KR970051892A - 감광막패턴의 형성방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체기판상에 하나의 포토마스크를 사용하여 두개의 회로패턴을 형성할 수 있는 감광막패턴의 형성방법에 관한 것으로서, 그 방법은 제1마스크패턴과 제2마스크패턴이 소정간격을 갖고 교대로 형성되어 있고, 상기 제1마스크패턴의 콘택패드형성영역들사이에 상기 제2마스크패턴의 콘택패드형성영역이 형성되어 있으며, 상기 제1,2마스크패턴사이에서 제1영역과 제2영역이 형성되어 있고, 그리고 상기 제2영역이 제1영역보다 상대적으로 긴 간격을 갖는 포토마스크를 사용하여 회로패턴을 형성한 다음, 그 회로패턴상에 형성된 포토 레지스트를 상기 포토마스크를 사용하여 과노광하여 상기 제2영역에서 소정 넓이를 갖는 감광막패턴을 형성하는 단계를 포함한다. 이러한 방법에 의하면, 하나의 포토마스크를 사용하여 두개의 회로패턴을 형성할 수 있어서, 포토마스크의 오정렬을 근본적으로 해결할 수 있을 뿐만아니라 정밀한 회로패턴을 형성할 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2A도와 제2B도는 제1A도와 제1B도의 포토마스크를 사용하여 비트라인과 매몰콘택부가 형성된 구조를 보여주고 있는 평면도.
Claims (4)
- 제1마스크패턴과 제2마스크패턴이 소정간격을 갖고 교대로 형성되어 있고, 상기 제1마스크패턴의 콘택패드형성영역들사이에 상기 제2마스크패턴의 콘택패드 형성영역이 형성되어 있으며, 상기 제1,2마스크패턴사이에서 제1영역과 제2영역이 형성되어 있고, 그리고 상기 제2영역이 제1영역보다 상대적으로 긴 간격을 갖는 포토마스크를 사용하여 메모리장치의 소정회로패턴을 형성하기 위한 감광막패턴의 형성방법에 있어서, 상기 포토마스크를 사용하여 상기 회로패턴을 형성한 다음, 그 회로패턴상에 형성된 포토레지스트를 상기 포토마스크를 사용하여 과노광하여 상기 제2영역에서 소정 넓이를 갖는 감광막패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 감광막패턴의 형성방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제1, 제2마스크패턴은 메모리장치의 비트라인형성용 마스크패턴인 것을 특징으로 하는 감광막패턴의 형성방법.
- 제1항에 있어서, 상기 감광막패턴은 상기 메모리장치의 하부전극을 매몰콘택부를 형성하기 위한 패턴인 것을 특징으로 하는 감광막패턴의 형성방법.
- 제1항에 있어서, 상기 포토레지스트는 네거티브 포토레지스트인 것을 특징으로 하는 감광막패턴의 형성방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950059250A KR970051892A (ko) | 1995-12-27 | 1995-12-27 | 감광막패턴의 형성방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950059250A KR970051892A (ko) | 1995-12-27 | 1995-12-27 | 감광막패턴의 형성방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970051892A true KR970051892A (ko) | 1997-07-29 |
Family
ID=66619898
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950059250A KR970051892A (ko) | 1995-12-27 | 1995-12-27 | 감광막패턴의 형성방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970051892A (ko) |
-
1995
- 1995-12-27 KR KR1019950059250A patent/KR970051892A/ko not_active Application Discontinuation
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