KR970048976A - 콘택홀 패턴 형성을 위한 마스크 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 콘택홀 패턴 형상을 위한 마스크에 있어서, 빛을 트과시키는 석영기고판; 상기 석영기판 상에 일정 간격을 갖고 형성되는 다수의 크롬패턴; 및 상기 크롬패턴 사이에 형성되되 번갈아 형성되어 인접한 지역과 180도의 위상차를 가지도록 형성된 위상반전 물질을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 콘택홀 패턴 형성을 위항 마스크에 관한 것이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 따른 콘택홀 형성 마스크의 단면도,
제4도는 제3도의전계 분포도,
제5도는 마스크를 토과한 빛ㅇ듸 웨이퍼상의 강도 분포도.
Claims (3)
- 콘택홀 패턴 형성을 위한 마스크에 있어서, 빛을 투과시키는 석영기판; 상기 석영기판 상에 일정간격을 갖고 형성되는 다수의 크롬패턴; 및 상기 크롬패턴 사이에 형성되되 번갈아 형성되어 인접한 지역과 180도의 위상차를 가지도록 형성된 위상반전 물질을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 콘택홀 패턴 형성을 위한 마스크.
- 제1항에 있어서, 상기 위상반전물질의 두게(d)=λ/2(n-1)여기서, λ는 빛의 파정 n=정수(2, 3, 4,.....)인 것을 특징으로 하는 콘택홀 패턴 형성을 위한 마스크.
- 제2항에 있어서, 상기 위상반전물질은 상기 석영기판이 식각된 부위에 형성되는 것을 특징으로 하는 콘택홀 패턴 형성을 위한 마스크.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019950050881A KR970048976A (ko) | 1995-12-16 | 1995-12-16 | 콘택홀 패턴 형성을 위한 마스크 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019950050881A KR970048976A (ko) | 1995-12-16 | 1995-12-16 | 콘택홀 패턴 형성을 위한 마스크 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR970048976A true KR970048976A (ko) | 1997-07-29 |
Family
ID=66595095
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950050881A KR970048976A (ko) | 1995-12-16 | 1995-12-16 | 콘택홀 패턴 형성을 위한 마스크 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR970048976A (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100340865B1 (ko) * | 1999-11-05 | 2002-06-20 | 박종섭 | 반도체 소자의 콘택 형성용 마스크 및 그 제조방법 |
KR100434494B1 (ko) * | 2001-10-23 | 2004-06-05 | 삼성전자주식회사 | 위상 반전 마스크의 패턴 교정방법 및 이를 이용하여교정된 위상 반전 마스크 |
-
1995
- 1995-12-16 KR KR1019950050881A patent/KR970048976A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100340865B1 (ko) * | 1999-11-05 | 2002-06-20 | 박종섭 | 반도체 소자의 콘택 형성용 마스크 및 그 제조방법 |
KR100434494B1 (ko) * | 2001-10-23 | 2004-06-05 | 삼성전자주식회사 | 위상 반전 마스크의 패턴 교정방법 및 이를 이용하여교정된 위상 반전 마스크 |
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