CN103290365A - 一种线性蒸发源 - Google Patents

一种线性蒸发源 Download PDF

Info

Publication number
CN103290365A
CN103290365A CN2013102486452A CN201310248645A CN103290365A CN 103290365 A CN103290365 A CN 103290365A CN 2013102486452 A CN2013102486452 A CN 2013102486452A CN 201310248645 A CN201310248645 A CN 201310248645A CN 103290365 A CN103290365 A CN 103290365A
Authority
CN
China
Prior art keywords
main body
evaporation source
linear evaporation
cover plate
source according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN2013102486452A
Other languages
English (en)
Inventor
廖良生
丁磊
周旻
陈敏
周东营
李杨帆
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Suzhou Fangsheng Optoelectronics Equipment & Technology Co Ltd
Original Assignee
Suzhou Fangsheng Optoelectronics Equipment & Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Suzhou Fangsheng Optoelectronics Equipment & Technology Co Ltd filed Critical Suzhou Fangsheng Optoelectronics Equipment & Technology Co Ltd
Priority to CN2013102486452A priority Critical patent/CN103290365A/zh
Publication of CN103290365A publication Critical patent/CN103290365A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明公开了一种线性蒸发源,包括线性蒸发源的主体及设置于线性蒸发源的主体上方的盖板,所述主体一体成型,在所述主体内部两端对称开设有凹槽,所述凹槽内设有蒸发元件,所述两个凹槽之间位于主体下方设有加热元件;所述盖板上开设有一排通孔构成喷嘴,所述盖板与所述主体间螺纹连接。本发明的线性蒸发源不易变形,工作效率高,且可实现高均匀性厚膜。

Description

一种线性蒸发源
技术领域
本发明涉及一种真空热蒸发镀膜技术,具体涉及真空热蒸发镀膜技术中的一种线性蒸发源。
背景技术
真空热蒸发镀膜在有机EL (Electro Luminescence) 显示器等平板显示器(FPD :Flat Panel Display) 的制造过程中以及相应薄膜器件的产业化中被广泛的使用,其基本原理是利用加热的手段使源受热蒸发,由固相/ 液相变成气相,然后气体分子或原子在蒸发源与基板(衬底)之间输运,最后蒸发的分子或原子在基板(衬底)上沉积。
在有机发光显示装置中,发射可见光的有机发光层和接近有机发光层的有机层通过利用各种方法形成,尤其是真空热蒸发镀膜方法由于其简单的工艺而经常被使用。在真空热蒸发镀膜方法中,将粉状或固态的沉积材料填充到熔炉中,并通过对熔炉进行加热而在期望的区域上形成沉积膜。在真空热蒸发镀膜方法中,蒸发源是一种必不可少的设备,然而现有的蒸发源在使用中经常会出现以下问题:蒸发源长时间加热使用后容易变形,效率较低,并且镀膜的厚度不均匀。
中国专利ZL201220704968.9、ZL201020140696.5揭示了不同的线性蒸发源的结构,但是由于线源结构的特殊性导致其应用的范围不广。
发明内容
本发明目的是提供一种不易变形,工作效率高,且可实现高均匀性厚膜的线性蒸发源。
本发明的技术方案是:一种线性蒸发源,用于大面积制造平板显示器和照明面板,包括线性蒸发源的主体及设置于线性蒸发源的主体上方的盖板,所述主体一体成型,在所述主体内部两端对称开设有凹槽,所述凹槽内设有蒸发元件构成蒸发单元,所述两个凹槽之间位于主体下方设有加热元件;所述盖板上开设有一排通孔构成喷嘴,所述盖板与所述主体间螺纹连接。
优选的,所述凹槽宽度为所述主体宽度的1/8-1/5。
优选的,所述凹槽为石英槽,其内设有蒸发元件构成蒸发单元。
优选的,所述加热元件为电热丝加热器,所述电热丝加热器与上方的主体抵触。
优选的,所述主体两端开设有螺孔,与所述螺孔对应在所述盖板上也开设有螺孔,与所述螺孔配合还设有螺栓,所述主体与盖板间经螺栓及螺孔连接构成所述的螺纹连接。
优选的,所述通孔孔径为0.5-5mm,所述通孔长度占盖板长度的2/5-4/5,在所述通孔上方还设有挡板。
优选的,所述通孔下端与所述主体上端间的距离1-3cm。
优选的,所述主体及盖板外部设有保温板。
优选的,所述主体下方还设有水冷机构。
本发明的有益效果是:通过将线性蒸发源的主体一体化成型,使主体不易变形,加热元件与其上方的主体接触,同时缩短主体与盖板上的通孔之间的距离,加热源置于两个材料腔室的中间位置,使蒸镀过程中保持喷嘴处于高温状态,防止被堵住,工作效率较高;盖板下部有台阶试的凹进,盖板四周用螺丝与主体紧密连接,防止材料从缝隙溢出,提高材料利用率,同时在盖板的通孔处可以设置挡板,实现高均匀性厚膜。同时在线源底部和两侧线源壁上装有水冷装置,保证蒸镀完成后迅速降温,以提高产品生产效率。
附图说明
下面结合附图及实施例对本发明作进一步描述:
图1为本发明实施例一的结构示意图;
图2为本发明实施例一中主体的结构示意图;
图3为图2的俯视图;
图4为本发明实施例一中盖板的结构示意图;
图5为图4的俯视图;
图6为本发明实施例一的示意图。
其中:1、加热元件;2、凹槽;3、主体;4、螺孔;5、通孔;7、上端;8、保温板。
具体实施方式
实施例一:参见图1至3所示,一种线性蒸发源,包括线性蒸发源的主体3及设置于线性蒸发源的主体上方的盖板,所述主体一体成型,在所述主体内部两端对称开设有凹槽2,所述凹槽2内设有蒸发元件构成蒸发单元,所述两个凹槽2之间位于主体3下方设有加热元件1;所述盖板上开设有一排通孔5构成喷嘴,所述盖板与所述主体间螺纹连接。
具体参见图2所示,凹槽2宽度为所述主体3宽度的1/8-1/5,所述加热元件1为电热丝加热器,所述电热丝加热器与上方的主体抵触;所述主体两端开设有螺孔4,与所述螺孔对应在所述盖板上也开设有螺孔,与所述螺孔配合还设有螺栓,所述主体与盖板间经螺栓及螺孔连接构成所述的螺纹连接。
具体参见图3所示,通孔5孔径为0.5-5mm,所述通孔长度占盖板长度的2/5-4/5,在所述通孔5上方还设有挡板;所述通孔5下端与所述主体3的上端7间的距离1-3cm。
在所述主体3及盖板外部设有保温板8,所述主体下方还设有水冷机构。
采用本发明中设计的线性蒸发源,进行膜厚均匀性测试。在300mm×300mm的玻璃基板上纵向等间距位置上贴敷六个硅片进行膜厚测试。线性蒸发源大小按照玻璃尺寸设计,线源长400mm,盖板上端喷嘴长度为360mm,喷嘴中间位置放置长为120mm的挡板,遮住中间部位的喷嘴。线性蒸发源的蒸发单元内填充有机蒸发材料NPB,利用PID控温装置使加热丝加热到260度,进行蒸镀。测试结果如图4所示,测试均匀性为4%,已经很好地满足在大面积成膜制备的要求。
上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人能够了解本发明的内容并据以实施,并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明主要技术方案的精神实质所做的等效变换或修饰,都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种线性蒸发源,用于大面积制造平板显示器和照明面板,其特征在于:包括线性蒸发源的主体(3)及设置于线性蒸发源的主体上方的盖板,所述主体(3)一体成型;在所述主体(3)内部两端对称开设有凹槽(2)、所述凹槽内设有蒸发元件构成蒸发单元;所述两个凹槽(2)之间位于主体(3)下方设有加热元件(1);所述盖板上开设有一排通孔(5)构成喷嘴,所述盖板与所述主体间螺纹连接。
2.根据权利要求1所述的一种线性蒸发源,其特征在于:所述凹槽(2)宽度为所述主体(3)宽度的1/8-1/5。
3.根据权利要求1所述的一种线性蒸发源,其特征在于:所述凹槽为石英槽,其内设有蒸发元件构成蒸发单元。
4.根据权利要求1所述的一种线性蒸发源,其特征在于:所述加热元件(1)为电热丝加热器,所述电热丝加热器与上方的主体抵触。
5.根据权利要求1所述的一种线性蒸发源,其特征在于:所述主体(3)两端开设有螺孔(4),与所述螺孔对应在所述盖板上也开设有螺孔,与所述螺孔配合还设有螺栓,所述主体与盖板间经螺栓及螺孔连接构成所述的螺纹连接。
6.根据权利要求1所述的一种线性蒸发源,其特征在于:所述通孔(5)孔径为0.5-5mm,所述通孔长度占盖板长度的2/5-4/5,在所述通孔上方还设有挡板。
7.根据权利要求1所述的一种线性蒸发源,其特征在于:所述通孔下端与所述主体上端(7)间的距离1-3cm。
8.根据权利要求1所述的一种线性蒸发源,其特征在于:所述主体(3)及盖板外部设有保温板(8)。
9.根据权利要求1所述的一种线性蒸发源,其特征在于:所述主体下方还设有水冷机构。
CN2013102486452A 2013-06-21 2013-06-21 一种线性蒸发源 Pending CN103290365A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2013102486452A CN103290365A (zh) 2013-06-21 2013-06-21 一种线性蒸发源

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2013102486452A CN103290365A (zh) 2013-06-21 2013-06-21 一种线性蒸发源

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN103290365A true CN103290365A (zh) 2013-09-11

Family

ID=49091881

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2013102486452A Pending CN103290365A (zh) 2013-06-21 2013-06-21 一种线性蒸发源

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN103290365A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108265267A (zh) * 2018-03-26 2018-07-10 京东方科技集团股份有限公司 一种线性蒸发源及蒸镀装置
CN114318296A (zh) * 2022-02-17 2022-04-12 广东思泉新材料股份有限公司 真空镀膜设备

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1162655A (zh) * 1996-02-28 1997-10-22 鲍尔泽斯和利博尔德德国控股公司 基质镀膜装置用的蒸发舟
KR20010092664A (ko) * 2000-03-22 2001-10-26 차레스 에이치. 펠라네 순간증발기 용기
CN1421542A (zh) * 2001-11-29 2003-06-04 电子科技大学 有机材料蒸发源
CN202011902U (zh) * 2011-01-28 2011-10-19 彩虹显示器件股份有限公司 一种真空蒸镀装置
CN203411600U (zh) * 2013-06-21 2014-01-29 苏州方昇光电装备技术有限公司 一种线性蒸发源

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1162655A (zh) * 1996-02-28 1997-10-22 鲍尔泽斯和利博尔德德国控股公司 基质镀膜装置用的蒸发舟
KR20010092664A (ko) * 2000-03-22 2001-10-26 차레스 에이치. 펠라네 순간증발기 용기
CN1421542A (zh) * 2001-11-29 2003-06-04 电子科技大学 有机材料蒸发源
CN202011902U (zh) * 2011-01-28 2011-10-19 彩虹显示器件股份有限公司 一种真空蒸镀装置
CN203411600U (zh) * 2013-06-21 2014-01-29 苏州方昇光电装备技术有限公司 一种线性蒸发源

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108265267A (zh) * 2018-03-26 2018-07-10 京东方科技集团股份有限公司 一种线性蒸发源及蒸镀装置
CN114318296A (zh) * 2022-02-17 2022-04-12 广东思泉新材料股份有限公司 真空镀膜设备

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4871833B2 (ja) 蒸着源、蒸着装置
TWI596224B (zh) 真空蒸鍍裝置
US20130019805A1 (en) Deposition source and deposition apparatus including the same
US20160230272A1 (en) Evaporation source heating device
US20110275196A1 (en) Thermal Evaporation Sources with Separate Crucible for Holding the Evaporant Material
US9340864B2 (en) Vacuum evaporation apparatus and evaporation method
CN103290365A (zh) 一种线性蒸发源
CN104694883A (zh) 一种坩埚
CN203411600U (zh) 一种线性蒸发源
JP2015067850A (ja) 真空蒸着装置
KR20140093622A (ko) 증착 장치 및 이것에 이용하는 증발원
KR100952313B1 (ko) 원료 공급 유닛과 원료 공급 방법 및 박막 증착 장치
CN106191785B (zh) 坩埚、蒸镀装置及蒸镀系统
KR20140038848A (ko) 유기전계발광소자 박막 제작용 하향식 증발원과 하향식 증착기
CN203128644U (zh) 一种线性蒸镀源喷嘴
KR20160007262A (ko) 리니어소스 및 그를 가지는 박막증착장치
KR102144790B1 (ko) 리니어 증착유닛 및 이를 포함하는 리니어 증착장치
CN205170963U (zh) 一种蒸着装置及蒸着装置组
KR101416977B1 (ko) 증발원 및 이를 구비한 증착장치
KR20170038288A (ko) 여러 유기물 기체 혼합 증발원
US11732344B2 (en) Lateral-type vacuum deposition apparatus, and source block and source assembly for the same
TWM507432U (zh) 可提升蒸鍍材料使用率之線性蒸鍍裝置
KR20040103726A (ko) 대면적 유기 전계 발광 소자의 증착 소스 및 증착 방법
KR101006952B1 (ko) 박막 제조용 진공 증발원 장치
KR20140119376A (ko) 히터 블럭을 갖는 증착 소스 장치

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20130911