KR970703280A - 금속 산화물 석출물의 제조 방법(process for preparing precipitate of metal oxide) - Google Patents

금속 산화물 석출물의 제조 방법(process for preparing precipitate of metal oxide)

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Abstract

본 발명은 희토류의 플루오르 착화합물 및/또는 플루오라이드를 함유한 수용액 또는 플루오르수소산 용액 중에 플루오라이드 이온 포집제를 포함시켜, 희토류 산화물 또는 그것을 주성분으로 하는 고용체로 이루어진 석출물을 형성시키는 금속 산화물의 제조 방법과, 지르코늄 및/또는 하프늄의 플루오르 금속 착화합물 및/또는 금속 플루오라이드를 함유한 수용액 또는 플루오르수소산 용액 중에 씨 결정 및 플루오라이드 이온 포집제를 포함시켜 그 금속 산화물 결정, 또는 그것들을 주성분으로 하는 고용체로 이루어진 석출물의 결정을 형성시키는 금속 산화물 석출물의 제조 방법에 관한 것이고, 또한 결정화를 위한 가열 공정이 필요없는 간단한 장치를 이용하여, 희토류 산화물의 석출물 및 산화지르코늄 및/또는 산화하프늄의 결정 석출물을 제조하기에 알맞으며, 특히 넓은 면적이나 복잡한 기재의 표면에 금속 산화물의 박막 등으로서의 석출물을 제조에 적당하게 된다.

Description

금속 산화물 석출물의 제조 방법(PROCESS FOR PREPARING PRECIPITATE OF METAL OXIDE)
[도면의 간단한 설명]
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (16)

  1. 희토류 금속의 플루오르 금속 착화합물 및 금속 플루오라이드 중에서 선택된 최소한 한 가지 화합물을 함유한 수용액 또는 플루오르수소산 용액 중에 플루오라이드 이온 포집제를 포함시켜 희토류 산화물 또는 그것을 주성분으로 하는 고용체로 이루어진 석출물을 형성하는 것을 특징으로 하는 금속 산화물 석출물의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 기재를 상기 용액에 담궈 기재 표면에 상기 석출물을 형성시키는 제조 방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 석출물이 박막인 제조 방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 플루오르 금속 착화합물과 상기 금속 플루오라이드 중에서 선택된 화합물의 최소한 한 가지가 플루오르수소산 용액내에서 상기 금속 산화물을 반응시킴으로써 생성되는 제조 방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 수용액 중에 희토류 산화물의 씨 결정을 포함하는 제조 방법.
  6. 제5항에 있어서, 희토류 산화물을 플루오르수소산 용액내에서 반응시킨 후에, 미세 결정을 용액 중에 잔존시켜 씨 결정으로 이용하는 제조 방법.
  7. 제1항에 있어서, 플루오르 금속 착화합물이, 일반식(I) :
    AaMbFc(I)
    (식 중, A는 서로 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 원자, 알칼리 금속 원자, 암모늄기 또는 배위수를 나타내고, M은 희토류 금속을 나타내며, a, b 및 c는 각각 1 이상의 수인데, 상기 금속 착화합물을 전기적으로 중성으로 만드는 수임)로 나타내는 제조 방법.
  8. 제1항에 있어서, 금속 산화물이 산화이트륨과 산화란탄늄 중에서 선택된 최소한 한 가지의 산화물인 제조 방법.
  9. 제1항에 있어서, 플루오라이드 이온 포집제가 붕산인 제조 방법.
  10. 지르코늄과 하프늄 중에서 선택된 최소한 한 가지 금속의 플루오르 금속착화합물과 금속 플루오라이드 중에서 선택된 최소한 한 가지 화합물을 함유한 수용액 또는 플루오르수소산 용액 중에서, 산화지르코늄과 산화하프늄 중에서 선택된 최소한 한 가지 산화물로 이루어진 씨 결정과 플루오라이드 이온 포집제를 포함시켜 산화지르코늄 및 산화하프늄 중에서 선택된 최소한 한가지의 산화물의 결정 또는 그것들을 주성분으로 하는 고용체의 결정으로 이루어지는 석출물을 형성하는 것을 특징으로 하는 금속 산화물 결정 석출물의 제조 방법.
  11. 제10항에 있어서, 기재를 상기 용액에 담궈 기재 표면에 상기 석출물을 형성시키는 제조 방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 석출물이 박막인 제조 방법.
  13. 제10항에 있어서, 상기 플루오르 금속 착화합물과 상기 금속 플루오라이드 중에서 선택된 화합물 최소한 한 가지가 플루오르수소산 용액내에서 상기 금속 산화물을 반응시킴으로써 생성되는 제조 방법.
  14. 제10항에 있어서, 희토류 산화물을 플루오르수소산 용액내에서 반응시킨 후에, 미세 결정을 용액 중에 잔존시켜 씨 결정으로 이용하는 제조 방법.
  15. 제10항에 있어서, 플루오르 금속 착화합물이, 일반식(I) :
    AaMbFc(I)
    (식 중, A는 서로 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 원자, 알칼리 금속 원자, 암모늄기 또는 배위수를 나타내고, M은 희토류 금속을 나타내며, a, b 및 c는 각각 1 이상의 수인데, 상기 금속 착화합물을 전기적으로 중성으로 만드는 수임)로 나타내는 제조 방법.
  16. 제10항에 있어서, 플루오라이드 이온 포집제가 붕산인 제조 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4094689B2 (ja) * 1996-04-05 2008-06-04 阿南化成株式会社 酸素吸収放出能を有する複合酸化物の製造法
DE69728516T2 (de) * 1996-09-13 2005-03-24 Hoya Corp. Verfahren zur herstellung einer dünnschicht aus titanoxid und katalysator für photodekomposition
EP0924164A3 (en) * 1997-12-18 2000-01-05 Hoya Corporation Methods for producing oxides or composites thereof
JP2001110801A (ja) 1999-10-05 2001-04-20 Takeshi Yao パターン形成方法、並びに電子素子、光学素子及び回路基板
US6572693B1 (en) 1999-10-28 2003-06-03 3M Innovative Properties Company Aesthetic dental materials
US6387981B1 (en) 1999-10-28 2002-05-14 3M Innovative Properties Company Radiopaque dental materials with nano-sized particles
US6376590B2 (en) 1999-10-28 2002-04-23 3M Innovative Properties Company Zirconia sol, process of making and composite material
US6730156B1 (en) 1999-10-28 2004-05-04 3M Innovative Properties Company Clustered particle dental fillers
US6399537B1 (en) * 2000-02-23 2002-06-04 Ford Global Technologies, Inc. Method of milling a cerium-rich material for oxygen storage and release in exhaust gas catalysts
US20020032123A1 (en) * 2000-02-23 2002-03-14 Ford Global Technologies, Inc. Exhaust gas catalyst and method of manufacturing same
US7192890B2 (en) * 2003-10-29 2007-03-20 Intel Corporation Depositing an oxide
JP4703985B2 (ja) * 2004-08-02 2011-06-15 住友大阪セメント株式会社 リチウム電池用正極活物質の製造方法
FR2887868B1 (fr) * 2005-06-30 2007-08-17 Cie Europ Du Zirconium Cezus S Procede de recyclage de tetrafluorure de zirconium en zircone
JP4461088B2 (ja) * 2005-09-29 2010-05-12 株式会社東芝 燃料電池用電極、膜電極複合体及び燃料電池
JP4685586B2 (ja) * 2005-10-19 2011-05-18 新日本製鐵株式会社 表面処理反応性に優れた処理溶液
CN101610749B (zh) 2006-12-28 2013-01-02 3M创新有限公司 牙科填料及方法
CN106566545B (zh) * 2016-11-10 2018-10-30 云南民族大学 一种Mn4+激活的七氟铪酸盐红色发光材料及制备方法
CN114249346A (zh) * 2022-02-14 2022-03-29 江西离子型稀土工程技术研究有限公司 一种无水氟化稀土及其制备方法和应用

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2604443A1 (fr) * 1986-09-26 1988-04-01 Rhone Poulenc Chimie Composition de polissage a base de cerium destinee au polissage des verres organiques
JPH0713303B2 (ja) * 1987-01-20 1995-02-15 日本板硝子株式会社 酸化ジルコニウム膜の製造方法
JP2541269B2 (ja) * 1987-08-27 1996-10-09 日本板硝子株式会社 酸化物薄膜の製造方法
JPS6483670A (en) * 1987-09-28 1989-03-29 Nippon Sheet Glass Co Ltd Production of oxide film
FR2624519A1 (fr) * 1987-12-09 1989-06-16 Rhone Poulenc Chimie Composition de polissage perfectionnee a base de cerium et son procede de preparation
JP2558778B2 (ja) * 1988-01-25 1996-11-27 日本板硝子株式会社 酸化物成形体の製造方法
US5207995A (en) * 1990-09-19 1993-05-04 Union Oil Company Of California Recovery of cerium from fluoride-containing ores
US5819305A (en) * 1996-08-23 1998-10-06 Motorola, Inc. Method and apparatus for configuring operating modes in a memory

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Publication number Publication date
DE69629431T2 (de) 2004-07-01
KR100413850B1 (ko) 2004-05-27
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US5830242A (en) 1998-11-03
DE69629431D1 (de) 2003-09-18
CN1083400C (zh) 2002-04-24
EP0767141A1 (en) 1997-04-09
CN1150789A (zh) 1997-05-28
EP0767141A4 (en) 1998-05-20
EP0767141B1 (en) 2003-08-13

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