KR970053509A - 반도체 소자의 다중 금속층 형성 방법 - Google Patents

반도체 소자의 다중 금속층 형성 방법 Download PDF

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KR970053509A
KR970053509A KR1019950046322A KR19950046322A KR970053509A KR 970053509 A KR970053509 A KR 970053509A KR 1019950046322 A KR1019950046322 A KR 1019950046322A KR 19950046322 A KR19950046322 A KR 19950046322A KR 970053509 A KR970053509 A KR 970053509A
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KR1019950046322A
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이강민
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김주용
현대전자산업 주식회사
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Abstract

본 발명은 반도체 소자의 다중 금속층 형성 방법에 관한 것으로, 콘택 홀 형성시 발생되는 불량을 감소시키기 위하여 콘택 홀이 형성될 부분에 감광막 패턴을 형성한 후 SOG막을 이용하여 표면을 평탄화시키고, 상기 감광막을 제거하여 콘택 홀이 형성되도록 하므로써 소자의 수율 및 신뢰성이 향상될 수 있도록 한 반도체 소자의 다중 금속형 형성 방법에 관한 것이다.
선택도 : 제2C도 및 제2D도

Description

반도체 소자의 다중 금속층 형성 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2A 내지 제2D도는 본 발명에 따른 반도체 소자의 다중 금속층 형성 방법을 설명하기 위한 소자의 단면도.

Claims (2)

  1. 반도체 소자의 다중 금속층 형성 방법에 있어서, 절연층이 형성된 실리콘 기판상에 하부 금속층 및 감광막을 순차적으로 형성하는 단계와. 상기 단계로부터 콘택 홀이 형성될 부분에만 상기 감광막이 잔류되도록 상기 감광막을 패터닝한 후 전체 상부면에 SOG막을 도포하여 표면을 평탄화시키는 단계와, 상기 단계로부터 상기감광막의 표면이 노출되는 시점까지 상기 SOG막을 전면 식각하는 단계와, 상기 단계로부터 잔류된 상기 감광막을 제거하여 콘택 홀을 형성한 후 상기 콘택 홀이 매립되도록 전체 상부면에 금속을 중착하여 상부 금속층을 형성하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 다중 금속층 형성 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 전면 식각 공정은 플라즈마를 이용한 건식 식각 방법으로 실시되는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 다중 금속층 형성 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950046322A 1995-12-04 1995-12-04 반도체 소자의 다중 금속층 형성 방법 KR970053509A (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010063022A (ko) * 1999-12-21 2001-07-09 윤종용 저유전율막을 절연막으로 사용한 반도체 소자의 컨택 홀형성 방법

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KR20010063022A (ko) * 1999-12-21 2001-07-09 윤종용 저유전율막을 절연막으로 사용한 반도체 소자의 컨택 홀형성 방법

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