JPH11158691A - チタン酸化物被膜作製用水溶液、およびチタン酸化物被膜の製造方法 - Google Patents
チタン酸化物被膜作製用水溶液、およびチタン酸化物被膜の製造方法Info
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- JPH11158691A JPH11158691A JP32293697A JP32293697A JPH11158691A JP H11158691 A JPH11158691 A JP H11158691A JP 32293697 A JP32293697 A JP 32293697A JP 32293697 A JP32293697 A JP 32293697A JP H11158691 A JPH11158691 A JP H11158691A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 大型の成膜装置を必要とすることなく、大面
積及び複雑形状の基板上にも、膜厚及び組成が均一で結
晶性の優れたチタン酸化物被膜を形成するチタン酸化物
被膜作成用水溶液及びチタン酸化物被膜の製造。方法を
提供する。 【解決手段】 チタンイオン、硝酸イオン、過酸化物、
及び錯化剤を含有し、かつｐＨが３．０より大きい水溶
液とする。また、該水溶液中で、基板に電解析出を施す
ことによりチタン酸化物被膜を形成する。
積及び複雑形状の基板上にも、膜厚及び組成が均一で結
晶性の優れたチタン酸化物被膜を形成するチタン酸化物
被膜作成用水溶液及びチタン酸化物被膜の製造。方法を
提供する。 【解決手段】 チタンイオン、硝酸イオン、過酸化物、
及び錯化剤を含有し、かつｐＨが３．０より大きい水溶
液とする。また、該水溶液中で、基板に電解析出を施す
ことによりチタン酸化物被膜を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光触媒、光化学電
池、紫外線吸収膜、誘電体膜などに利用しうるチタン酸
化物被膜を作製する水溶液、およびその水溶液を用いた
チタン酸化物被膜の製造方法に関するものである。
池、紫外線吸収膜、誘電体膜などに利用しうるチタン酸
化物被膜を作製する水溶液、およびその水溶液を用いた
チタン酸化物被膜の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来よりチタン酸化物被膜は、光触媒、
光化学電池、紫外線吸収膜、誘電体膜等の分野での利用
が進められている。
光化学電池、紫外線吸収膜、誘電体膜等の分野での利用
が進められている。
【０００３】このようなチタン酸化物被膜の製造方法
は、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法などの乾
式成膜法により基板上に成膜することが試みられてい
る。また、湿式成膜法においては、チタン金属を酸また
はアルカリ溶液中で陽極酸化することによりチタン酸化
物被膜を得たり、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｅｌｅｃｔｒ
ｏｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ １４３、１５４
７（１９９６年）に記載されているように、チタンイオ
ンを含むｐＨ１．０から３．０の酸性溶液中で陰極析出
することによりチタン酸化物被膜を製造する方法が知ら
れている。
は、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法などの乾
式成膜法により基板上に成膜することが試みられてい
る。また、湿式成膜法においては、チタン金属を酸また
はアルカリ溶液中で陽極酸化することによりチタン酸化
物被膜を得たり、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｅｌｅｃｔｒ
ｏｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ １４３、１５４
７（１９９６年）に記載されているように、チタンイオ
ンを含むｐＨ１．０から３．０の酸性溶液中で陰極析出
することによりチタン酸化物被膜を製造する方法が知ら
れている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法などの乾式成
膜法では成膜装置が大掛かりで高価であり、また成膜可
能な基板面積が制限される、組成や膜厚制御が難しい、
複雑な形状の基板には成膜が難しいなどの欠点がある。
また、湿式成膜法において、チタン金属を陽極酸化する
方法では使用可能な基板が限定されてしまい、またチタ
ンイオンを含む酸性溶液中で陰極析出する方法でも、酸
性溶液中で溶出してしまうアルミ、亜鉛、スズ、鉛など
の金属や、酸化物基板上にチタン酸化物被膜を成膜する
ことが困難である、またｐＨ３．０を越える溶液中で
は、溶液中に沈殿物が生じてしまい成膜の用に供するこ
とが不可能となってしまう、等の問題点を有していた。
スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法などの乾式成
膜法では成膜装置が大掛かりで高価であり、また成膜可
能な基板面積が制限される、組成や膜厚制御が難しい、
複雑な形状の基板には成膜が難しいなどの欠点がある。
また、湿式成膜法において、チタン金属を陽極酸化する
方法では使用可能な基板が限定されてしまい、またチタ
ンイオンを含む酸性溶液中で陰極析出する方法でも、酸
性溶液中で溶出してしまうアルミ、亜鉛、スズ、鉛など
の金属や、酸化物基板上にチタン酸化物被膜を成膜する
ことが困難である、またｐＨ３．０を越える溶液中で
は、溶液中に沈殿物が生じてしまい成膜の用に供するこ
とが不可能となってしまう、等の問題点を有していた。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上述の技術
的問題点に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、チタンイオ
ン、硝酸イオン、過酸化物、および錯化剤を含有し、か
つｐＨが３．０より大きい水溶液を用いて電解析出を行
うことにより、大掛かりな装置を必要とせず、大面積お
よび複雑形状の基板上にも、膜厚および組成が均一で幅
広い基板の選択が可能なチタン酸化物被膜を容易に製造
できる方法を見出し、本発明を完成するに至った。
的問題点に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、チタンイオ
ン、硝酸イオン、過酸化物、および錯化剤を含有し、か
つｐＨが３．０より大きい水溶液を用いて電解析出を行
うことにより、大掛かりな装置を必要とせず、大面積お
よび複雑形状の基板上にも、膜厚および組成が均一で幅
広い基板の選択が可能なチタン酸化物被膜を容易に製造
できる方法を見出し、本発明を完成するに至った。
【０００６】すなわち本発明は、チタンイオン、硝酸イ
オン、過酸化物、および錯化剤を含有し、かつｐＨが
３．０より大きい水溶液、および該水溶液を用いてチタ
ン酸化物被膜の電解析出を施すことを特徴とする。
オン、過酸化物、および錯化剤を含有し、かつｐＨが
３．０より大きい水溶液、および該水溶液を用いてチタ
ン酸化物被膜の電解析出を施すことを特徴とする。
【０００７】本発明におけるチタンイオンのイオン源と
しては特に限定はない。すなわち、水溶性のチタン塩で
あればよく、例えば三塩化チタン、四塩化チタン等が挙
げられ、さらにチタン金属、酸化チタン等を硫酸、硝
酸、およびフッ化水素酸、過酸化水素水のそれぞれとア
ンモニア水とを混合した水溶液中で溶解させたものを用
いることができる。
しては特に限定はない。すなわち、水溶性のチタン塩で
あればよく、例えば三塩化チタン、四塩化チタン等が挙
げられ、さらにチタン金属、酸化チタン等を硫酸、硝
酸、およびフッ化水素酸、過酸化水素水のそれぞれとア
ンモニア水とを混合した水溶液中で溶解させたものを用
いることができる。
【０００８】また、硝酸イオンのイオン源としても特に
限定はない。すなわち、硝酸、硝酸ナトリウム、硝酸カ
リウム、硝酸アンモニウム等が挙げられる。
限定はない。すなわち、硝酸、硝酸ナトリウム、硝酸カ
リウム、硝酸アンモニウム等が挙げられる。
【０００９】過酸化物としても特に限定はない。すなわ
ち、過酸化水素、ペルオキソ硝酸、ペルオキソ一硫酸、
ペルオキソ二硫酸、ペルオキソ一硫酸ナトリウム、ペル
オキソ二硫酸ナトリウム、ペルオキソ一硫酸カリウム、
ペルオキソ二硫酸カリウム、ペルオキソ一炭酸ナトリウ
ム、ペルオキソ二炭酸カリウム、ペルオキソ一リン酸、
ペルオキソ二リン酸、ペルオキソ一リン酸ナトリウム、
ペルオキソ二リン酸ナトリウム、ペルオキソ一リン酸カ
リウム、ペルオキソ二リン酸カリウム、ペルオキソほう
酸、ペルオキソほう酸ナトリウム等が挙げられる。
ち、過酸化水素、ペルオキソ硝酸、ペルオキソ一硫酸、
ペルオキソ二硫酸、ペルオキソ一硫酸ナトリウム、ペル
オキソ二硫酸ナトリウム、ペルオキソ一硫酸カリウム、
ペルオキソ二硫酸カリウム、ペルオキソ一炭酸ナトリウ
ム、ペルオキソ二炭酸カリウム、ペルオキソ一リン酸、
ペルオキソ二リン酸、ペルオキソ一リン酸ナトリウム、
ペルオキソ二リン酸ナトリウム、ペルオキソ一リン酸カ
リウム、ペルオキソ二リン酸カリウム、ペルオキソほう
酸、ペルオキソほう酸ナトリウム等が挙げられる。
【００１０】さらに、錯化剤としては、エチレンジアミ
ン四酢酸、エチレンジアミン四酢酸ナトリウム、クエン
酸、クエン酸ナトリウム、ニトリロ三酢酸、ニトリロ三
酢酸ナトリウム、シクロヘキサンジアミン四酢酸等が挙
げられる。
ン四酢酸、エチレンジアミン四酢酸ナトリウム、クエン
酸、クエン酸ナトリウム、ニトリロ三酢酸、ニトリロ三
酢酸ナトリウム、シクロヘキサンジアミン四酢酸等が挙
げられる。
【００１１】これらの化合物のうち、チタンイオン源と
して四塩化チタン、硝酸イオン源として硝酸、過酸化物
としてペルオキソほう酸、錯化剤としてクエン酸を用い
ることが、各試薬の取り扱い易さ、調合のしやすさから
考えて望ましい。
して四塩化チタン、硝酸イオン源として硝酸、過酸化物
としてペルオキソほう酸、錯化剤としてクエン酸を用い
ることが、各試薬の取り扱い易さ、調合のしやすさから
考えて望ましい。
【００１２】なお本発明で、チタンイオン源、硝酸イオ
ン源として使用する化合物および過酸化物、錯化剤とし
て使用する化合物は、それぞれ一種類の物を用いてもよ
く、あるいは複数の物を混合して用いても良い。
ン源として使用する化合物および過酸化物、錯化剤とし
て使用する化合物は、それぞれ一種類の物を用いてもよ
く、あるいは複数の物を混合して用いても良い。
【００１３】本発明では、チタンイオン、硝酸イオン過
酸化物、および錯化剤の濃度は広い範囲で使用可能であ
るが、低濃度すぎると電解による被膜を得にくく、また
高濃度すぎると水溶液の安定性が悪化し、沈殿物を生成
する傾向がある。このため、通常、チタンイオン、硝酸
イオン、過酸化物、錯化剤のそれぞれの濃度が０．００
１ｍｏｌ／Ｌ〜１．０ｍｏｌ／Ｌ程度の範囲にあること
が適当であり、特にそれぞれの濃度が０．０５ｍｏｌ／
Ｌ程度であることが好ましい。
酸化物、および錯化剤の濃度は広い範囲で使用可能であ
るが、低濃度すぎると電解による被膜を得にくく、また
高濃度すぎると水溶液の安定性が悪化し、沈殿物を生成
する傾向がある。このため、通常、チタンイオン、硝酸
イオン、過酸化物、錯化剤のそれぞれの濃度が０．００
１ｍｏｌ／Ｌ〜１．０ｍｏｌ／Ｌ程度の範囲にあること
が適当であり、特にそれぞれの濃度が０．０５ｍｏｌ／
Ｌ程度であることが好ましい。
【００１４】本発明のチタン酸化物被膜の製造方法に
は、電解メッキ法やオートクレーブ中の高温高圧下で電
解を行う水熱電気化学法など通常の電解析出法がいずれ
も採用できる。
は、電解メッキ法やオートクレーブ中の高温高圧下で電
解を行う水熱電気化学法など通常の電解析出法がいずれ
も採用できる。
【００１５】本発明ではこの様に、チタンイオン、硝酸
イオン、過酸化物、および錯化剤を含有し、かつｐＨが
３．０より大きい水溶液を用いてチタン酸化物被膜を成
膜するが、これに対して、チタンイオン、硝酸イオンは
含むが過酸化物、錯化剤を含まない水溶液、およびチタ
ンイオン、硝酸イオン、過酸化物は含むが錯化剤を含ま
ない水溶液を用いた場合では、加水分解による沈殿物が
生じてしまいチタン酸化物被膜を製造することができな
い。
イオン、過酸化物、および錯化剤を含有し、かつｐＨが
３．０より大きい水溶液を用いてチタン酸化物被膜を成
膜するが、これに対して、チタンイオン、硝酸イオンは
含むが過酸化物、錯化剤を含まない水溶液、およびチタ
ンイオン、硝酸イオン、過酸化物は含むが錯化剤を含ま
ない水溶液を用いた場合では、加水分解による沈殿物が
生じてしまいチタン酸化物被膜を製造することができな
い。
【００１６】本発明の水溶液を用いて、例えば、三極式
の電解セルを形成装置として用いた場合、作用電極電位
は、電解液中のチタンイオン、硝酸イオン、過酸化物、
および錯化剤の濃度に応じて設定可能であるが、通常Ａ
ｇ／ＡｇＣｌ電極基準で−０．１〜−２．０Ｖ程度が適
当であり、−０．５〜−１．５Ｖ程度が好ましく、−
０．８〜−１．３Ｖ程度が特に好ましい。また、電解液
の液温は広い範囲で設定可能であるが、通常は１０℃〜
１００℃程度が適当であり、５０℃〜８０℃程度が好ま
しい。水溶液のｐＨは３．０より大きければ広い範囲で
チタン酸化物被膜の成膜が可能であるが、この際調整さ
れるｐＨによっては、電解液調整時に沈殿物が生じた
り、電解中に電解液が分解したりして、良好なチタン酸
化物被膜が得られなくなるので、ｐＨ３．０〜９．０程
度とすることが適当であり、ｐＨ５．０〜８．０程度と
することが基板の耐溶解性の点から好ましい。
の電解セルを形成装置として用いた場合、作用電極電位
は、電解液中のチタンイオン、硝酸イオン、過酸化物、
および錯化剤の濃度に応じて設定可能であるが、通常Ａ
ｇ／ＡｇＣｌ電極基準で−０．１〜−２．０Ｖ程度が適
当であり、−０．５〜−１．５Ｖ程度が好ましく、−
０．８〜−１．３Ｖ程度が特に好ましい。また、電解液
の液温は広い範囲で設定可能であるが、通常は１０℃〜
１００℃程度が適当であり、５０℃〜８０℃程度が好ま
しい。水溶液のｐＨは３．０より大きければ広い範囲で
チタン酸化物被膜の成膜が可能であるが、この際調整さ
れるｐＨによっては、電解液調整時に沈殿物が生じた
り、電解中に電解液が分解したりして、良好なチタン酸
化物被膜が得られなくなるので、ｐＨ３．０〜９．０程
度とすることが適当であり、ｐＨ５．０〜８．０程度と
することが基板の耐溶解性の点から好ましい。
【００１７】本発明のチタン酸化物被膜を成膜する基板
とには、既知の種々の基板を用いることが可能である。
例えば、アルミニウム、銅、ニッケル、白金、金、ステ
ンレス鋼などの金属材料、セラミックス材料、ガラス材
料等が挙げられる。また、基板は電解を行う前に表面改
質、導電化等の処理を施しても良い。
とには、既知の種々の基板を用いることが可能である。
例えば、アルミニウム、銅、ニッケル、白金、金、ステ
ンレス鋼などの金属材料、セラミックス材料、ガラス材
料等が挙げられる。また、基板は電解を行う前に表面改
質、導電化等の処理を施しても良い。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、本発明に従って実施した実
験について説明する。なお、使用した薬品はすべて試薬
特級（ナカライテスク（株）製）であった。チタン酸化
物被膜を作製する基板（すなわち作用電極）として、熱
酸化膜付きシリコンウェハ（大阪特殊金属（株）製）上
に真空蒸着法によりチタン、白金をそれぞれ１００ｎ
ｍ、３００ｎｍ積み重ね、最表面を白金で覆ったものを
用い、常法に従い、脱脂、エッチング処理を行った。ま
た、電解セルは通常用いられている３極式のもの（対
極：Ｐｔ箔２０×３０×０．１ｍｍ、高純度化学（株）
製、参照極：飽和ＫＣｌ入りＡｇ／ＡｇＣｌ、堀場製作
所（株）製、セル容量：３００ｍＬ）を使用した。
験について説明する。なお、使用した薬品はすべて試薬
特級（ナカライテスク（株）製）であった。チタン酸化
物被膜を作製する基板（すなわち作用電極）として、熱
酸化膜付きシリコンウェハ（大阪特殊金属（株）製）上
に真空蒸着法によりチタン、白金をそれぞれ１００ｎ
ｍ、３００ｎｍ積み重ね、最表面を白金で覆ったものを
用い、常法に従い、脱脂、エッチング処理を行った。ま
た、電解セルは通常用いられている３極式のもの（対
極：Ｐｔ箔２０×３０×０．１ｍｍ、高純度化学（株）
製、参照極：飽和ＫＣｌ入りＡｇ／ＡｇＣｌ、堀場製作
所（株）製、セル容量：３００ｍＬ）を使用した。
【００１９】
【実施例１】電解セルに下記の組成のチタン酸化物被膜
作製用水溶液を入れた後、恒温槽中にセットしたのち、
以下の条件で電解を行った。
作製用水溶液を入れた後、恒温槽中にセットしたのち、
以下の条件で電解を行った。
【００２０】 四塩化チタン ０．０５ ｍｏｌ／Ｌ 硝酸ナトリウム ０．０５ ｍｏｌ／Ｌ ペルオキソほう酸 ０．０５ ｍｏｌ／Ｌ クエン酸 ０．０５ ｍｏｌ／Ｌ （２８重量％アンモニア水溶液でｐＨ６まで調整） 上記水溶液中で、液温を６０℃に保持し、−１．０Ｖ、
２０分で電解を行ったところ、基体上に透明な膜が生成
した。この膜をＸ線光電分光法により測定したところ、
図１のようにＴｉ2pのピークが見られ、Ｔｉ2p3のピー
クよりチタン酸化物が生成していることがわかった。
２０分で電解を行ったところ、基体上に透明な膜が生成
した。この膜をＸ線光電分光法により測定したところ、
図１のようにＴｉ2pのピークが見られ、Ｔｉ2p3のピー
クよりチタン酸化物が生成していることがわかった。
【００２１】
【実施例２】電解セルに下記の組成のチタン酸化物被膜
作製用水溶液を入れた後、恒温槽中にセットしたのち、
以下の条件で電解を行った。
作製用水溶液を入れた後、恒温槽中にセットしたのち、
以下の条件で電解を行った。
【００２２】 三塩化チタン ０．０５ ｍｏｌ／Ｌ 硝酸 ０．０５ ｍｏｌ／Ｌ ペルオキソ二硫酸ナトリウム ０．０５ ｍｏｌ／Ｌ エチレンジアミン四酢酸 ０．０５ ｍｏｌ／Ｌ （２８重量％アンモニア水溶液でｐＨ５まで調整） 上記水溶液中で、液温を５０℃に保持し、−１．０Ｖ、
２０分で電解を行ったところ、基体上に透光性のある膜
が生成した。この膜を実施例１と同様に、Ｘ線光電分光
法により同定したところ、チタン酸化物であった。
２０分で電解を行ったところ、基体上に透光性のある膜
が生成した。この膜を実施例１と同様に、Ｘ線光電分光
法により同定したところ、チタン酸化物であった。
【００２３】
【実施例３】電解セルに下記の組成のチタン酸化物被膜
作製用水溶液を入れた後、恒温槽中にセットしたのち、
以下の条件で電解を行った。
作製用水溶液を入れた後、恒温槽中にセットしたのち、
以下の条件で電解を行った。
【００２４】 四塩化チタン ０．０１ ｍｏｌ／Ｌ 硝酸アンモニウム ０．０１ ｍｏｌ／Ｌ ペルオキソ二炭酸ナトリウム ０．０１ ｍｏｌ／Ｌ ニトリロ三酢酸ナトリウム ０．０１ ｍｏｌ／Ｌ （２８重量％アンモニア水溶液でｐＨ５まで調整） 上記水溶液中で、液温を６５℃に保持し、−０．９Ｖ、
２０分で電解を行ったところ、基体上に透光性のある膜
が生成した。この膜を実施例１と同様に、Ｘ線光電分光
法により同定したところ、チタン酸化物であった。
２０分で電解を行ったところ、基体上に透光性のある膜
が生成した。この膜を実施例１と同様に、Ｘ線光電分光
法により同定したところ、チタン酸化物であった。
【００２５】
【実施例４】チタン酸化物被膜作製用水溶液を準備する
に先立って、３５０メッシュＴｉ粉末４．７９ｇを３０
重量％の過酸化水素水５０ｍｌおよび２８重量％アンモ
ニア水５０ｍｌからなる混合液中に投入、溶解し、ゲル
状物を得た。このゲル状物を乾燥して得た粉末を１ｍｏ
ｌ／Ｌの硝酸水溶液中にて溶解し、下記のチタンイオ
ン、硝酸イオン濃度になるようにそれぞれ電解セル内に
取り出した。次に、以下のようにチタン酸化物被膜作成
用水溶液を作製した。
に先立って、３５０メッシュＴｉ粉末４．７９ｇを３０
重量％の過酸化水素水５０ｍｌおよび２８重量％アンモ
ニア水５０ｍｌからなる混合液中に投入、溶解し、ゲル
状物を得た。このゲル状物を乾燥して得た粉末を１ｍｏ
ｌ／Ｌの硝酸水溶液中にて溶解し、下記のチタンイオ
ン、硝酸イオン濃度になるようにそれぞれ電解セル内に
取り出した。次に、以下のようにチタン酸化物被膜作成
用水溶液を作製した。
【００２６】 チタンイオン ０．０３ｍｏｌ／Ｌ 硝酸イオン ０．０３ｍｏｌ／Ｌ 過酸化水素 ０．０１ｍｏｌ／Ｌ クエン酸ナトリウム ０．０２ｍｏｌ／Ｌ （２８重量％アンモニア水溶液でｐＨ７まで調整） 上記水溶液中で、液温を５０℃に保持し、−１．２Ｖ、
３０分で電解を行ったところ、基体上に透光性のある膜
が生成した。この膜を実施例１と同様に、Ｘ線光電分光
法により同定したところ、チタン酸化物であった。
３０分で電解を行ったところ、基体上に透光性のある膜
が生成した。この膜を実施例１と同様に、Ｘ線光電分光
法により同定したところ、チタン酸化物であった。
【００２７】
【比較例１】電解セルに下記の組成の亜鉛酸化物被膜作
製用電解液を入れた後、恒温槽中にセットしたのち、以
下の条件で電解を行った。
製用電解液を入れた後、恒温槽中にセットしたのち、以
下の条件で電解を行った。
【００２８】 三塩化チタン ０．０５ｍｏｌ／Ｌ 硝酸ナトリウム ０．０５ｍｏｌ／Ｌ ペルオキソほう酸ナトリウム ０．０５ｍｏｌ／Ｌ 上記水溶液を２８重量％アンモニア水溶液を用いて、徐
々にｐＨ上昇を試みたところ、ｐＨ２．８付近で沈殿物
が生じてしまい、ｐＨの調整が困難であった。このため
電解析出は不可能であった。
々にｐＨ上昇を試みたところ、ｐＨ２．８付近で沈殿物
が生じてしまい、ｐＨの調整が困難であった。このため
電解析出は不可能であった。
【００２９】
【発明の効果】このように、本発明によれば、チタンイ
オン、硝酸イオン、過酸化物、および錯化剤を含有する
ｐＨが３．０より大きい水溶液を用いて電解析出を行う
ことにより、大掛かりな装置を必要とせず、大面積およ
び複雑形状の基板上にも、膜厚および組成が均一で、幅
広い基板の選択が可能なチタン酸化物被膜を容易に製造
することができる。
オン、硝酸イオン、過酸化物、および錯化剤を含有する
ｐＨが３．０より大きい水溶液を用いて電解析出を行う
ことにより、大掛かりな装置を必要とせず、大面積およ
び複雑形状の基板上にも、膜厚および組成が均一で、幅
広い基板の選択が可能なチタン酸化物被膜を容易に製造
することができる。
【図１】 本発明の実施例１におけるＸ線光電分光チャ
ートを示す図である。
ートを示す図である。
Claims (6)
- 【請求項１】 チタンイオン、硝酸イオン、過酸化物、
および錯化剤を含有し、かつｐＨが３．０より大きいこ
とを特徴とするチタン酸化物被膜作成用水溶液。 - 【請求項２】 前記過酸化物に、過酸化水素水、ペルオ
キソ酸、ペルオキソ炭酸塩、ペルオキソリン酸塩、ペル
オキソホウ酸塩のうちの少なくとも一種を用いたことを
特徴とする請求項１記載のチタン酸化物被膜作成用水溶
液。 - 【請求項３】 前記錯化剤に、エチレンジアミン四酢酸
塩、クエン酸塩、ニトリロ三酢酸塩、シクロヘキサンジ
アミン四酢酸のうちの少なくとも一種を用いたことを特
徴とする請求項１または請求項２のいずれかに記載のチ
タン酸化物被膜作成用水溶液。 - 【請求項４】 チタンイオン、硝酸イオン、過酸化物、
および錯化剤を含有し、かつｐＨが３．０より大きい水
溶液中で、電解析出を施すことを特徴とするチタン酸化
物被膜の製造方法。 - 【請求項５】 前記過酸化物に、過酸化水素水、ペルオ
キソ酸、ペルオキソ炭酸塩、ペルオキソリン酸塩、ペル
オキソホウ酸塩のうちの少なくとも一種を用いたことを
特徴とする請求項４記載のチタン酸化物被膜の製造方
法。 - 【請求項６】 前記錯化剤に、エチレンジアミン四酢酸
塩、クエン酸塩、ニトリロ三酢酸塩、シクロヘキサンジ
アミン四酢酸のうちの少なくとも一種を用いたことを特
徴とする請求項４または請求項５のいずれかに記載のチ
タン酸化物被膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32293697A JP3867374B2 (ja) | 1997-11-25 | 1997-11-25 | チタン酸化物被膜作製用水溶液、およびチタン酸化物被膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32293697A JP3867374B2 (ja) | 1997-11-25 | 1997-11-25 | チタン酸化物被膜作製用水溶液、およびチタン酸化物被膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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