KR950020980A - 포토마스크의 방진 보호용 프레임 지지 펠리클 - Google Patents

포토마스크의 방진 보호용 프레임 지지 펠리클 Download PDF

Info

Publication number
KR950020980A
KR950020980A KR1019940038061A KR19940038061A KR950020980A KR 950020980 A KR950020980 A KR 950020980A KR 1019940038061 A KR1019940038061 A KR 1019940038061A KR 19940038061 A KR19940038061 A KR 19940038061A KR 950020980 A KR950020980 A KR 950020980A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
membrane
thickness
pellicle
light
refractive index
Prior art date
Application number
KR1019940038061A
Other languages
English (en)
Inventor
도루 시라사끼
사또시 가와까미
유이찌 하마다
요시히꼬 나가따
메구루 가시다
요시히로 구보따
Original Assignee
가나까와 지히로
신에쓰가가꾸고오교 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가나까와 지히로, 신에쓰가가꾸고오교 가부시끼가이샤 filed Critical 가나까와 지히로
Publication of KR950020980A publication Critical patent/KR950020980A/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Abstract

두개의 상이한 파장을 가지는 광을 사용한 포토리소그래픽 패터닝 작업세서 포토마스크 방진 보호를 위한 프레임 지지 박막이 개시된다. 상기 막의 두께 d가 방정식
t=8n0 2n2/[(n2+n0 2)2+4n0 2n2-(n0 2-n2)·cos(4πnd/λK]·A(d)
d : 막의 두께, T : 막을 통한 투과율, n0: 공기의 굴절율, n : 막의 굴절율, λk : 노출용 막의 제1 및 제2 파장, A(d) : 막의 광흡수 및 산란에 한정되는 경우에, 또, 상기 막의 수지 매개물에서 제1 및 제2 광파장의 반파장값에 관하여 막의 두께 d가 최소공배수 법칙에 어긋나는 경우에도 박막을 통한 광 투과율은 상기 두 개의 파장에 대하여 충분히 높힐 수 있다.

Description

포토마스크의 방진 보호용 프레임 지지 펠리클
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 박막을 통과하는 제1의 파장 λ1및 제2의 파장 λ2를 갖는 광의 투과율 T를 막두께 d의 함수로 나타낸 그래프,
제2도는 본 발명에 따른 박막을 통과하는 486nm의 제1 파장 λ1및 365nm의 제2의 파장 λ2를 갖는 광의 투과율 T를 막두께 d의 함수로 나타낸 그래프,
제3도는 실시예2에서 제조된 프레임 지지 펠리클을 통과하는 365nm의 제1의 파장 λ1및 248nm의 제2의 파장 λ2를 갖는 광의 투광율 T를 막두께 d의 함수로 나타낸 그래프이다.

Claims (3)

  1. 제1 파장 및 제2 파장의 노광 광을 사용하는 포토리소그래픽 패터닝 작업에 사용되는 포토마스크의 방진 보호용 프레임 지지 펠리클에 있어서, 상기 펠리클은 A) 단단한 재료로 만들어지고, 실질적으로 평행한 단부 표면을 갖는 프레임과, B) 슬랙이 없는 형상으로 펼쳐져 상기 프레임의 상기 일측 단부 표면에 점착적으로 결합된 두께 d를 갖는 플라스틱 수지로서의 투명한 멤브레인을 일체로 포함하며, 상기 멤브레인의 두께 d는 하기 식
    t=8n0 2n2/[(n2+n0 2)2+4n0 2n2-(n0 2-n2)·cos(4πnd/λK]·A(d)
    여기에서, d는 멤브레인의 두께 T는 멤브레인을 투과하는 광 투과율 n0는 공기의 굴절률 n은 멤브레인의 굴절률 λk는 노광 광의 제1 및 제2파장 A(d)는 멤브레인의 광 흡수 및 산란을 만족시키는 것을 특징으로 하는 포토마스크 프레임 지지 펠리클.
  2. 436nm 및 365nm의 노광 광을 사용한 포토리소그래픽 패터닝 작업에 사용되는 포토마스크의 방진 보호용 프레임 지지 펠리클에 있어서, 상기 펠리클은 A) 단단한 물질로 만들어지고, 실질적으로 평행한 단부 표면을 갖는 프레임과, B) 슬랙이 없는 형상으로 펼쳐져 프레임의 상기 일측단부 표면에 점착적으로 결합된 두께 d를 갖는 플라스틱 수지로서의 멤브레인을 일체로 포함하며, 상기 멤브레인의 두께 d는 하기 식
    t=8n0 2n2/[(n2+n0 2)2+4n0 2n2-(n0 2-n2)·cos(4πnd/λK]·A(d)
    여기에서, d는 멤브레인의 두께 [nm] T는 0.99값을 갖는 멤브레인을 투과한 광의 투광율 n0은 공기의 굴절률 n은 멤브레인의 굴절률 λk 는 436nm 또는 365nm의 노광용 광의 파장 A(d)는 멤브레인의 광 흡수 및 산란을 만족시키는 것을 특징으로 하는 포토마스크 프레임 지지 박막.
  3. 365nm 및 248nm의 노광 광을 사용한 포토리소그래픽 패터닝 작업에 사용되는 포토마스크의 방진 보호용 프레임 지지 펠리클에 있어서, 상기 펠리클은 A) 단단한 물질로 만들어지고, 실질적으로 평행한 단부 표면을 갖는 프레임과, B) 슬랙이 없는 형상으로 펼쳐져 프레임의 상기 일측단부 표면에 점착적으로 결합된 두께 d를 갖는 플라스틱 수지로서의 멤브레인을 일체로 포함하며, 상기 멤브레인의 두께 d는 하기 식
    t=8n0 2n2/[(n2+n0 2)2+4n0 2n2-(n0 2-n2)·cos(4πnd/λK]·A(d)
    여기에서, d는 멤브레인의 두께 [nm] T는 0.98값을 갖는 멤브레인을 투과한 광의 투광율 n0은 공기의 굴절률 n은 멤브레인의 굴절률 λk 는 365nm 또는 248nm의 노광용 광의 파장 A(d)는 멤브레인의 광 흡수 및 산란을 만족시키는 것을 특징으로 하는 포토마스크 프레임 지지 박막.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940038061A 1993-12-28 1994-12-28 포토마스크의 방진 보호용 프레임 지지 펠리클 KR950020980A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33414993A JPH07199451A (ja) 1993-12-28 1993-12-28 ペリクル
JP93-334149 1993-12-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR950020980A true KR950020980A (ko) 1995-07-26

Family

ID=18274082

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019940038061A KR950020980A (ko) 1993-12-28 1994-12-28 포토마스크의 방진 보호용 프레임 지지 펠리클

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JPH07199451A (ko)
KR (1) KR950020980A (ko)
TW (1) TW294843B (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100819638B1 (ko) * 2005-07-28 2008-04-04 주식회사 하이닉스반도체 펠리클 장치 및 이를 이용한 패턴 형성 방법

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2007088862A1 (ja) * 2006-02-01 2009-06-25 三井化学株式会社 高開口数露光装置用ペリクル
JP2007293036A (ja) * 2006-04-25 2007-11-08 Shin Etsu Chem Co Ltd リソグラフィー用ペリクル
JP2008122718A (ja) 2006-11-13 2008-05-29 Toshiba Corp フォトマスクユニット、露光方法及び半導体装置の製造方法
KR101970059B1 (ko) 2016-04-05 2019-04-17 아사히 가세이 가부시키가이샤 펠리클
KR20190038369A (ko) 2017-09-29 2019-04-08 아사히 가세이 가부시키가이샤 펠리클

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100819638B1 (ko) * 2005-07-28 2008-04-04 주식회사 하이닉스반도체 펠리클 장치 및 이를 이용한 패턴 형성 방법

Also Published As

Publication number Publication date
JPH07199451A (ja) 1995-08-04
TW294843B (ko) 1997-01-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR950020976A (ko) 사진석판술에서 포토마스크의 방진 방호용으로 사용되는 프레임-지지된 펠리클
KR950004515A (ko) 포토마스크의 방진 보호용 프레임-지지 펠리클
EP0877292A4 (en) MEMBRANE
KR970701379A (ko) 포토마스크 블랭크(Photomask Blanks)
KR880008058A (ko) 투과율 변조형 포토 마스크 제조방법 및 이를 이용한 회절격자 제조방법
DE69025245D1 (de) Amorphes Fluorpolymer enthaltende Filmabdeckung
ATE223584T1 (de) Filmschutzmaske
KR950009897A (ko) 포토 마스크의 방진 보호를 위해 프레임에 지지되는 펠리클
KR910700512A (ko) 형광염료가 도우프된 에지-조명 이미터 패널을 갖는 시각 디스플레이 장치
JPS55101922A (en) Light splitter
KR950012700A (ko) 포토마스크의 방진 보호용 프레임-지지 펠리클
DK0909406T3 (da) Fotomaskeemner
KR950020980A (ko) 포토마스크의 방진 보호용 프레임 지지 펠리클
ATE439618T1 (de) Membranabdeckung und haftmittel hierfür
KR910000249A (ko) 백-리트(Back-lit) 디스플레이
DE60138191D1 (de) Flschungsveränderungsschutzmaterial
KR920701868A (ko) 방진막
DE69019268D1 (de) Nichtreflektierende Filmabdeckung.
KR930703623A (ko) 광 산란 전광 소자를 갖는 디스플레이
NO941359L (no) Refleksjonsreduserte, klebbare, strukkede folier som vindusfolier for konvolutter
KR910003365A (ko) 광학필터
DE59507969D1 (de) Auflicht-Phasengitter
KR900005222A (ko) 후면투영 스크린
ATE171550T1 (de) Staubschutzschicht
KR970048949A (ko) 위상반전 마스크

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination