KR970017948A - 유기 반사 방지막 제조 방법 - Google Patents
유기 반사 방지막 제조 방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 유기 반사 방지막(ARC : anti reflected coting) 제조방법에 관한 것으로서, 상세하게는 유기 포토레지스트층의 필요 부분에 선택적 노광을 하여 반사 방지막을 형성하도록 한 방법에 관한 것이다.
유기 포토 레지스트층에 마스크 패턴을 개재하여 소정의 부분을 선택적으로 노광하는 단계 및 유기 포토레지스트층의 노광된 부분은 제거하고 마스크 패턴이 개재된 부분은 남겨 열산화 베이크 과정을 통해 반사방지막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 유기 포토 레지스트층의 필요 부분에 선택적 노광을 함으로서, 패턴이 형성되지 않는 깊은 단차면 또는 좁은 공간서의 반사 방지막을 제거하는 잇점이 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 반사 방지막상에서 포토 레지스트를 코팅하고 반사 방지막을 식각하는 것을 도시한 것이다.
Claims (1)
- 기판상에 흡광제가 함유된 유기 포토 레지스층을 형성하는 단계; 상기 유기 포토 레지스트층에 마스크패턴을 개재하여 소정의 부분을 선택적으로 노광하는 단계; 상기 유기 포토 레지스트층의 노광된 부분은 제거하고 마스크 패턴이 개재된 부분은 남겨 열산화 베이크 과정을 통해 반사 방지막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 반사 방지막의 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019950031119A KR970017948A (ko) | 1995-09-21 | 1995-09-21 | 유기 반사 방지막 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019950031119A KR970017948A (ko) | 1995-09-21 | 1995-09-21 | 유기 반사 방지막 제조 방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR970017948A true KR970017948A (ko) | 1997-04-30 |
Family
ID=66616223
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950031119A KR970017948A (ko) | 1995-09-21 | 1995-09-21 | 유기 반사 방지막 제조 방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR970017948A (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100370172B1 (ko) * | 2001-03-19 | 2003-02-05 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 소자의 제조방법 |
-
1995
- 1995-09-21 KR KR1019950031119A patent/KR970017948A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100370172B1 (ko) * | 2001-03-19 | 2003-02-05 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 소자의 제조방법 |
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