurch gekennzeichnet, dass die Einblaseinheit (3a, 3b; 53) ausgehend von der Versorgungseinheit (13; 57) einen stetig sich verjtingenden Dusenguerschnitt (15; 59) aufweist, der nach einer Verengung (17; 55) in einen sich erweitemden Ouerschnitt (19; 61) ubergeht, die Einblaseinheit (3a, 3b; 53) einen dem Staubpartikel (S) tragenden Materialbahnoberflāchenbereich (1; 71) zugewandten, geerdeten, elektrisch leitenden Oberflāchenbereich (6, 33; 54a, 54b) hat, wobei der Gasdruck in der Versorgungseinheit (13; 57) sowie der Abstand (d; d/53) des geerdeten Oberflāchenbereichs (6, 33;
54a, 54b) von dem jeveils kontinuierlich zu entstaubenden Materialbahnoberflāchenbereich (1; 71) derart einstellbar sind, dass die Staubpartikel (S) hier ohne jeglichen Einsatz einer an eine elektrische Energiequelle anzuschliessenden Ionisationseinheit zur Ionisation des Gasstroms ablosbar und durch die Absaugeinheit (7a, 7b; 65) absaugbar sind.
5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass der Gasdruck in der Versorgungseinheit (13; 57) der Abstand (d; d/53) der geerdeten Potentialflāche (6, 33; 54a, 54b) vom zu entstaubenden Materialbahnoberf lāchenbereich (1; 71) sowie die Ausgestaltung des Dusenguerschnitts (15, 17, 19; 59, 56, 55, 61) und dessen Lage zum zu entLV 11854
- 20 staubenden Bereich derart eingestellt sind, dass die kritische Spannung (U/krit) des Gesetzes von Paschen in Abhangigkeit des Produkts aus dem Abstand (d, d/53) und einem durch den Gasdruck in der Versorgungseinheit (13;
57) zwischen dem geerdeten Oberflachenbereich (6, 33;
54a, 54b) und dem zu entstaubenden jeweiligen kontinuierlich vorbeiziehbaren Materialbahnoberflāchenbereich (1; 71) mit der Einblaseinheit (3a, 3b; 53) erzeugbaren zweiten Gasdruck (p) unter der die Staubpartikel (S) u.a. im Bereich haltenden elektrostatischen Spannung (E) liegt.
6. Vorrichtung nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, dass der Dusenausgang derart angeordnet ist, dass dessen austretender Gasstrom entgegen der Transportrichtung (11; 70) der Materialbabn (1; 71) auf diese auftrifft.
7. Vorrichtung nach einem der Anspriiche 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Achse des Dusenkanals (21; 55) der Einblaseinheit (3a, 3b; 53) in einer zur Materialbahn (1; 71), bzw. deren Tangente (68) unter einem Winkel (α; i) zwischen 20’ und 100', bevorzugt zwischen 30’ und 55’ liegenden Ebene liegt.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Wandung der Dūse der Einblaseinheit (3a, 3b; 53) zu deren Achse wenigstens einen unsymmetrisch ausgebildeten Wandbereich, insbesondere im Bereich der Oeffnung (20; 60) aufweist, wobei eine der Dūsenkanalnantellinien der Einblaseinheit (3a, 3b; 53) eine Gerade (21; 55) ist, welche in einer zur Materialbahn (1; 71) unter einem Winkel (α; i) zwischsn 20 ’ und 100 ’, bevorzugt zwischen 30 ’ und 55 ’ verlaufenden Ebene liegt.
9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die gerade Dusenkanalmantellinie (21; 55) am Dusenausgang (20; 60) in einer scharfen Kante (22; 63) endet, um einen von hier gegen die Materialbahnoberflāche ausgehenden
Stromungsverwirbelungsbereich zu erzeugen.
10. Vorrichtung nach einem der Anspruche 4 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass der Absaugmund (35) der Absaugeinheit (27; 65) sich trichterformig ausgehend von der Absaugoffnung Ola) verjungt, wobei eine der Dusenmantellinien eine erste Gerade (36a) ist,. welche in einer zur Materialbahn (1; 71) unter einem Winkel (β, Φ) zwischen 15' und 50’, insbesondere zwischen 33' und 39’ liegenden Ebene ver14uft.
11. Vorrichtung nach einem der Anspruche 4 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Einblaseinheit (3a, 3b; 53) aus wenigstens zwei Teilstucken (3', 3; 54a, 54b) ausgebildet ist und bevorzugt die oder eine der Trennungslinien (47) durch die Gerade (21; 55) der Dusenkanalnantellinie verlāuft.
12. Vorrichtung nach einem der Anspruche 4 bis 11, gekennzeichnet durch eine blockweise Unterteilung bevorzugt parallel zur Relativbewegungsrichtung (11; 70) der Materialbahn (1; 71), um die Vorrichtungsbreite an die Breite der īfeterialbahn (1; 71) auf einfache Weise konstruktiv anpassen zu konnen.
13. Vorrichtung nach einem der Anspruche 4 bis 12, gekennzeichnet durch eine erste und eine zweite in Relativbewegungsrichtung (11) der Materialbahn (1) voneinander distanziert angeordnete Einblaseinheit (3a), welche beidseits der Absaugeinheit (7a) abgeordnet sind, wobei bevorzugt die Achsen der Einblasdusenkanale der ersten und der zweiten Einblaseinheit gegeneinander gerichtet sind.
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