KR950020976A - 사진석판술에서 포토마스크의 방진 방호용으로 사용되는 프레임-지지된 펠리클 - Google Patents

사진석판술에서 포토마스크의 방진 방호용으로 사용되는 프레임-지지된 펠리클 Download PDF

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Abstract

본 발명은 LSI 및 액정소자판과 같은 정밀 전자 장치의 제조에 있어서 사진석판 패터닝 작업에 사용되는 포토마스크의 방진 보호용으로 사용되는, 강고한 프레임 및 분탄-미함유 형으로 프레임의 말단 편면에 접착접합된 투명한 플라스틱 필름으로 이루어진 통합체인 프레임-지지된 펠리클에 관한 것이다. 프레임-지지된 펠리클은 프레임 및 플라스틱 필름을 형성하는 중합체 수지의 유리전이 온도보다는 실질적으로 낮은 유리전이 온도를 갖는 접착제로 접착시킴으로써 제조되며, 접착공정은 접착제의 유리전이 온도보다는 높고 필름의 중합체 수지의 유리전이 온도보다는 낮은 온도에서 수행하여 뒤틀림이나 주름 발생과 같은 수지 필름에 대한 부작용을 일으키지 않고도 프레임과 수지 필름 사이에 우수한 접착강도를 얻을 수 있다.

Description

사진석판술에서 포토마스크의 방진 방호용으로 사용되는 프레임-지지된 펠리클
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (4)

  1. (a) 실질적으로 평행한 말단 표면을 갖는, 강고한 재료로 만든 펠리클 프레임; (b) 분탄-미함유 형으로 펠리클 프레임의 말단 편면에 도포 및 접착 접합된 열가소성 수지의 투명한 필름인 펠리클 막; 및 (c) 펠리클막과 펠리클 프레임의 말단 표면 사이에 끼어 막과 프레임을 접착 접합하는 접착제 층(여기서, 접착제는 펠리클막을 형성하는 열가소성 수지의 유리 전이 온도보다 실질적으로 낮은 유리 전이 온도를 갖는다)을 함유하는 통합체임을 특징으로 하는 사진석판 패터닝 작업에서 포토마스크의 방진 보호용으로 사용되는 프레임-지지된 펠리클.
  2. 제1항에 있어서, 접착제의 유리 전이 온도가 펠리클 막을 형성하는 플라스틱 수지의 유리 전이 온도보다 5℃ 이상 낮은 프레임-지지된 펠리클.
  3. 제2항에 있어서, 접착제의 유리 전이 온도가 펠리클 막을 형성하는 플라스틱 수지의 유리 전이 온도보다 20℃ 이상 낮은 프레임-지지된 펠리클.
  4. (1) 실질적으로 평행한 말단 표면을 갖는 강고한 재료로 만든 펠리클 프레임의 말단 편면을, 펠리클 막을 형성하는 열가소성 수지의 유리 전이 온도보다 실질적으로 낮은 유리 전이 온도를 갖는 접착제로 피복하여 접착제 층을 형성하고; (2) 접착제의 유리 전이 온도보다는 높고 열가소성 수지의 유리 전이 온도보다는 낮은 접착온도에서 펠리클 막 및 접착제 층을 가열하고; (3) 접착제 층으로 피복된 펠리클 프레임의 말단 표면과 펠리클 막을 접촉시켜 이들 사이에 접착제 층을 끼게 하고; (4) 접착제 층을 그 유리 전이 온도 이하로 냉각하는 공정을 특징으로 하는, 펠리클 프레임 및 펠리클 프레임의 말단 편면에 접착접합된 플라스틱 수지의 투명한 펠리클 막과 이들 사이에 낀 접착제 층으로 이루어진 통합체로서 사진 석판 패터닝 작업에서 포토마스크의 방진 보호용으로 사용되는 프레임-지지된 펠리클의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940033988A 1993-12-13 1994-12-13 사진석판술에서 포토마스크의 방진 보호용으로 사용되는 프레임 지지된 펠리클 KR100353659B1 (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100809107B1 (ko) * 2001-08-31 2008-03-04 어사이스트 테크놀로지스, 인코포레이티드 반도체 재료 처리 시스템용 통합 프레임

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5772817A (en) * 1997-02-10 1998-06-30 Micro Lithography, Inc. Optical pellicle mounting system
DE19808461A1 (de) * 1998-03-02 1999-09-09 Zeiss Carl Fa Retikel mit Kristall-Trägermaterial
JP2000292908A (ja) * 1999-04-02 2000-10-20 Shin Etsu Chem Co Ltd リソグラフィー用ペリクル
US6280885B1 (en) 1999-08-11 2001-08-28 Dupont Photomasks, Inc. Dust cover comprising anti-reflective coating
US6639650B2 (en) 1999-12-21 2003-10-28 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Light exposure method, light exposure apparatus, pellicle and method for relieving warpage of pellicle membrane
US6548129B2 (en) * 2000-03-15 2003-04-15 Asahi Glass Company, Limited Pellicle
JP2002182373A (ja) * 2000-12-18 2002-06-26 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクル及びその製造方法及びフォトマスク
CN1237395C (zh) * 2000-12-27 2006-01-18 三井化学株式会社 薄膜和薄膜的制造方法以及薄膜用粘合剂
US6524754B2 (en) 2001-01-22 2003-02-25 Photronics, Inc. Fused silica pellicle
US7351503B2 (en) * 2001-01-22 2008-04-01 Photronics, Inc. Fused silica pellicle in intimate contact with the surface of a photomask
US6911283B1 (en) 2001-02-07 2005-06-28 Dupont Photomasks, Inc. Method and apparatus for coupling a pellicle to a photomask using a non-distorting mechanism
US6841312B1 (en) 2001-04-11 2005-01-11 Dupont Photomasks, Inc. Method and apparatus for coupling a pellicle assembly to a photomask
US6543240B2 (en) * 2001-07-20 2003-04-08 William W. Grafton Combination airconditioning/heat system for emergency vehicle
US7264853B2 (en) * 2003-08-26 2007-09-04 Intel Corporation Attaching a pellicle frame to a reticle
US7316869B2 (en) 2003-08-26 2008-01-08 Intel Corporation Mounting a pellicle to a frame
US7314667B2 (en) * 2004-03-12 2008-01-01 Intel Corporation Process to optimize properties of polymer pellicles and resist for lithography applications
US20050202252A1 (en) * 2004-03-12 2005-09-15 Alexander Tregub Use of alternative polymer materials for "soft" polymer pellicles
JP2008256925A (ja) 2007-04-04 2008-10-23 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクル
JP2009025562A (ja) 2007-07-19 2009-02-05 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクルフレーム
JP4931717B2 (ja) 2007-07-19 2012-05-16 信越化学工業株式会社 リソグラフィー用ペリクルの製造方法
JP2009025559A (ja) 2007-07-19 2009-02-05 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクルフレーム
JP2009063740A (ja) 2007-09-05 2009-03-26 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクルフレーム
JP4979088B2 (ja) 2008-05-14 2012-07-18 信越化学工業株式会社 半導体リソグラフィー用ペリクル
JP2009276521A (ja) 2008-05-14 2009-11-26 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクル
JP2010210974A (ja) 2009-03-11 2010-09-24 Shin-Etsu Chemical Co Ltd ペリクルの製造方法及びペリクル
JP2010256609A (ja) 2009-04-24 2010-11-11 Shin-Etsu Chemical Co Ltd ペリクル
JP5411666B2 (ja) 2009-11-19 2014-02-12 信越化学工業株式会社 リソグラフィ用ペリクル
JP2011113033A (ja) 2009-11-30 2011-06-09 Shin-Etsu Chemical Co Ltd ペリクル膜の製造方法および装置
JP2011158585A (ja) 2010-01-29 2011-08-18 Shin-Etsu Chemical Co Ltd ペリクルおよびペリクルの製造方法
WO2011125407A1 (ja) 2010-04-02 2011-10-13 信越化学工業株式会社 フォトマスクユニット及びその製造方法
JP2012063444A (ja) * 2010-09-14 2012-03-29 Asahi Kasei E-Materials Corp ペリクル枠体、ペリクル及びペリクル枠体の製造方法
JP5478463B2 (ja) 2010-11-17 2014-04-23 信越化学工業株式会社 リソグラフィー用ペリクル
JP2012112998A (ja) 2010-11-19 2012-06-14 Shin Etsu Chem Co Ltd リソグラフィ用ペリクルの貼り付け方法および装置
KR102293215B1 (ko) 2017-03-27 2021-08-24 삼성전자주식회사 펠리클의 제조 방법 및 펠리클 조립 장치
TWI686046B (zh) * 2018-09-26 2020-02-21 和碩聯合科技股份有限公司 多輸入電壓轉換器

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0667409A (ja) * 1992-08-21 1994-03-11 Shin Etsu Chem Co Ltd リソグラフィー用ペリクル
US5344677A (en) * 1992-08-27 1994-09-06 Hong Gilbert H Photochemically stable deep ultraviolet pellicles for excimer lasers

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100809107B1 (ko) * 2001-08-31 2008-03-04 어사이스트 테크놀로지스, 인코포레이티드 반도체 재료 처리 시스템용 통합 프레임

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Publication number Publication date
US5693382A (en) 1997-12-02
KR100353659B1 (ko) 2002-12-11
TW439017B (en) 2001-06-07
JP3089153B2 (ja) 2000-09-18
JPH07168345A (ja) 1995-07-04

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