KR950020980A - 포토마스크의 방진 보호용 프레임 지지 펠리클 - Google Patents
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Abstract
두개의 상이한 파장을 가지는 광을 사용한 포토리소그래픽 패터닝 작업세서 포토마스크 방진 보호를 위한 프레임 지지 박막이 개시된다. 상기 막의 두께 d가 방정식
t=8n0 2n2/[(n2+n0 2)2+4n0 2n2-(n0 2-n2)·cos(4πnd/λK]·A(d)
d : 막의 두께, T : 막을 통한 투과율, n0: 공기의 굴절율, n : 막의 굴절율, λk : 노출용 막의 제1 및 제2 파장, A(d) : 막의 광흡수 및 산란에 한정되는 경우에, 또, 상기 막의 수지 매개물에서 제1 및 제2 광파장의 반파장값에 관하여 막의 두께 d가 최소공배수 법칙에 어긋나는 경우에도 박막을 통한 광 투과율은 상기 두 개의 파장에 대하여 충분히 높힐 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 박막을 통과하는 제1의 파장 λ1및 제2의 파장 λ2를 갖는 광의 투과율 T를 막두께 d의 함수로 나타낸 그래프,
제2도는 본 발명에 따른 박막을 통과하는 486nm의 제1 파장 λ1및 365nm의 제2의 파장 λ2를 갖는 광의 투과율 T를 막두께 d의 함수로 나타낸 그래프,
제3도는 실시예2에서 제조된 프레임 지지 펠리클을 통과하는 365nm의 제1의 파장 λ1및 248nm의 제2의 파장 λ2를 갖는 광의 투광율 T를 막두께 d의 함수로 나타낸 그래프이다.
Claims (3)
- 제1 파장 및 제2 파장의 노광 광을 사용하는 포토리소그래픽 패터닝 작업에 사용되는 포토마스크의 방진 보호용 프레임 지지 펠리클에 있어서, 상기 펠리클은 A) 단단한 재료로 만들어지고, 실질적으로 평행한 단부 표면을 갖는 프레임과, B) 슬랙이 없는 형상으로 펼쳐져 상기 프레임의 상기 일측 단부 표면에 점착적으로 결합된 두께 d를 갖는 플라스틱 수지로서의 투명한 멤브레인을 일체로 포함하며, 상기 멤브레인의 두께 d는 하기 식t=8n0 2n2/[(n2+n0 2)2+4n0 2n2-(n0 2-n2)·cos(4πnd/λK]·A(d)여기에서, d는 멤브레인의 두께 T는 멤브레인을 투과하는 광 투과율 n0는 공기의 굴절률 n은 멤브레인의 굴절률 λk는 노광 광의 제1 및 제2파장 A(d)는 멤브레인의 광 흡수 및 산란을 만족시키는 것을 특징으로 하는 포토마스크 프레임 지지 펠리클.
- 436nm 및 365nm의 노광 광을 사용한 포토리소그래픽 패터닝 작업에 사용되는 포토마스크의 방진 보호용 프레임 지지 펠리클에 있어서, 상기 펠리클은 A) 단단한 물질로 만들어지고, 실질적으로 평행한 단부 표면을 갖는 프레임과, B) 슬랙이 없는 형상으로 펼쳐져 프레임의 상기 일측단부 표면에 점착적으로 결합된 두께 d를 갖는 플라스틱 수지로서의 멤브레인을 일체로 포함하며, 상기 멤브레인의 두께 d는 하기 식t=8n0 2n2/[(n2+n0 2)2+4n0 2n2-(n0 2-n2)·cos(4πnd/λK]·A(d)여기에서, d는 멤브레인의 두께 [nm] T는 0.99값을 갖는 멤브레인을 투과한 광의 투광율 n0은 공기의 굴절률 n은 멤브레인의 굴절률 λk 는 436nm 또는 365nm의 노광용 광의 파장 A(d)는 멤브레인의 광 흡수 및 산란을 만족시키는 것을 특징으로 하는 포토마스크 프레임 지지 박막.
- 365nm 및 248nm의 노광 광을 사용한 포토리소그래픽 패터닝 작업에 사용되는 포토마스크의 방진 보호용 프레임 지지 펠리클에 있어서, 상기 펠리클은 A) 단단한 물질로 만들어지고, 실질적으로 평행한 단부 표면을 갖는 프레임과, B) 슬랙이 없는 형상으로 펼쳐져 프레임의 상기 일측단부 표면에 점착적으로 결합된 두께 d를 갖는 플라스틱 수지로서의 멤브레인을 일체로 포함하며, 상기 멤브레인의 두께 d는 하기 식t=8n0 2n2/[(n2+n0 2)2+4n0 2n2-(n0 2-n2)·cos(4πnd/λK]·A(d)여기에서, d는 멤브레인의 두께 [nm] T는 0.98값을 갖는 멤브레인을 투과한 광의 투광율 n0은 공기의 굴절률 n은 멤브레인의 굴절률 λk 는 365nm 또는 248nm의 노광용 광의 파장 A(d)는 멤브레인의 광 흡수 및 산란을 만족시키는 것을 특징으로 하는 포토마스크 프레임 지지 박막.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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