KR960042226A - 노광상태검출계 및 이것을 사용한 노광장치 - Google Patents

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Abstract

감광재로 도포된 물체상에 형성된 주기적인 패턴의 형성상태를 노광광을 통해 검출하는 형성상태검출계는, 주기적인 패턴상에 입력광을 투영하는 광투영장치와, 주기적인 패턴으로부터의 신호광을 수광하고 상기 입력광의 변화를 검출하여 이 입력광의 변화에 의거해서 주기적인 패턴의 형성상태를 결정하는 결정장치를 구비한다.

Description

노광상태검출계 및 이것을 사용한 노광장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 제1실시예에 의한 투영노광장치의 주요부분의 개략단면도.

Claims (18)

  1. 감광재로 도포된 물체상에 노광광을 통해서 형성된 주기적인 패턴의 형성상태를 검출하는 형성상태 검출계에 있어서, 상기 주기적인 패턴상으로 입력광을 투영시키는 광투영수단과; 상기 주기적인 패턴으로부터의 신호광을 수광하고 입력광의 변화를 검출하여, 상기 입력광의 변화에 의거해서 주기적인 패턴의 형성상태를 결정하는 결정수단을 구비한 것을 특징으로 하는 형성상태검출계.
  2. 제1항에 있어서, 상기 검출하려는 주기적인 패턴의 형성상태는 주기적인 패턴의 듀티에 관계된 것을 특징으로 하는 형성상태검출계.
  3. 제1항에 있어서, 상기 검출하려는 입력광의 변화는 상기 입력광의 편광상태의 변화에 관계된 것을 특징으로 하는 형성상태검출계.
  4. 제1항에 있어서, 상기 검출하려는 입력광의 변화는 상기 입력광의 강도변화에 관계된 것을 특징으로 하는 형성상태검출계.
  5. 제1항에 있어서, 상기 입력광은 노광광의 파장과 다른 파장을 지닌 것을 특징으로 하는 형성상태검출계.
  6. 노광광으로 조명된 제1물체의 주기적인 패턴을 투영광학계를 통해서 감광재가 도포된 제2물체상에 투영시키는 투영노광장치에 있어서 : 상기 감광재상에 형성된 인쇄패턴상에 입력광을 투영시키는 광투영수단과 ; 상기 인쇄패턴으로부터의 신호광을 수광하고 상기 입력광의 변화를 검출하여, 상기 입력광의 변화에 의거해서 주기적인 패턴의 형성상태를 결정하는 결정수단을 구비한 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 검출하려는 인쇄패턴의 형성상태는 인쇄패턴의 듀티에 관계된 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  8. 제6항에 있어서, 상기 검출하려는 입력광의 변화는 상기 입력광의 편광상태의 변화에 관계된 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  9. 제6항에 있어서, 상기 검출하려는 입력광의 변화는 상기 입력광의 강도변화에 관계된 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  10. 제6항에 있어서, 상기 입력광은 상기 노광광의 파장과 다른 파장을 지닌 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  11. 감광재가 도포된 제2물체상에 노광광으로 조명된 제1물체의 주기적인 패턴을 투영광학계를 통해서 투영시키는 투영노광 방법에 있어서, 노광조건을 변화시키면서 상기 제2물체의 감광재상에 상기 제1물체의 주기적인 패턴을 투영하고 인쇄하여 복수의 인쇄패턴을 형성하는 단계와; 상기 인쇄패턴의 각각의 입력광을 투영하고, 상기 인쇄패턴으로부터의 신호광을 수광하고, 상기 입력광의 변화를 검출하여 상기 입력광의 변화에 의거해서 상기 인쇄패턴의 형성상태를 결정하는 단계와; 상기 인쇄패턴의 형성상태에 의거해서 노광조건을 결정하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 노광조건은 상기 제2물체의 노광량에 관계된 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  13. 제11항에 있어서, 상기 노광조건은 상기 투영광학계의 광축을 따르는 방향에 대해서 상기 제2물체의 위치에 관계된 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  14. 제11항에 있어서, 상기 검출하려는 인쇄패턴의 형성상태는 인쇄패턴의 듀티에 관계된 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  15. 제11항에 있어서, 상기 검출하려는 입력광의 변화는 상기 입력광의 편광상태의 변화에 관계된 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  16. 제11항에 있어서, 상기 검출하려는 입력광의 변화는 상기 입력광의 강도변화에 관계된 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  17. 제11항에 있어서, 상기 입력광은 상기 노광광의 파장과 다른 파장을 지닌 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  18. 레티클패턴을 투영광학계를 통해서 웨이퍼상에 투영시키고, 상기 웨이퍼를 현상공정에 의해 순차 처리하는 것에 의해 디바이스를 생산하는 디바이스 제조 방법에 있어서, 노광조건을 변화시키면서 상기 웨이퍼의 감광재상에 상기 레티클의 주기적인 패턴을 투영하여 상기 웨이퍼상에 복수의 인쇄패턴을 형성하는 단계와; 상기 인쇄패턴의 각각에 입력광을 투영하고, 상기 인쇄패턴으로부터의 신호광을 수광하고, 상기 입력광의 변화를 검출하여 상기 입력광의 변화에 의거해서 상기 인쇄패턴의 형성상태를 결정하는 단계와; 상기 인쇄패턴의 형성상태에 의거해서 노광조건을 결정하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960016372A 1995-05-16 1996-05-16 노광상태검출계 및 이것을 사용한 노광장치 KR100233383B1 (ko)

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