KR950004515A - 포토마스크의 방진 보호용 프레임-지지 펠리클 - Google Patents
포토마스크의 방진 보호용 프레임-지지 펠리클 Download PDFInfo
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Abstract
강성 프레임과 느슨하지 않은 양태로 프레임의 한쪽 밀단표면에 접착력있게 결합한 투명한 플라스틱막으로 구성되어 있고, 정밀전자부품 및 장치 제조용으로 사진평판패턴작업에서 사용된 포토마스크의 방진 보호용 프레임-지지 펠리클에 대한 개선방안 제안되었다.
이러한 개선방안은 수송 및 취급과정 중 펠리클막위의 먼지입자 침착에 의한 피할 수 없는 문제점을 완전하게 해결하기 위하여 전착법에 의하여 펠리클 프레임의 전체 표면을 코팅 조성물로 코팅하여 달성된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (5)
- 하기를 포함하는 집적체인 포토마스크의 방진보호용 프레임-지지 펠리클(frame-supported pellicele):(a) 강성 물질로 제조하고, 수용성 코딩 조성물에서 전착의 코팅법으로 형성한 코팅 조정물층을 전체 표면상에 공여한 프레임; 및 (b) 프레임의 한쪽 말단 표면에 분산되어 드럼헤드-형의 느슨하지 않은 양태로 접착력 있게 결합한 플라스틱 수지의 투명성 필름.
- 제1항에 있어서, 프레임을 형성하는 강성물질이 알루미늄 합금인 프레임-지지 펠리클.
- 제1항에 있어서, 프레임의 전체표면상의 코팅 조성물층의 두께가 5∼50㎛의 범위인 프레임-지지펠리클
- 제1항에 있어서, 수용성 코팅 조성물의 전색제(vehicle) 수지가 아크릴 수지 또는 플루오로탄수지인 프레임-지지 펠리클.
- 제1항에 있어서, 프레임 전체표면상의 코팅 조성물층을 검정 안료 또는 색소를 함유하는 수용성 코팅 조성물에서 전착의 코팅법에 의해 검정으로 착색시키는 프레임-지지 펠리클.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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---|---|---|---|---|
KR100612737B1 (ko) * | 2005-08-24 | 2006-08-21 | (주)파워셀 | 포토리소그래피용 펠리클프레임 제조방법 |
Families Citing this family (23)
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---|---|---|---|---|
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JP2007333910A (ja) * | 2006-06-14 | 2007-12-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル |
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KR101990345B1 (ko) * | 2009-10-02 | 2019-06-18 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 펠리클의 제조 방법 |
JP2011107230A (ja) * | 2009-11-13 | 2011-06-02 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクルおよびその製造方法 |
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JP5517360B2 (ja) * | 2011-07-05 | 2014-06-11 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル及びその製造方法 |
JP5940283B2 (ja) * | 2011-11-04 | 2016-06-29 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル |
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Family Cites Families (3)
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---|---|---|---|---|
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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