KR960002885A - 반도체 집적 회로 구조 및 그 제조 방법 - Google Patents

반도체 집적 회로 구조 및 그 제조 방법 Download PDF

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앙드레 페이르-라비너
베로니크 마카리
라이오넬 레꾸저르
마뤼스 바쁠레
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에이취. 이보트슨
모또로라 세미꽁딕뙤르 에스아
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Abstract

제1기판(37)과 제2기판(38)으로부터 고전압 집적 회로가 형성되며 제1기판(37)은 두 기판이 서로 원자적으로 결합될 때까지 대략 1200℃에서 열처리되어 결합 경계(39)에서 제2기판(38)에 결합된다. 먼저, 제1기판(37)에 접촉부(40)와 같은 접촉부들을 갖는 P+ 와 N+ 영역을 포함한 서로 다르게 도프된 영역들이 제공되어 제어 회로(41)를 형성한다. 결합 경계(39)에 SiO2절연층 아래로 연장되는 집적 회로의 고전압 부분으로부터 제어 회로(41)를 절연시킨다.

Description

반도체 집적 회로 구조 및 그 제조 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제18도는 제1도 내지 제1도와 관련하여 기술된 제1실시옐,ㄹ 포함하는 집적 회로의 구조도.
제19도는 제2실시예의 반도체 집적회로의 도면.

Claims (6)

  1. 비교적 고전압인 디바이스 및 비교적 저전압인 디바이스를 포함하는 ㅈ반도체 집적 회로 구조로서, 상기 고전압 디바이스는 상기 저전압 제어 디바이스 아래로 연장된 적어도 한 층을 갖는 수직 트랜지스터를 포함하고. 상기 저전압 제어 디바이스는 한 유전체 층에 의해 상기 한 층으로부터 절연되는 반도체 집적 회로 구조.
  2. 제1항에 있어서, 상기 유전체 층은 이산화 실리콘인 것ㅇ르 특징으로 하는 반도체 집적 회로.
  3. 제1항에 있어서, 상기 유전체 층은 반도체 집적 회로 구조를 형성하기 위하여 서로 결합된 두 실리콘 기판 사이의 접합에 제공되는 것을 특징으로 하는 반도체 집적회로 구조
  4. 비교적 고전압의 디바이스와 비교적 저전압에 제어 디바이스를 포함한 반도체 집적 회로 구조의 제조 방법으로서, 제1기판을 갖은 제1실리콘 기판을 제공하는 단계와, 상기 제1실리콘 기판의 제1부분에 비교적 저전압인 디바이스를 적어도 부분적으로 제조하는 단계와, 제1기판을 갖는 제2실리콘 기판을 제공하는 단계와,제1실리콘 기판의 제1부분과 제2실리콘 기판의 제1표면 상이에 한 유전체 층이 제공되는 제1실리콘 기판의 제1표면과 제2실리콘 기판의 제1표면을 결합하는 단계와, 상기 제1실리콘 기판의 제1부분을 가로질러 상기 제2실리콘 기판애로 연장되고 상기 유전체 층에 의해 분리되도록 상기 제1실리콘 기판의 제2부분과 제2실리콘기판에 비교적 고전압인 디바이스를 제조하는 단계를 포함하는 반도체 집적 회로 구조의 제조 방법.
  5. 제4항에 있어서, 상기 제1부분의 한 표면이 기판의 제1표면에 비해 내부 레벨에 위치하고 상기 유전체층이 상기 제1부분의 표면과 제2실리콘 기판의 제1표면 사이에 제공되도록 상기 비교적 저전압의 디바이스가 제1실리콘 기판에 제조되는 것을 특징으로 하는 반도체 집적 회로 구조의 제조 방법.
  6. 제4항에 있어서, 상기 결합이 고온에서 이루어져 상기 유전체가 제2실리콘 기판의 제1층으로부터 이산화 실리콘으로 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 집적 회로 제조 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950013747A 1994-06-10 1995-05-30 반도체 집적 회로 구조 및 그 제조 방법 KR960002885A (ko)

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