KR970016752A - 마스크 제조방법 - Google Patents

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KR970016752A
KR970016752A KR1019950029291A KR19950029291A KR970016752A KR 970016752 A KR970016752 A KR 970016752A KR 1019950029291 A KR1019950029291 A KR 1019950029291A KR 19950029291 A KR19950029291 A KR 19950029291A KR 970016752 A KR970016752 A KR 970016752A
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KR
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quartz substrate
chemical solution
resist
guard
mask manufacturing
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KR1019950029291A
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김진민
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
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Abstract

마스크 제조 방법에 대해 기재되어 있다. 이는, 석영기판 상에 레지스트를 코팅하는 제 1단계, 레지스트를 노광하는 제 2단계, 상·하 이동이 가능한 가드(guard)를 석영기판의 표면에 접촉시키는 제 3단계, 화학 용액을 분사하는 제 4단계 및 가드를 들어올린 후, 화학 용액이 분사된 결과물을 세정하는 제 5단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 따라서 현상 및 식각공정을 신뢰도 높게 진행할 수 있다.

Description

마스크 제조 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 2b도 내지 제 2d도는 본 발명에 의한 마스크 제조 방법을 설명하기 위해 도시한 단면도들이다.

Claims (2)

  1. 석영기판 상에 레지스트를 코팅하는 제 1단계 ; 상기 레지시트를 노광하는 제 2단계 ; 상·하 이동이 가능한 가드(guard)를 상기 석영기판의 표면에 접촉시키는 제 3단계 ; 화학용액을 분사하는 제 4단계 ; 및 상기 가드를 들어올린 후 화학용액이 분사된 결과물을 세정하는 제 5단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 제조 방법.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 제 4단계는 석영기판을 회전시키지 않은 상태에서 진행되는 것을 특징으로 하는 마스크 제조 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950029291A 1995-09-07 1995-09-07 마스크 제조방법 KR970016752A (ko)

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