KR960011564A - 노광조건 및/또는 투영광학계의 수차측정방법 - Google Patents

노광조건 및/또는 투영광학계의 수차측정방법 Download PDF

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Abstract

본 발명에서는, 패턴을 감광기판위에 전사할 때의 노광조건 또는 투영광학계의 수차를 측정하는 방법이 개시되어 있으며, 여기에서는, 패턴을 서로 다른 노광조건에서 감광기판위에 복수의 전사하여 해당감광기판위에 복수의 감광패턴을 형성하고, 이 감광패턴의 상을 촬상하고, 상기 촬상에 의해 얻어진 화상신호로부터 상기 감광패턴의 주파수성분을 산출하고, 이 감광패턴의 주파수성분에 의거해서 상기 패턴을 상기 감광기판위에 전사할 때의 최적노광조건을 결정하고 있다.

Description

노광조건 및/또는 투영광하계의 수차측정방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 의한 노광조건측정계의 구성을 설명하는 개략도,
제2도는 노광장치에 있어서의 포커스검출과 노광량제어를 설명하기 위한 부분적 개략도.

Claims (17)

  1. 패턴을 감광기판위에 전사할 때의 노광조건을 측정하는 방법에 있어서, 패턴을 서로 다른 노광조건에서 감광기판위에 복수회 전사하여 해당 감광기판위에 복수의 감광패턴을 형성하는 패턴형성공정과, 사기 복수의 감광패턴의 상을 촬상하는 촬상공정과, 상기 촬상공정에서의 얻어진 화상신호로부터 상기 감광기판위에 전사할 때의 최적노광조건을 결정하는 결정공정을 구비한 것을 특징으로 하는 노광조건측정방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 감광기판은 레지스트가 도포된 웨이퍼인 것을 특징으로 하는 노광조건측정방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 각 감광패턴은 현상공정후에 형성되는 레지스트패턴인 것을 특징으로 하는 노광조건측정방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 각 감광패턴은 현상공정전에 형성되는 레지스트패턴인 것을 특징으로 하는 노광조건측정방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 전사되는 패턴은 주기성을 지닌 패턴인 것을 특징으로 하는 노광조건측정방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 감광패턴의 주파수중, 상기 주기성 패턴에 의해 결정되는 기본주파수의 파워에 의거해서 최적노광조건을 결정하는 제2결정공정을 또 구비한 것을 특징으로 하는 노광조건측정방법.
  7. 제1항에 있어서, 상기 노광조건은 파라미터로서 노광량을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광조건측정방법.
  8. 제1항에 있어서, 상기 패턴은 투영광학계에 의해서 상기 감광기판에 전사되며, 상기 노광조건은 상기 투영광학계의 광축방향에 대한 감광기판의 위치를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광조건측정방법.
  9. 투영광학계의 수차를 측정하는 방법에 있어서, 레티클의 패턴을 투영광학계에 의해 감광기판위에 전사하여 해당 감광기판위에 감광패턴을 형성하는 패턴형성공정과, 상기 감광패턴의 상을 촬상하는 촬상공정과, 상기 촬상공정에서의 얻어진 화상신호로부터 상기 감광패턴의 주파수성분을 산출하는 산출공정과, 상기 감광패턴의 주파수성분에 의거해서, 상기 투영광학계의 수차를 결정하는 결정공정을 구비한 것을 특징으로 하는 투영광학계의 수차측정방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 감광기판은 레지스트가 도포된 웨이퍼인 것을 특징으로 하는 투영광학계의 수차측정방법.
  11. 제9항에 있어서, 상기 감광패턴은 현상공정후에 형성되는 레지스트패턴인 것을 특징으로 하는 투영광학계의 수차측정방법.
  12. 제9항에 있어서, 상기 감광패턴은 현상공정전에 레지스트층부분에 형성되는 잠상인 것을 특징으로 하는 투영광학계의 수차측정방법.
  13. 제9항에 있어서, 상기 레티클은 복수의 피전사패턴을 지니며, 이 패턴은 해당 레티클위의 상이한 위치에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 투영광학계의 수차측정방법.
  14. 제9항에 있어서, 상기 패턴은 주기성을 지닌 패턴인 것을 특징으로 하는 투영광학계의 수차측정방법.
  15. 제9항에 있어서, 상기 감광패턴은 주파수성분의 위상에 의거해서, 상기 투영광학계의 수차를 결정하는 제2결정공정을 또 구비한 것을 특징으로 하는 투영광학계의 수차측정방법.
  16. 제9항에 있어서, 상기 투영광학계의 광축방향에 대해서 다른 위치에서 상기 감광기판위에 복수의 패턴을 전사하며, 해당 감광기판위에 복수의 감광패턴을 형성하는 패턴형성공정을 구비한 것을 특징으로 하는 투영광학계의 수차측정방법.
  17. 제14항에 있어서, 상기 감광패턴의 주파수중, 상기 주기성 패턴에 의해 결정되는 기본주파수의 파워에 의거해서 상기 투영광학계의 상면위치를 결정하는 제3결정공정을 또 구비한 것을 특징으로 하는 투영광학계의 수차측정방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950028048A 1994-09-02 1995-08-31 노광조건 및/또는 투영광학계의 수차측정방법 KR100210567B1 (ko)

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