KR970062062A - 기판 피복 장치용 증착기 셔틀 - Google Patents

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클렘 귄터
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페. 좀머캄프, 에. 튜테
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Abstract

편평하고 길이방향으로 연장된 트로프형 부분(8)으로 이루어지고, 직접적인 전류의 통과에 의해 가온되며, 이를 위해 트로프형 부분(8)의 양쪽에 서로 대향하여 위치하는 말단에 각각 대략 직사각형의 수직 연장된 접촉평면(9, 10)이 있고, 이들 평면은 트로프형 부분(8)의 고정 및 전류 통과를 위해 서로 평행한 고정장소를 형성하는 진공 피복 챔버내 전기 전도성 재료로 이루어진 기판의 피복장치용 증착기 셔틀에 있어서, 트로프형 부분(8)에 증착시킬 제품을 수용하기 위해 하나 이상의 서로 후속적으로 위치하여 배열된 부분(11, 11'…)이 제공되며, 이때 각각의 부분(11, 11'…)의 전방과 후방의 트로프형 부분(8)에 천공부(7, 12, 12'…) 또는 구멍이 있는 것을 특징으로 하는 증착기 셔틀을 개시한다.

Description

기판 피복 장치용 증착기 셔틀
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 제품을 용융 및 증착시키기 위해 일렬로 서로 후속적으로 위치하는 영역이 장착된 본 발명에 따른 셔틀의 평면도이다.

Claims (4)

  1. 편평하고 길이방향으로 연장된 트로프형 부분(3, 8)으로 이루어지고, 직접적인 전류의 통과에 의해 가온되며, 이를 위해 트로프형 부분(3, 8)의 양쪽에 서로 대향하여 위치하는 말단에 각각 대략 직사각형의 수직 연장된 접촉평면(4, 5, 9, 10)이 있고,이들 평면은 트로프형 부분(3, 8)의 고정 및 전류 통과를 위해 서로 평행한 고정장소를 형성하는 진공 피복 챔버내 전기 전도성 재료로 이루어진 기판의 피복장치용 증착기 셔틀에 있어서, 트로프형 부분(3, 8)에 증착시킬 제품을 수용하기 위해 하나 이상의 서로 후속적으로 위치하여 배열된 부분(6, 11, 11'…)이 제공되며, 이때 각각의 부분(6, 11, 11'…)의 전방과 후방의 트로프형 부분(3, 8)에 천공부(7, 7'…12, 12'…) 또는 구멍이 있는 것을 특징으로 하는 증착기 셔틀.
  2. 제1항에 있어서, 하나 이상의 증착 영역 또는 부분(6, 11, 11…)이 편평한 트로프형 부분(3, 8)의 표면상에 셔틀의 길이방향으로 연장된 함몰부 또는 오목부(13, 14)에 제공되는 것을 특징으로 하는 증착기 셔틀.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 천공부가 서로 인접하고 서로 평행하게 배열된 수직 구멍(7, 7'…12, 12'…)의 군으로 형성되는 것을 특징으로 하는 증착기 셔틀.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 트로프형 부분(3, 8)에 대략 평행 파이프 형태를 나타내고 그 부분(3, 8)의 두께(D) 대 그 부분의 표면에 존재하는 함몰부(13, 14)의 깊이 (T)의 비가 5인 것을 특징으로 하는 증착기 셔틀.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4684414B2 (ja) * 2000-12-27 2011-05-18 株式会社アドバンテスト 蒸着装置、蒸着方法、電子ビーム露光装置、偏向装置及び偏向装置の製造方法
KR100461283B1 (ko) * 2000-12-30 2004-12-14 현대엘씨디주식회사 유기전기발광소자 제조장치용 유기물증발보트구조
DE10200909A1 (de) * 2002-01-12 2003-07-24 Applied Films Gmbh & Co Kg Verdampferschiffchen für eine Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten
EP1408135A1 (en) * 2002-10-08 2004-04-14 Galileo Vacuum Systems S.R.L. Apparatus for physical vapour deposition
US20050000447A1 (en) * 2003-07-04 2005-01-06 Jan Koninckx Crucible for evaporation of raw materials
US20060013966A1 (en) * 2003-09-08 2006-01-19 Jan Koninckx Crucible for evaporation of raw materials
DE102007045289A1 (de) 2007-09-21 2009-04-02 Esk Ceramics Gmbh & Co. Kg Verdampferschiffchen, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung
US20090217876A1 (en) * 2008-02-28 2009-09-03 Ceramic Technologies, Inc. Coating System For A Ceramic Evaporator Boat
CN102212784A (zh) * 2010-04-12 2011-10-12 无锡尚德太阳能电力有限公司 沉积蒸发源
CN102214730A (zh) * 2010-04-12 2011-10-12 无锡尚德太阳能电力有限公司 沉积蒸发源
CN103290365A (zh) * 2013-06-21 2013-09-11 苏州方昇光电装备技术有限公司 一种线性蒸发源
US10801101B2 (en) 2017-08-17 2020-10-13 Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. Vapor evaporation source
CN107400859B (zh) * 2017-08-17 2019-08-13 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种蒸发源
CN110629168B (zh) * 2019-10-30 2021-11-02 东北大学 一种真空镀膜机的蒸发装置
CN110747434B (zh) * 2019-12-05 2021-10-08 山东国晶新材料有限公司 一种分体式导电陶瓷舟

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE970246C (de) * 1948-10-02 1958-08-28 Siemens Ag Vorrichtung zur laufenden Bedampfung endloser Gebilde
US2615060A (en) * 1951-08-14 1952-10-21 Gen Electric Crucible for the purification of molten substances
US3020177A (en) * 1959-05-13 1962-02-06 Continental Can Co Art of vaporizing materials
US3636305A (en) * 1971-03-10 1972-01-18 Gte Sylvania Inc Apparatus for metal vaporization comprising a heater and a refractory vessel
JPS51119386A (en) * 1975-04-11 1976-10-19 Denki Kagaku Kogyo Kk Vacuum evapotation vessel
US4036167A (en) * 1976-01-30 1977-07-19 Inficon Leybold-Heraeus Inc. Apparatus for monitoring vacuum deposition processes
US4112290A (en) * 1976-10-27 1978-09-05 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Evaporation vessel for use in vacuum evaporation
DE4016225C2 (de) * 1990-05-19 1997-08-14 Leybold Ag Reihenverdampfer für Vakuumbedampfungsanlagen
US5242500A (en) * 1990-08-27 1993-09-07 Leybold Aktiengesellschaft Apparatus for the continuous coating of band-type substrate
DE4027034C1 (ko) 1990-08-27 1991-09-12 Leybold Ag, 6450 Hanau, De
DE4128382C1 (ko) * 1991-08-27 1992-07-02 Leybold Ag, 6450 Hanau, De
DE4139792A1 (de) * 1991-12-03 1993-06-09 Leybold Ag, 6450 Hanau, De Verdampferschiffchen fuer eine vorrichtung zur beschichtung von substraten
US5495550A (en) * 1994-09-28 1996-02-27 Advanced Ceramics Corporation Graphite flash evaporator having at least one intermediate layer and a pyrolytic boron nitride coating

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US5788769A (en) 1998-08-04
EP0792946A1 (de) 1997-09-03
CN1067117C (zh) 2001-06-13

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