KR960026627A - 다층막 폴리머 소자 제작방법 - Google Patents

다층막 폴리머 소자 제작방법 Download PDF

Info

Publication number
KR960026627A
KR960026627A KR1019940035056A KR19940035056A KR960026627A KR 960026627 A KR960026627 A KR 960026627A KR 1019940035056 A KR1019940035056 A KR 1019940035056A KR 19940035056 A KR19940035056 A KR 19940035056A KR 960026627 A KR960026627 A KR 960026627A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
polymer
device manufacturing
layer polymer
polymer device
chf
Prior art date
Application number
KR1019940035056A
Other languages
English (en)
Other versions
KR0152212B1 (ko
Inventor
한선규
이명현
김혜영
원용협
Original Assignee
양승택
재단법인 한국전자통신연구소
조백제
한국전기통신공사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 양승택, 재단법인 한국전자통신연구소, 조백제, 한국전기통신공사 filed Critical 양승택
Priority to KR1019940035056A priority Critical patent/KR0152212B1/ko
Publication of KR960026627A publication Critical patent/KR960026627A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR0152212B1 publication Critical patent/KR0152212B1/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B2006/12166Manufacturing methods
    • G02B2006/12169Annealing
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B2006/12166Manufacturing methods
    • G02B2006/12176Etching

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Abstract

본 발명은 폴리머를 입히는 단계; 상기 폴리머를 열처리하는 단계; 및 상기 폴리머의 표면을 이온식각하는 단계를 포하하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 다층 박막 폴리머 소자의 제작방법에 관한 것으로, 폴리머의 열처리 후 폴리머에 잔류하는 응력을 없애 균열핵을 제거할수 있어 양질의 다층 박막 폴리머 소자를 얻을 수 있는 효과가 된다.

Description

다층막 폴리머 소자 제작방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 폴리머 광소자 제작공정도, 제3도는 본 발명에 의해 제작된 폴리머 광소자의 사진.

Claims (3)

  1. 다층 박막 폴리머 소자의 제작방법에 있어서, 폴리머를 입히는 단계; 상기 폴리머를 열처리하는 단계; 및 상기 폴리머의 표면을 이온식각 하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 다층 박막 폴리머 소자의 제작방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 이온식각 가스 CHF3, CHF4, O2, He중 적어도 하나 이상 가스로 구성되는 것을 특징으로 하는 다층 박막 폴리머 소자의 제작방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 이온식각 가스는 CHF3, CHF4, O2, Ar중 적어도 하나 이상 가스로 구성되는 것을 특징으로 하는 다층 박막 폴리머 소자의 제작방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940035056A 1994-12-19 1994-12-19 플리머를 다층으로 적층하기 위한 방법 KR0152212B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019940035056A KR0152212B1 (ko) 1994-12-19 1994-12-19 플리머를 다층으로 적층하기 위한 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019940035056A KR0152212B1 (ko) 1994-12-19 1994-12-19 플리머를 다층으로 적층하기 위한 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR960026627A true KR960026627A (ko) 1996-07-22
KR0152212B1 KR0152212B1 (ko) 1998-12-01

Family

ID=19402185

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019940035056A KR0152212B1 (ko) 1994-12-19 1994-12-19 플리머를 다층으로 적층하기 위한 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR0152212B1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101707888B1 (ko) * 2015-03-19 2017-03-23 충남대학교산학협력단 다층 고분자 박막 및 이의 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR0152212B1 (ko) 1998-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR960009295A (ko) 반도체 레이저 다이오드와 그 제조방법
KR920018850A (ko) 메탈플러그의 형성방법
KR940001266A (ko) 메탈 마스크 공정시 광반사 감소방법
KR840006728A (ko) 집적회로 제조방법
KR950001924A (ko) 미세 구리 전도체 패턴을 형성하는 방법
KR960026627A (ko) 다층막 폴리머 소자 제작방법
KR930018661A (ko) 콘택트홀의 형성방법
KR910020802A (ko) 마스크의 제작방법
KR920015470A (ko) 반도체 장치 및 반도체 장치용 절연 막 제조방법
KR970052723A (ko) 반도체 소자 제조 방법
KR970017948A (ko) 유기 반사 방지막 제조 방법
KR930010653A (ko) 고효율의 홀로그래픽 광학소자 제조방법
KR970054993A (ko) 부분 회절 격자 형성 방법
KR970054532A (ko) 반도체소자의 소자분리막 제조방법
KR950006477A (ko) 마이크로 렌즈의 제조방법
KR900002432A (ko) 반도체의 사이드벽 형성방법
KR960026351A (ko) 스페이서절연층 형성방법
KR950005005A (ko) 투사형화상표시장치용 거울의 제조방법
KR920001678A (ko) 금속 배선의 알루미늄 산화막 형성 제조방법
KR970007825A (ko) 박막 자기 헤드 제작 방법
KR970048913A (ko) 반도체 소자의 금속마스크 패턴 형성방법
KR970018041A (ko) 반도체 소자의 미세 콘택홀 형성 방법
KR900003972A (ko) 스페이서를 이용한 패턴 형성 방법
KR940022717A (ko) 게이트 전극 형성 방법
KR970052194A (ko) 반도체 소자의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20030530

Year of fee payment: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee