JP5517360B2 - ペリクル及びその製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims description 38
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 29
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 27
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 claims description 24
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 19
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 18
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 18
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 6
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 5
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 239000013464 silicone adhesive Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOASZDZKJFWASP-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-(3-ethyl-2,4-dimethylpentan-3-yl)oxy-2,4-dimethylpentane Chemical compound CCC(C(C)C)(C(C)C)OC(CC)(C(C)C)C(C)C IOASZDZKJFWASP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 229940121375 antifungal agent Drugs 0.000 description 1
- 239000003429 antifungal agent Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000005002 finish coating Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/22—Masks or mask blanks for imaging by radiation of 100nm or shorter wavelength, e.g. X-ray masks, extreme ultraviolet [EUV] masks; Preparation thereof
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F1/38—Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof
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- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
- G03F7/70916—Pollution mitigation, i.e. mitigating effect of contamination or debris, e.g. foil traps
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Description
そこで、フォトマスク表面にゴミが付着するのを防止するため、フォトマスクにペリクルを貼り付けた後に露光を行っている。
リソグラフィー時には焦点をフォトマスクのパターン上に合わせるので、異物がペリクル上に付着していても、その異物は転写に影響を与えず、製品の不良の原因となるパターンのがさつき等を防ぐことができる。
このような、表面が凸凹な状態、又はポーラスな状態のペリクルフレームの上に、粘度の高い粘着剤を塗布すると、ペリクルフレームの凹みや窪み、空孔中の空気が、粘着剤の塗布時に粘着剤との界面に取り残される。粘着剤層中の気泡は浮力により粘着剤層表面に移動し、層外に抜けるものもあるが、粘着剤中に取り残されたままの気泡もある。
この気泡は粘着剤層の外観不良の原因となるため、ペリクル製造の歩留り低下の一因となっていた。また、粘着剤中に気泡があると、フォトマスクに貼り付けたときの圧力が不均一になり、密着不良が生じるおそれもある。
また、本発明の第2の目的は、該ペリクルの製造方法を提供することにある。
本発明において、前記シリコーン樹脂コーティング層の厚さは1μm以上500μm以下であることが好ましい。
また、前記粘着剤層は、シリコーン樹脂粘着剤の層又はアクリル樹脂粘着剤の層であることが好ましい。
図1は本発明のペリクルの一実施態様を示す縦断面図である。図1中の符号1はペリクルである。このペリクル1では、フォトマスク又はそのガラス基板部分等の、ペリクル1を貼り付ける基板の形状に対応させたペリクルフレーム12の上端面にペリクル膜11が張設される。ペリクル1の形状は、通常は長方形又は正方形である。
ペリクルフレーム12の下端面にはシリコーン樹脂コーティング層13を介して、ペリクルを基板に貼り付けるための粘着剤層14が形成されている。また、粘着剤層14の下面には、該粘着剤層14を保護するための剥離シート15が貼り付けられており、該剥離シート15は、使用時には剥離される。
また、本発明で使用するペリクルフレームの材質も特に制限はなく、アルミニウム、ステンレススチール等の金属、ポリエチレンなどの合成樹脂等、公知のものを使用することができる。
コーティング層13には、耐候性及び作業性に優れたシリコーン樹脂コーティング剤を使用する。シリコーン樹脂コーティング剤としては、公知のものを使用することができるが、粘着性を有するシリコーン樹脂コーティング剤が好ましい。例えば、信越化学工業株式会社製のX−40−3122、KR−3700、X−40−3068等の市販のものを使用することができる。
しかしながら、ペリクルフレーム21の表面又は表面上に予めシリコーン樹脂コーティング層25を設けることによって、凹部を埋めると共に、表面を平滑化するので、粘着剤24を塗布する際に気泡が発生せず、粘着剤がペリクルフレーム表面に密着する。
コーティング層の厚さが1μmより薄いとペリクルフレーム表面の凸凹を全て覆うことができなくなり、また500μmよりも厚いとコーティング層中に気泡を巻き込む可能性がある。
また、コーティング剤の塗布方法としては、刷毛塗り、スプレー、自動ディスペンサ等による方法が挙げられる。
粘着剤としては、耐候性、作業性の点からシリコーン樹脂粘着剤又はアクリル樹脂粘着剤を使用することが好ましい。
粘着剤の塗布方法としては、前記コーティング剤の塗布に用いられるものと同様の方法を使用することができる。
特に、粘着強度が高い上、揮発性の低分子シロキサンが予め低減されているX−40−3122を使用することが好ましい。
特に、粘着強度が高い上、作業性に優れているSKダイン1425を使用することが好ましい。
剥離シートの材質には特に制限はなく、公知のものを使用することができ、また、剥離シートを粘着剤層に貼り付ける方法も特に制限はなく、公知の方法を使用することができる。
得られたコーティング剤を、自動ディスペンサ(岩下エンジニアリング株式会社製、図示せず)を用いて、ペリクルフレームの下面に、風乾後のコーティング層の厚さが50μmになるように塗布した後、溶剤が揮発するまで風乾させた。
ペリクルフレームにコーティング剤をコーティングしなかったこと以外は、実施例1と同様の手法によりペリクルを作製した。
実施例1、2及び比較例1のペリクルをそれぞれ5台製作し、目視にて粘着剤層中の気泡の有無を確認した。気泡の有無、及び、気泡が1個以上確認されたペリクルの台数を表1に示す。
11 ペリクル膜
12 ペリクルフレーム
13 シリコーン樹脂コーティング層
14 粘着剤層
15 剥離シート
21 ペリクルフレーム
22 ペリクルフレーム上の凹み
23 気泡
24 粘着剤層
25 シリコーン樹脂コーティング層
Claims (8)
- ペリクルフレームの一方の面上の全周に、ペリクルをガラス基板に貼り付けるための粘着剤層が設けられ、他方の面にペリクル膜が貼り付けられたペリクルであって、前記ペリクルフレームの面と粘着剤層の間に、粘度が1mPa・s〜100mPa・sとなるように有機溶剤で希釈した粘着性を有するシリコーン樹脂コーティング剤を、塗布・乾燥させてなるコーティング層を有することを特徴とするペリクル。
- 前記コーティング層の厚さが1μm以上500μm以下である、請求項1に記載されたペリクル。
- 前記粘着剤層が、シリコーン樹脂粘着剤の層である、請求項1又は2に記載されたペリクル。
- 前記粘着剤層が、アクリル樹脂粘着剤の層である、請求項1又は2に記載されたペリクル。
- ペリクルフレームの一方の面の全周に、ペリクルをガラス基板に貼り付けるための粘着剤層を設ける工程、及び、前記ペリクルフレームの他方の面にペリクル膜を貼り付ける工程を含むペリクルの製造方法であって、前記粘着剤層を設けるペリクルフレームの面上に、粘度が1mPa・s〜100mPa・sとなるように有機溶剤で希釈した、粘着性を有するシリコーン樹脂コーティング剤を、塗布・乾燥させてシリコーン樹脂コーティング層を設けた後に、該コーティング層上に前記粘着剤層を設けることを特徴とするペリクルの製造方法。
- 前記コーティング層の厚さが1μm以上500μm以下である、請求項5に記載されたペリクルの製造方法。
- 前記粘着剤層が、シリコーン樹脂粘着剤の層である、請求項5又は6に記載されたペリクルの製造方法。
- 前記粘着剤層が、アクリル樹脂粘着剤の層である、請求項5又は6に記載されたペリクルの製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011149102A JP5517360B2 (ja) | 2011-07-05 | 2011-07-05 | ペリクル及びその製造方法 |
KR1020120060316A KR101930723B1 (ko) | 2011-07-05 | 2012-06-05 | 펠리클 및 그 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011149102A JP5517360B2 (ja) | 2011-07-05 | 2011-07-05 | ペリクル及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013015710A JP2013015710A (ja) | 2013-01-24 |
JP5517360B2 true JP5517360B2 (ja) | 2014-06-11 |
Family
ID=47688437
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011149102A Active JP5517360B2 (ja) | 2011-07-05 | 2011-07-05 | ペリクル及びその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5517360B2 (ja) |
KR (1) | KR101930723B1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11454882B2 (en) | 2019-10-22 | 2022-09-27 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Pellicle for reflective mask |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SG11201708585SA (en) | 2015-04-27 | 2017-11-29 | Mitsui Chemicals Inc | Method for producing pellicle, and method for producing pellicle-attached photomask |
GB201517471D0 (en) * | 2015-10-02 | 2015-11-18 | British American Tobacco Co | Apparatus for generating an inhalable medium |
JP6787799B2 (ja) | 2017-01-24 | 2020-11-18 | 信越化学工業株式会社 | 粘着剤の成形方法及びこの成形方法によるペリクルの製造方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3027073B2 (ja) * | 1993-07-28 | 2000-03-27 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル |
JP3758339B2 (ja) * | 1997-10-31 | 2006-03-22 | 信越化学工業株式会社 | リソグラフィー用ペリクル |
JP4173239B2 (ja) * | 1999-02-05 | 2008-10-29 | 信越化学工業株式会社 | リソグラフィー用ペリクル |
JP4319757B2 (ja) * | 2000-02-16 | 2009-08-26 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルの製造方法 |
JP2006184704A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 液晶用大型ペリクル |
JP5432855B2 (ja) * | 2010-08-04 | 2014-03-05 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルの製造方法および装置 |
JP5767535B2 (ja) * | 2010-09-01 | 2015-08-19 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | ペリクル枠体、ペリクル及びペリクル枠体の製造方法 |
-
2011
- 2011-07-05 JP JP2011149102A patent/JP5517360B2/ja active Active
-
2012
- 2012-06-05 KR KR1020120060316A patent/KR101930723B1/ko active IP Right Grant
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11454882B2 (en) | 2019-10-22 | 2022-09-27 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Pellicle for reflective mask |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013015710A (ja) | 2013-01-24 |
KR101930723B1 (ko) | 2018-12-19 |
KR20130005219A (ko) | 2013-01-15 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130626 |
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A977 | Report on retrieval |
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