JP2011107230A - ペリクルおよびその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】製造工程の簡略化や製造に必要なエネルギーの低減が可能であり、しかも接着層に発泡がないために歩留りが良好なペリクルを提供する。
【解決手段】ペリクル膜11と、前記ペリクル膜が一方の端面に接着層12を介して貼り付けられたペリクルフレーム13と、前記ペリクルフレームの他方の端面に設けられた粘着層14を有するペリクル1であって、前記接着層が硬化時に加熱を必要としない二液混合硬化型接着剤を使用して加熱をせずに形成し、硬化時に加熱を必要としない二液混合硬化型接着剤はシリコーン樹脂である。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体デバイス、プリント基板、液晶ディスプレイ等を製造する際のゴミ除けとして使用されるペリクルおよびその製造方法に関するものである。
LSI、超LSIなどの半導体製造或いは液晶ディスプレイ等の製造においては、半導体ウェハー或いは液晶用原板に光を照射してパターンを作製するが、この時に用いるフォトマスク或いはレチクル(以下、単にフォトマスクと記述する)にゴミが付着していると、このゴミが光を吸収したり、光を反射してしまうため、転写したパターニングが変形したり、エッジががさついたりしてしまい、寸法、品質、外観などが損なわれ、半導体装置や液晶ディスプレイ等の性能や製造歩留りの低下という問題があった。
このため、これらの作業は通常クリーンルームで行われているが、それでもフォトマスクを常に清浄に保つことは難しい。そこで、フォトマスク表面にゴミ除けとしてペリクルを貼り付けした後に露光を行っている。この場合、異物はフォトマスクの表面には直接付着せず、ペリクル上に付着するため、リソグラフィー時に焦点をフォトマスクのパターン上に合わせておけば、ペリクル上の異物は転写に無関係となる。
一般に、ペリクルは、光を良く透過させるニトロセルロース、酢酸セルロース或いはフッ素樹脂などからなる透明なペリクル膜をアルミニウム、ステンレス、ポリエチレンなどからなるペリクルフレームの上端面にペリクル膜の良溶媒を塗布した後、風乾して接着する(特許文献1参照)か、アクリル樹脂やエポキシ樹脂などの接着剤で接着する(特許文献2、3参照)。さらに、ペリクルフレームの下端にはフォトマスクに接着するためのポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂等からなる粘着層、及び粘着層の保護を目的とした離型シート(セパレータ)から構成される。
特開昭58−219023号公報 米国特許第4861402号明細書 特公昭63−27707号公報
これまで、ペリクルの製造に関しては製造時間を短縮するために様々な検討が行われてきた。接着層に加熱硬化型の接着剤を使用することも製造時間短縮のための一つの方法である。しかしながら、加熱硬化型の接着剤を使用するためには加熱設備を導入しなければならず、また、加熱のためのエネルギーも必要となり、逆にコストアップとなってしまうこともある。更には加熱硬化工程のためにペリクルの製造工程が繁雑になってしまっていた。
また、UV光(紫外線)硬化型の接着剤も、UV光を照射することにより極短時間で硬化させることができるが、UV光照射装置の導入が必要であったり、UV光照射エネルギーが必要であったり、コストアップや工程の繁雑化を招く。更には、UV光(紫外線)硬化型の接着剤は一般にUV光に対する耐光性が低く、したがって、UV光照射下で使用されるペリクルの接着剤としてふさわしくない。加えて、UV光硬化型の接着剤は光を遮断して保管(保存)する必要があり、取扱い性も悪い。
また、接着剤の加熱硬化工程中に接着剤が「発泡」(接着剤中に残った微細な気泡が膨張することによる)してしまうという課題があった。接着剤中に発泡が発生すると発泡部分は盛り上がった形状になってしまう。接着剤の発泡部分が盛り上がると接着剤の平坦性が失われ、ペリクル膜をペリクルフレームに正確に、隙間なく貼り付けることができなくなってしまう。ペリクル膜がペリクルフレームに隙間なく貼り付けられていないと、ペリクル膜とペリクルフレームの間の隙間からペリクル内部に異物が侵入してしまう可能性がある。また、発泡した泡が割れるとその部分には接着剤がないか非常に少ない状態になってしまうため、ペリクル膜を貼り付けるための十分な接着力が得られない可能性がある。そのため、接着剤中の発泡はペリクル製造の歩留り低下の一因となっていた。
本発明はこのような不利、問題点を解決したペリクルおよびその製造方法に関するもので、ペリクル膜をペリクルフレームに貼り付けるための接着層を、「硬化時に加熱を必要としない二液混合硬化型接着剤」(以下「本件接着剤」という。)を使用して加熱をせずに形成した点に特徴がある(請求項1、3)。さらに本件接着剤はシリコーン樹脂であること(請求項2、4)が好ましい。
本発明によれば、接着剤硬化時に加熱が不要なことから、ペリクルの製造工程を簡略化することが可能であり、また製造時に必要なエネルギーも低減することができる。更には接着剤加熱硬化時に発生していた「発泡」もなくすことができ、ペリクル製造の歩留りを向上させることができる。
本発明のペリクルの一実施形態の縦断面図である。 接着剤塗布装置の概略説明図である。 二液混合吐出装置の概略説明図である。
以下、図面により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。図1は本発明のペリクルの一実施形態の縦断面図である。また、図2は本発明で利用した接着剤塗布装置の概略説明図であり、図3は二液混合吐出装置の概略説明図である。
ペリクル1は、図1に示すようにペリクル1を貼り付ける基板(フォトマスク)の形状に対応した通常四角枠状(長方形枠状又は正方形枠状)のペリクルフレーム13の上端面に接着層12を介してペリクル膜11が張設され、ペリクルフレーム1の下端面にはペリクルを基板に貼り付けるための粘着層14が形成されている。また粘着層14の下端面には、粘着層14を保護するための離型シート(セパレータ)15が剥離可能に貼り付けられている。
ここで、ペリクル膜の材質に特に制限はなく、光をよく透過させるニトロセルロース、酢酸セルロース、或いはフッ素樹脂等の公知のものを使用することができる。ペリクルフレームの材質にも特に制限はなく、アルミニウム、ステンレス等の金属、ポリエチレンなどの合成樹脂等の公知のものを使用することができる。
本発明において接着層は本件接着剤によって形成される。接着層はペリクルフレームの上端面に所定の幅(通常、ペリクルフレームのフレーム幅と同じ又はそれ以下)で設けられ、ペリクルフレームの上端面の周方向に亘って、ペリクル膜をペリクルフレームに貼り付けることができるように形成されている。
本件接着剤としてはポリブテン系接着剤、ポリ酢酸ビニル系接着剤、シリコーン系接着剤、アクリル系接着剤等の任意の接着剤を使用することができるが、ペリクルの上端面(ペリクル膜、接着層、ペリクルフレーム上端面)は露光時には常に露光用の光に曝されるため、露光用の光で劣化しにくいシリコーン系接着剤が好ましい。シリコーン系接着剤としては、例えば、信越化学工業株式会社から市販されている、シリコーン系接着剤X−40−3122/CAT−PL−50T(ここで、X−40−3122は主剤の製品名であり、CAT−PL−50Tは硬化剤の製品名である。以下、/の前に主剤の製品名を、/の後に硬化剤の製品名を記載する。)、KR−3700/CAT−PL−50T、X−40−3103/CAT−PL−50T、KE−1051JA/KE−1051JBなどを使用することができる。KE−1051JA/KE−1051JBはゲル状の接着剤である。シリコーン系では特に接着強度が強く、取扱いが容易なことから、KR−3700/CAT−PL−50TやKE−1051JA/KE1051JBが好ましい。
接着層は、本件接着剤のみで形成しても、あるいは、必要に応じて着色剤や酸化防止剤等の任意の添加剤の1種又は2種以上を、本発明の目的を損なわない範囲において更に配合して形成しても良い。
本件粘着剤は二液混合硬化型であり、主剤と硬化剤からなる。後述するように、主剤や硬化剤は粘着剤の粘度が高すぎて塗布が困難な場合には溶剤で希釈して希釈液として使用される。そして、主剤(または主剤の希釈液)と硬化剤(または硬化剤の希釈液)の混合比は100質量部:110質量部〜100質量部:1質量部とするのが好ましい。硬化剤(または硬化剤の希釈液)の割合が100質量部:1質量部よりも小さくなると計量誤差が大きくなったり、吐出機での混合時に混合不良となったりする可能性がある。また二液混合後のポットライフ(可使時間)は1分以上あることが好ましい。ポットライフが1分より短い場合、二液混合中に接着剤が増粘、ゲル化してしまう可能性がある。
次に、本件接着剤をペリクルフレームに塗布する方法を図2、図3によって説明するが、塗布方法はこれに限定されるものではない。
図2に接着剤塗布装置2を示した。接着剤塗布装置2は、架台21と、その上に取り付けられた門型XYZ直交3軸ロボット22からなり、3軸ロボット22のZ軸には二液混合吐出装置23が取り付けられている。架台21上にペリクルフレーム24を載置するが、ペリクルフレーム24の自重による撓みを防ぎ、接着面を水平に保つため、ペリクルフレーム下にはPOM樹脂製のサポートを設けるのが良い。
制御部(図示しない)により3軸ロボット22を制御して、ペリクルフレーム24上を移動させ、二液混合吐出装置23の先端のニードル25からペリクルフレーム24上に接着剤を流下することにより接着剤を塗布する。接着剤の塗布はペリクルフレーム24上を1周するだけでなく、所定の接着剤の高さを得るために数周回塗布しても良く、この場合は、塗布後の接着剤の形状が安定するまで、それぞれの周回の間に適宜静置時間を設けたほうが良い。
二液混合吐出装置23は図3に示したものであり、その先端にはダイナミックミキサー34が取り付けられ、ダイナミックミキサー34をダイナミックミキサー用モータ33によって回転させることにより接着剤の主剤と硬化剤が混合される。ステッピングモータ31、31によりギヤポンプ32、32を作動させることにより、タンク(図示しない)から接着剤の主剤と硬化剤をダイナミックミキサー34に移送する。ステッピングモータ31、31のオン/オフ、および回転数を、制御部(図示しない)によって制御する。これにより、主剤と硬化剤がダイナミックミキサー34へそれぞれの供給量を制御しつつ供給される。ダイナミックミキサー34の先端にはニードル25が取り付けられている。
接着剤の主剤と硬化剤の移送手段は、ギヤポンプ式に限らず、シリンジポンプ、プランジャーポンプ、チューブポンプなどポンプによるものや、エア加圧、窒素加圧などの気体加圧によるものなど、供給量及び吐出・停止が制御できる各種の移送手段が利用できる。
更に、接着剤の粘度が高くて塗布装置による塗布が困難な場合には、必要に応じて主剤、硬化剤のいずれか一方、若しくは両方に、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤、ヘキサン、オクタン、イソオクタン、イソパラフィン等の脂肪族系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、ジイソプルピルエーテル、1,4−ジオキサン等のエーテル系溶剤、又はこれらの混合溶剤を添加して、接着剤の粘度を下げて塗布しても良い。
粘着層はペリクルを基板に貼り付けるためにペリクルフレームの下端面に形成されるが、材質については特に制限はなく、公知のものを使用することができる。また、上記粘着層の形成方法についても公知の方法で形成すればよい。
離型シート(セパレータは)ペリクルを基板に貼り付けるまで、粘着層を保護するためのものであり、ペリクルの使用時には取り除かれる。そのため、離型シート(セパレータ)は、粘着剤をペリクルの使用時まで保護することが、必要な場合に適宜設けられる。製品ペリクルでは、一般に、離型シート(セパレータ)を貼り付けたもので流通する。離型シート(セパレータ)の材質にも特に制限はなく、公知のものを使用することができ、また、離型シート(セパレータ)は公知の方法で粘着層に貼り付ければよい。
以下、実施例及び比較例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
[実施例1]
はじめに、外寸782mm×474mm、内寸768mm×456mm、高さ5.0mm、コーナー部の内寸R2.0mm、外寸R6.0mmの長方形のアルミニウム合金製ペリクルフレームを機械加工により製作し、Ra0.5〜1.0程度にSUSビーズによりブラスト処理を行った後、表面に黒色アルマイト処理を施した。このペリクルフレームをクリーンルームに搬入し、中性洗剤と純水により良く洗浄、乾燥させた。
次に図2に示される接着剤塗布装置2の架台21上に前記ペリクルフレーム24の接着剤塗布面が上向き水平になるように固定した。なお、ペリクルフレーム24の自重による撓みを防ぎ、接着面を水平に保つため、ペリクルフレーム下には各辺ともおよそ200mm間隔でPOM樹脂製のサポートを設けた。
そして、接着剤としてトルエンで5倍に希釈したシリコーン接着剤KR−3700(主剤)[信越化学工業(株)製:製品名]とトルエンで10倍に希釈したCAT−PL−50T(硬化剤)[信越化学工業(株)製:製品名]をそれぞれ二液混合吐出装置3のタンクに充填した。
図2および図3に示した装置により、主剤と硬化剤の混合と自動運転による二液混合された接着剤の塗布を行った。主剤の希釈液と硬化剤の希釈液の混合比を100質量部:1質量部とし、接着層の幅を4.0mmとした。接着剤が流動しなくなるまで風乾させた後、製品ストッカー内に静置し、接着剤を完全に硬化させた。尚、この時点で接着剤表面は接着性を有しており、ペリクル膜貼り付け後の硬化工程は不要である。
その後、先に準備したペリクル膜を上記接着剤を塗布したペリクルフレームに貼り付け、不要部分をカッターで切断してペリクルを完成させた。
[実施例2]
接着剤としてゲル状のシリコーン接着剤KE−1051JA/KE−1051JB[信越化学工業(株)製:製品名]を使用した。KE−1051JA(主剤)とKE−1051JB(硬化剤)を、希釈せずに混合比100質量部:100質量部で使用したほかは実施例1と同様にペリクルフレームに塗布し、製品ストッカー内に静置し、ゲル状のシリコーン接着剤を完全に硬化させた。その後ペリクル膜を貼り付け、ペリクルを完成させた。
[比較例1]
接着剤としてゲル状のシリコーン接着剤KE−1056[信越化学工業(株)製:製品名]を使用した。KE−1056は一液型であるので一液型対応のディスペンサにて塗布を行った。尚、このKE−1056は加熱硬化型であるため、硬化には130℃で1時間の加熱硬化工程が必要であった。さらにはKE−1056中に残存していた微小な気泡が加熱したことにより膨張し、発泡してしまったものもあった。
上記実施例1、2及び比較例1にて作製したペリクルの、接着剤硬化時の加熱工程の有無、接着剤硬化後の発泡発生率を表1に示す。
尚、発泡発生の確認は接着剤硬化後に目視にて行った。発泡発生率の計算方法は以下の通りである。
発泡発生率(%)=(接着剤の発泡が発生したペリクルフレーム数/接着剤を塗布したペリクルフレーム数)×100
Figure 2011107230
本発明はペリクルに関するものであり、接着剤硬化時に加熱が不要なことからペリクルの製造工程を簡略化することが可能であり、また製造時に必要なエネルギーも低減することができる。更には接着剤加熱硬化時に発生していた発泡もなくすことができ、ペリクル製造の歩留りを向上させることができるという有利性が与えられる。
1 ペリクル
11 ペリクル膜
12 接着層
13 ペリクルフレーム
14 粘着層
15 離型シート(セパレータ)

2 粘着剤塗布装置
21 架台
22 3軸ロボット
23 二液混合吐出装置
24 ペリクルフレーム
25 ニードル

31 ステッピングモータ
32 ギヤポンプ
33 ミキサー用モータ
34 ダイナミックミキサー

Claims (4)

  1. 少なくともペリクル膜と、前記ペリクル膜が一方の端面に接着層を介して貼り付けられたペリクルフレームと、前記ペリクルフレームの他方の端面に設けられた粘着層を有するペリクルであって、前記接着層が硬化時に加熱を必要としない二液混合硬化型接着剤を使用して加熱をせずに形成されたものであることを特徴とするペリクル。
  2. 硬化時に加熱を必要としない二液混合硬化型接着剤がシリコーン樹脂である請求項1記載のペリクル。
  3. 少なくともペリクル膜と、前記ペリクル膜が一方の端面に接着層を介して貼り付けられたペリクルフレームと、前記ペリクルフレームの他方の端面に設けられた粘着層を有するペリクルを製造するにあたり、前記接着層を硬化時に加熱を必要としない二液混合硬化型接着剤を使用して加熱をせずに形成することを特徴とするペリクルの製造方法。
  4. 硬化時に加熱を必要としない二液混合硬化型接着剤がシリコーン樹脂である請求項3記載のペリクルの製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017211516A (ja) * 2016-05-26 2017-11-30 信越化学工業株式会社 ペリクル

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5746661B2 (ja) * 2012-05-08 2015-07-08 信越化学工業株式会社 ペリクルの製造方法
CN105759315B (zh) * 2016-04-26 2018-10-23 华讯方舟科技有限公司 扫描机构及具有该扫描机构的安检仪
JP6787799B2 (ja) * 2017-01-24 2020-11-18 信越化学工業株式会社 粘着剤の成形方法及びこの成形方法によるペリクルの製造方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6327707B2 (ja) * 1983-10-13 1988-06-03 Asahi Chemical Ind
JPH0588359A (ja) * 1991-09-26 1993-04-09 Shin Etsu Chem Co Ltd リソグラフイ−用ペリクル
JPH1124237A (ja) * 1997-06-27 1999-01-29 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクル
JP2002166806A (ja) * 2000-11-30 2002-06-11 Nippon Plast Co Ltd エアバッグの製造方法、エアバッグ製造用装置およびエアバッグ製造用装置の製造方法
JP2007528690A (ja) * 2004-03-11 2007-10-11 バリアン・メディカル・システムズ・テクノロジーズ・インコーポレイテッド X線管用封入ステータアセンブリ

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3027073B2 (ja) * 1993-07-28 2000-03-27 信越化学工業株式会社 ペリクル
JP4202554B2 (ja) * 1999-09-24 2008-12-24 信越化学工業株式会社 半導体リソグラフィ用ペリクル
DE602004024544D1 (de) * 2003-08-13 2010-01-21 Sunstar Engineering Inc Zweikomponentige härtbare zusammensetzung
JP2008065258A (ja) * 2006-09-11 2008-03-21 Shin Etsu Chem Co Ltd リソグラフィー用ペリクル
CN101883829A (zh) * 2007-12-14 2010-11-10 夏普株式会社 粘合片和显示装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6327707B2 (ja) * 1983-10-13 1988-06-03 Asahi Chemical Ind
JPH0588359A (ja) * 1991-09-26 1993-04-09 Shin Etsu Chem Co Ltd リソグラフイ−用ペリクル
JPH1124237A (ja) * 1997-06-27 1999-01-29 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクル
JP2002166806A (ja) * 2000-11-30 2002-06-11 Nippon Plast Co Ltd エアバッグの製造方法、エアバッグ製造用装置およびエアバッグ製造用装置の製造方法
JP2007528690A (ja) * 2004-03-11 2007-10-11 バリアン・メディカル・システムズ・テクノロジーズ・インコーポレイテッド X線管用封入ステータアセンブリ

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017211516A (ja) * 2016-05-26 2017-11-30 信越化学工業株式会社 ペリクル
KR20170134225A (ko) * 2016-05-26 2017-12-06 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 펠리클
KR102418136B1 (ko) 2016-05-26 2022-07-07 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 펠리클

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