KR960026799A - 반도체소자의 캐패시터 제조방법 - Google Patents
반도체소자의 캐패시터 제조방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 반도체소자의 캐패시터 제조방법에 관한 것으로, 반도체 소자가 고집적화됨에 따라 반도체기판상부에 제1도전층과 제2도전층으로 평탄화시키되, 평탄화되는 제1도전층과 제2도전층 사이로 절연막을 노출시키고 노출된 절연막을 선택성장시켜 선택적 성장 절연막을 형성한 다음, 전체표면상부에 제3도전층을 형성하고 저장전극마스크를 이용한 식각공정과, 상기 절연막 및 선택적 성장 절연막 제거공정으로 표면적이 증가된 저장전극을 증가시킴으로써 캐패시터의 정전용량을 극대화하여 반도체소자의 고집적화를 가능하게 하는 기술이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1A도 내지 제1F도는 본 발명의 실시예에 따른 반도체소자의 캐패시터 제조공정을 도시한 단면도.
Claims (8)
- 반도체기판 상부에 하부절연층을 형성하는 공정과, 상기 하부절연층 상부에 제1절연막을 형성하는 공정과, 콘택마스크를 이용한 식각공정으로 상기 제1절연막과 하부절연층을 식각하여 콘택홀을 형성하는 공정과, 상기 콘택홀을 통하여 상기 반도체기판에 접속되는 제1도전층을 형성하는 공정과, 상기 제1도전층 상부에 제1감광막패턴을 형성하는 공정과, 상기 제1감광막패턴을 이용한 식각공정으로 상기 제1도전층을 일정두께 식각하는 공정과, 상기 식각된 제1도전층의 식각면에 제2절연막 스페이서를 형성하는 공정과, 전체표면상부에 제2도전층을 형성하는 공정과, 상기 제1절연막 상부에 남아있는 제1도전층과 상기 제2도전층이 상기 제2절연막의 양측으로 평탄화되도록 전면식각하는 공정과, 상기 노출된 제2절연막 스페이서를 선택성장시켜 선택적 성장 절연막을 형성하는 공정과, 전체표면상부에 제3도전층을 일정두께 형성하는 공정과, 전체표면상부에 제2감광막패턴을 형성하는 공정과, 상기 제2감광막패턴을 이용한 식각공정으로 상기 제3도전층과 제1도전층을 순차적으로 식각하는 공정과, 상기 제2감광막패턴을 제거하는 공정과, 상기 제1절연막 제2절연막 스페이서 및 선택적 성장 절연막을 제거하는 공정을 포함하는 반도체소자의 캐패시터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제1감광막패턴은 상기 콘택마스크보다 크게 형성된 것을 특징으로 하는 반도체소자의 캐패시터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제1절연막과 제2절연막은 TEOS로 형성된 것을 특징으로 하는 반도체소자의 캐패시터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제1절연막과 제2절연막은 PSG로 형성된 것을 특징으로 하는 반도체소자의 캐패시터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제1,2,3도전층은 다결정실리콘막으로 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체소자의 캐패시터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제1도전층 식각공정은 상기 제1절연막을 식각장벽으로 실시되는 것을 특징으로 하는 반도체소자의 캐패시터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제2감광막패턴은 저장전극마스크를 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 반도체소자의 캐패시터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제1절연막, 제2절연막 및 선택적 성장 절연막은 상기 제1도전층 및 제2도전층 스페이서와의 식각선택비 차이를 이용하여 제거하는 것을 특징으로 하는 반도체소자의 캐패시터 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940032806A KR960026799A (ko) | 1994-12-05 | 1994-12-05 | 반도체소자의 캐패시터 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940032806A KR960026799A (ko) | 1994-12-05 | 1994-12-05 | 반도체소자의 캐패시터 제조방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR960026799A true KR960026799A (ko) | 1996-07-22 |
Family
ID=66649107
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019940032806A KR960026799A (ko) | 1994-12-05 | 1994-12-05 | 반도체소자의 캐패시터 제조방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR960026799A (ko) |
-
1994
- 1994-12-05 KR KR1019940032806A patent/KR960026799A/ko not_active Application Discontinuation
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