KR970030240A - 중성 입자 비임 조사 장치 - Google Patents

중성 입자 비임 조사 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명에는 하기 소자가 구비되는 중화체 비임 처리 장치가 제공된다. 플라즈마 발생기는 고주파 장의 불연속 및 적용의 변경에 의해 처리 가스로부터 플라즈마를 발생시키기 위해 제공된다. 또한 음 이온 가속기는 음 이온비임을 발생시키기 위해 가속 및 플라즈마 발생기에 의해 발생된 플라즈마로부터 음 이온을 인출시키기 위해 제공된다. 중화기는 중화체 비임을 발생시키기 위해 음 이온 비임을 중화시키기 위해 부가로 제공된다. 홀더는 중화체 비임이 조사(照射)되는 위치에서 샘플을 유지하기 위해 더 부가로 제공된다.

Description

중성 입자 비임 조사 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 제1 실시예에서의 중성자 비임 처리장치의 사시도.

Claims (8)

  1. 고주파 필드의 인기 및 단속 변경에 의해 처리 가스로부터 플라즈마를 발생하기 위해 설치된 플라즈마 발생기와; 음 이온 빔을 생성하도록 상기 플라즈마 발생기와 가속에 의해 발생된 상기 프라즈마로부터의 음 이온을 페칭하기 위해 설치된 음 이온 가속기와; 상기 음 이온빔을 중화하며 중성 입자빔을 생성하기 위해 제공된 중화장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 중성 입자빔 처리 장치;
  2. 제1항에 있어서, 상기 플라즈마 발생기는 음 이온 가스를 발생하기 위해 잔류 가스와 플라즈마의 전자가 결합될때의 시간보다 길지만 플라즈마의 전자 밀도가 플라즈마 소멸이 있도록 하강된 때의 시간보다 짧은 시간동안 고주파 필드 인가의 단속을 위해 단속을 위해 설치된 필드 인가 단속 수단과; 하강된 플라즈마 전자 에너지의 회복을 위해 충분한 시간동안 고주파 필드를 인가하기 위 설치된 고주파 필드 인가 수단과; 고주파 팰드의 인가 및 그 단속을 반복하기 위해 설치된 리피터(repeater)를 포함하는 것을 특징으로 하는 중성 입자빔 처리 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 음 이온가속기는; 그리드 전극과; 포지티브 바이어스를 그리드 전극에 공급하기 위한 전압 공급기를 포함하는 것을 특징으로 하는 중성 입자빔 처리 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 음 이온 가속기는 플라즈마로부터 음 이온을 페치하여 고주파 필드의 인가가 단속된 기간중에 이들을 가속하는 것을 특징으로 하는 중성 입자빔 처리 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 중화장치는 광을 음 이온 빔에 조사(照射)하는 광원을 포함하는 것을 특징으로 하는 중성 입자빔 처리 장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 중화 장치는 전극과 고주파 전압을 전극에 공급하기 위한 고주파 전력 공급장치가 설치되는 것을 특징으로 하는 중성 입자빔 처리 장치.
  7. 제1항에 있어서, 상기 중화 장치는 음 이온에 전자빔을 조사하기 위한 전자빔 조사기를 포함하는 것을 특징으로 하는 중성 입자빔 처리 장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 중화 장치는 음 이온빔의 경로상에 가스를 도입하는 가스 도입부인 것을 특징으로 하는 중성 입자빔 처리 장치.
KR1019960055496A 1995-11-14 1996-11-14 중성 입자 비임 조사 장치 KR100242483B1 (ko)

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