JPH1124237A - ペリクル - Google Patents

ペリクル

Info

Publication number
JPH1124237A
JPH1124237A JP18758197A JP18758197A JPH1124237A JP H1124237 A JPH1124237 A JP H1124237A JP 18758197 A JP18758197 A JP 18758197A JP 18758197 A JP18758197 A JP 18758197A JP H1124237 A JPH1124237 A JP H1124237A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pellicle
adhesive layer
pellicle film
film
adhere
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP18758197A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3449180B2 (ja
Inventor
Akihiko Nagata
愛彦 永田
Yuichi Hamada
裕一 濱田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP18758197A priority Critical patent/JP3449180B2/ja
Publication of JPH1124237A publication Critical patent/JPH1124237A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3449180B2 publication Critical patent/JP3449180B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/82Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
    • G03F1/84Inspecting

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Prevention Of Fouling (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 ペリクル枠の上端面にペリクル膜貼着用
接着剤層を介してペリクル膜を張設したペリクルにおい
て、上記ペリクル膜貼着用接着剤層の硬度がビッカース
硬度で1.5〜20であることを特徴とするペリクル。 【効果】 本発明によれば、ペリクル膜貼着用接着剤層
の硬度(ビッカース硬度)を1.5〜20に制御するこ
とによって、ペリクル膜の張力を長期間一定に保つこと
ができ、ペリクル膜の経時的な緩みや膨らみ及びエッジ
部分での破れを防止することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、LSI、超LSI
などの半導体装置或いは液晶表示板を製造する際のリソ
グラフィ用マスクのゴミよけとして使用される、リソグ
ラフィ用として好適なペリクルに関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】LS
I、超LSIなどの半導体装置或いは液晶表示板などの
製造においては、半導体ウエハー或いは液晶用原板に光
を照射してパターニングを作製するが、この場合に用い
る露光原板(リソグラフィ用マスク:以下、レチクルと
いう)にゴミが付着していると、このゴミが光を吸収し
たり、光を曲げてしまうために、転写したパターンが変
形したり、エッジががさついたものとなったり、下地が
黒く汚れたりして、寸法、品質、外観などが損なわれる
という問題があった。
【0003】このため、これらの作業は通常クリーンル
ームで行われているが、このクリーンルーム内でも露光
原板を常に清浄に保つことが難しいので、露光原板の表
面にゴミよけのための露光用の光をよく通過させるペリ
クルを貼着する方法が採用されている。この方法を採用
した場合、ゴミは露光原板の表面上には直接付着せず、
ペリクル膜上に付着するため、リソグラフィ時に焦点を
露光原板のパターン上に合わせておけば、ペリクル膜上
のゴミは転写に無関係となる。
【0004】ペリクルの基本的な構成は、ペリクル枠の
上端面にペリクル膜貼着用接着剤層を介してペリクル膜
を張設すると共に、下端面にレチクル貼着用接着剤層が
形成され、該レチクル貼着用接着剤層の下端面に離型層
が剥離可能に貼着してなるもので、具体的には露光に用
いる光を良く透過させるニトロセルロース、酢酸セルロ
ースなどからなる透明なペリクル膜をアルミニウム、ス
テンレス、ポリエチレンなどからなるペリクル枠の上端
部にペリクル膜の良溶媒を塗布した後、風乾して接着す
る(特開昭58−219023号公報参照)か、アクリ
ル樹脂やエポキシ樹脂などの接着剤で接着し(米国特許
第4861402号公報、特公昭63−27707号公
報参照)、更に、ペリクル枠の下端部には露光原板が装
着されるために、ポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹
脂、アクリル樹脂等からなるペリクル膜貼着用粘着剤
層、及びこの粘着剤層の保護を目的とした離型層(セパ
レーター)が貼着されている。
【0005】一方、近年、光リソグラフィ技術の進歩に
よって、その露光波長が従来の436nmのg線、36
5nmのi線からKrFエキシマレーザーに変わろうと
している。これに対応して、ペリクル膜がフッ素系ポリ
マー等で形成され、またその膜厚も248nmの波長の
光を十分透過するために薄くなってきている。
【0006】しかしながら従来、環境の気圧変化によっ
てペリクル膜が著しく膨らんだり、逆に垂れ下がったり
する場合があり、またペリクル膜を張設する場合などに
ペリクル膜がペリクル枠のエッジ部分で破れることがあ
り、これらの問題の解決が望まれた。
【0007】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、ペリクル膜の張力を長期間一定に保持し得、膜の緩
みや膨らみ、エッジでの膜の破れを防止することができ
るペリクルを提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結
果、ペリクル枠の上端面にペリクル膜を張設する際に、
ペリクル枠とペリクル膜とを接着する接着剤層の硬度を
ビッカース硬度で1.5〜20の範囲とすることで、ペ
リクル膜の張力を長期間一定に保つことができ、このた
めペリクル膜の経時的な緩みや膨らみ、更にはエアブロ
ーなどによる膜の破れやペリクルフレームエッジでの切
断を防止することができ、半導体リソグラフィ用として
好適なペリクルが得られることを知見した。
【0009】即ち、ペリクル膜をペリクルフレームに固
定するためのペリクル膜貼着用接着剤としては、上述の
ような種々の接着剤が用いられてきているが、本発明者
の検討によれば、接着剤層の硬度が低いと経時的に膜の
張力が緩和されて緩み、環境の気圧変化によってペリク
ル膜が著しく膨らんだり、逆に垂れ下がったりする。そ
ればかりではなく、ペリクル膜面に付いた異物の検査を
再度行おうと思っても、膜面位置が変化してしまい測定
不可能になることがあった。
【0010】一方、ペリクル膜貼着用接着剤層の硬さが
硬いと、長期にわたって膜張力を維持できる半面、前記
のように薄くなっているペリクル膜を貼着した際にエッ
ジ部分で膜が破れる場合が起きる。この現象は、例えば
ペリクル膜上に付着した異物を除去するためにエアブロ
ーなどをした場合に起こり易く、ひどい場合にはペリク
ル膜が破れレチクル面に垂れ下がったりする場合もあっ
た。このような場合には、レチクルを使用することがで
きなくなり再洗浄を余儀なくされるばかりではなく、レ
チクル表面を傷め高価なレチクルを使用不可能にしてし
まうおそれもあった。
【0011】これに対し、ペリクル膜貼着用接着剤層の
ビッカース硬度を1.5〜20の範囲とすることによ
り、上記問題が解決され、ペリクル膜の張力を長期間に
わたって一定に保持できると共に、ペリクルフレームエ
ッジでのペリクル膜の切断を防止することができ、エア
ブローなどによる膜の破れも防止されることを見出し、
本発明をなすに至った。
【0012】従って、本発明は、ペリクル枠の上端面に
ペリクル膜貼着用接着剤層を介してペリクル膜を張設し
たペリクルにおいて、上記ペリクル膜貼着用接着剤層の
硬度がビッカース硬度で1.5〜20であることを特徴
とするペリクルを提供する。
【0013】以下、本発明につき更に詳細に説明する
と、本発明のペリクルは、図1に示したように、ペリク
ル枠1の上端面にペリクル膜貼着用接着剤層を介してペ
リクル膜2を張設したもので、この場合、通常下端面に
レチクル貼着用接着剤層3が形成され、該レチクル貼着
用接着剤層3の下端面に離型層4が剥離可能に貼着して
なるものである。
【0014】この場合、これらペリクル構成部材の大き
さは通常のペリクルと同様であり、また、その材質も上
述したような公知の材質とすることができる。この点を
更に詳述するとペリクル膜の種類については特に制限は
なく、例えば従来使用されているニトロセルロース、酢
酸セルロース、プロピオン酸セルロース、非晶質フッ素
ポリマー等が用いられる。非晶質フッ素ポリマーの例と
しては、サイトップ(旭硝子(株)製商品名)、テフロ
ンAF(デュポン(株)製商品名)などが挙げられ、こ
れらポリマーは、そのペリクル膜作製時に必要に応じて
溶媒に溶解して使用してもよく、例えばフッ素系溶媒な
どで適宜溶解し得る。
【0015】本発明において使用されるペリクルフレー
ムについても特に制限はなく、その材質としては、従来
使用されているアルミ材に陽極酸化処理を行ったもの、
ステンレス、ポリアセタール、ポリカーボネート、PM
MA、アクリル樹脂等の樹脂、青板ガラスなどが挙げら
れる。
【0016】レチクル貼着用接着剤層の下端面に貼着さ
れる離型層(セパレーター)としても公知のものでよ
い。
【0017】本発明のペリクルは、ペリクル膜貼着用接
着剤層の硬度がビッカース硬度で1.5〜20、好まし
くは1.5〜15のものである。
【0018】ペリクル膜貼着用接着剤層は、硬度が上記
範囲内であれば、この層を形成する接着剤の種類に特に
制限はなく、種々の接着剤を使用して形成することがで
き、また、接着剤層は接着剤のみで形成しても、接着剤
にこれを溶解し得る溶媒を含んだものであってもよい。
即ち、接着剤層は接着剤の固有の硬化硬度がビッカース
硬度で1.5〜20の範囲に入るものであってもよい
し、また接着剤がこのものを溶解する溶媒に希釈又はこ
の溶媒を含んだものであって、その硬化後の硬度がビッ
カース硬度で1.5〜20の範囲にあるものであっても
構わない。
【0019】ペリクル膜貼着用接着剤としては、従来よ
り使用されているものを使用でき、例えばアクリル樹脂
接着剤、エポキシ樹脂接着剤、シリコーン樹脂接着剤、
含フッ素シリコーン接着剤等のフッ素系ポリマーなどを
挙げることができるが、中でもフッ素系ポリマーが好適
である。フッ素系ポリマーとして具体的には、フッ素系
ポリマーCT69(旭硝子(株)製商品名)が挙げられ
る。
【0020】また、上記溶媒は上記接着剤(接着剤を形
成するポリマー)を溶解し得るものであればよく、例え
ばフッ素系溶媒CT−SOLV.180(旭硝子(株)
製商品名)、フロリナートFC75(3M社製商品名)
等の有機溶媒が挙げられる。なお、溶媒の含有量は特に
制限されるものではなく、接着剤層をビッカース硬度
1.5〜20にする量である。
【0021】本発明のペリクルは、通常の方法でペリク
ル枠の上端面にペリクル膜貼着用接着剤層を介してペリ
クル膜を張設し、また通常、下端面にレチクル貼着用接
着剤層を形成し、このレチクル貼着用接着剤層の下端面
に離型層を剥離可能に貼着することで製造することがで
きる。
【0022】ここで、ペリクル枠上端面に形成されるペ
リクル膜貼着用接着剤層は、上記したようにペリクル膜
貼着用接着剤を必要により溶媒で希釈してペリクル枠上
端面に塗布し、加熱して乾燥、硬化させることにより形
成することができる。この場合、接着剤の塗布方法とし
ては、刷毛塗り、スプレー、自動ディスペンサーによる
方法などが採用される。
【0023】なお、ペリクル膜貼着用接着剤の塗布後の
加熱・乾燥条件は、硬化後の硬度がビッカース硬度で
1.5〜20となる範囲で調整する。
【0024】
【実施例】以下、実施例を示し本発明を具体的に説明す
るが、本発明は下記の実施例に制限されるものではな
い。
【0025】〔実施例、比較例〕サイトップCTX80
9SP2(フッ素系ポリマー、旭硝子(株)製商品名)
をフッ素系溶媒CT−SOLV.180(旭硝子(株)
製商品名)に溶解させて濃度3%の溶液を調製した。こ
の溶液を用いて、直径200mm、厚さ600μmの鏡
面研磨したシリコン基板面に、スピンコーターを用いて
膜の厚みが0.8μmの透明膜を形成させた。
【0026】次に、上記膜上に外寸200mm×200
mm×5mm幅、厚さ5mmの枠を、エポキシ系接着剤
アラルダイトラピッド(昭和高分子(株)製商品名)を
用いて接着し、水中で上記膜をシリコン基板から剥離し
た。
【0027】また、フレーム外寸100mm×100m
m×5mm、フレーム厚さ4mmのアルミニウム合金製
フレーム上に接着剤としてフッ素系溶媒CT−SOL
V.180(旭硝子(株)製商品名)に希釈したフッ素
系高分子ポリマーCT69(旭硝子(株)製商品名)を
塗布し、表1に示す条件で10分加熱し、乾燥して、接
着剤層を形成した。この接着剤層中にフッ素系溶媒が表
1に示す重量%で含有されていることをGPC装置にて
確認した。
【0028】更に、各溶媒含有量の場合の接着剤のビッ
カース硬度をマイクロビッカース硬度計(明石製作所製
商品名MVK−EII)を使用し、10gf×5sec
で測定した。
【0029】次いで、このものを上記の成膜したサイト
ップのペリクル膜表面に接着した。二つのフレームはペ
リクルフレームの接着面を上向きにして固定用の治具に
取り付けて相対的に位置がずれないように固定した。次
に、ペリクルフレーム外側の枠を引き上げて固定し、ペ
リクルフレーム外側の膜部に0.5g/cmの張力を与
えた。
【0030】また、別の膜切断用の器具として、スカラ
ーロボットにステンレス製カッター(厚さ0.25m
m)を取り付けた。このカッターにチューブ式ディスペ
ンサを用いて、CT−SOLV.100(旭硝子(株)
製商品名)を毎分10マイクロリットル滴下しながら、
前記ペリクルフレームの接着剤部分の周辺部に沿ってカ
ッターを移動させ、ペリクルフレーム外側の不要膜部分
を切断除去した。
【0031】得られたペリクルについて、40℃で3ヶ
月間放置し、放置前後において膜の緩みがないかを調べ
た。またエアブローを行った際にフレームのエッジ部分
で膜の破れがないかを確認した。エアブローは、ノズル
内径1.0mm、エア圧2.0kg/cm2、ペリクル
膜とノズルの距離10cmで45度の角度で、ペリクル
フレームエッジより5mmの位置にエアを吹き付けた。
以上の結果を表1に示す。
【0032】
【表1】
【0033】表1の結果より、本発明のペリクル膜貼着
用接着剤層のビッカース硬度が1.5〜20のペリクル
(実施例1〜5)は、ペリクル膜の張力が長期間一定
で、緩みやエアブローによる破れなどが生じることがな
いことが確認された。
【0034】
【発明の効果】本発明によれば、ペリクル膜貼着用接着
剤層の硬度(ビッカース硬度)を1.5〜20に制御す
ることによって、ペリクル膜の張力を長期間一定に保つ
ことができ、ペリクル膜の経時的な緩みや膨らみ及びエ
ッジ部分での破れを防止することができる。従って、本
発明のペリクルは、半導体リソグラフィ用として好適に
使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示すペリクルの斜視図であ
る。
【符号の説明】
1 ペリクル枠 2 ペリクル膜 3 接着剤層 4 離型層

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ペリクル枠の上端面にペリクル膜貼着用
    接着剤層を介してペリクル膜を張設したペリクルにおい
    て、上記ペリクル膜貼着用接着剤層の硬度がビッカース
    硬度で1.5〜20であることを特徴とするペリクル。
  2. 【請求項2】 ペリクル膜貼着用接着剤層がフッ素系ポ
    リマーからなる接着剤で形成された請求項1記載のペリ
    クル。
  3. 【請求項3】 ペリクル膜貼着用接着剤層が溶媒を含ん
    だものである請求項1又は2記載のペリクル。
JP18758197A 1997-06-27 1997-06-27 ペリクル Expired - Lifetime JP3449180B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18758197A JP3449180B2 (ja) 1997-06-27 1997-06-27 ペリクル

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18758197A JP3449180B2 (ja) 1997-06-27 1997-06-27 ペリクル

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH1124237A true JPH1124237A (ja) 1999-01-29
JP3449180B2 JP3449180B2 (ja) 2003-09-22

Family

ID=16208619

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18758197A Expired - Lifetime JP3449180B2 (ja) 1997-06-27 1997-06-27 ペリクル

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3449180B2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011100016A (ja) * 2009-11-06 2011-05-19 Shin-Etsu Chemical Co Ltd リソグラフィー用ペリクル
JP2011107230A (ja) * 2009-11-13 2011-06-02 Shin-Etsu Chemical Co Ltd ペリクルおよびその製造方法
EP3165964A1 (en) * 2015-10-29 2017-05-10 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. An adhesive suitable for a pellicle for euv lithography and a pellicle using the same adhesive
JP2017083806A (ja) * 2015-10-29 2017-05-18 信越化学工業株式会社 Euvリソグラフィー用ペリクルに適した接着剤とこれを用いたペリクル

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011100016A (ja) * 2009-11-06 2011-05-19 Shin-Etsu Chemical Co Ltd リソグラフィー用ペリクル
JP2011107230A (ja) * 2009-11-13 2011-06-02 Shin-Etsu Chemical Co Ltd ペリクルおよびその製造方法
EP3165964A1 (en) * 2015-10-29 2017-05-10 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. An adhesive suitable for a pellicle for euv lithography and a pellicle using the same adhesive
JP2017083806A (ja) * 2015-10-29 2017-05-18 信越化学工業株式会社 Euvリソグラフィー用ペリクルに適した接着剤とこれを用いたペリクル
US10126645B2 (en) 2015-10-29 2018-11-13 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Adhesive suitable for a pellicle for EUV lithography and a pellicle using the same adhesive

Also Published As

Publication number Publication date
JP3449180B2 (ja) 2003-09-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3089153B2 (ja) リソグラフィー用ペリクル
JP5189614B2 (ja) ペリクル及びその取り付け方法、並びにペリクル付マスク及びマスク
JP6532428B2 (ja) ペリクル
TWI411874B (zh) 防塵薄膜組件
JP3037745B2 (ja) ペリクル構造体
JPH07120931A (ja) ペリクル
JPH0667409A (ja) リソグラフィー用ペリクル
JP4007752B2 (ja) 大型ペリクル用枠体及び大型ペリクル
JP3449180B2 (ja) ペリクル
JP2001092113A (ja) 半導体リソグラフィ用ペリクル
TW200947114A (en) Pellicle separating method and separating device used therein
JPH0968793A (ja) ペリクル
JP3388162B2 (ja) リソグラフィー用ペリクルの製造方法
JP3206417B2 (ja) ペリクル
JP2000305255A (ja) フッ素エキシマレーザーリソグラフィー用ペリクル
JP4345882B2 (ja) 大型ペリクル
JP3429897B2 (ja) ペリクルの製造方法
JP4319757B2 (ja) ペリクルの製造方法
JP2001249442A (ja) 半導体リソグラフィ用ペリクル
JPH0264540A (ja) 発塵の防止されたペリクル
JPH08179495A (ja) ペリクル及びその製造方法
JPH0756325A (ja) ペリクルとその製造方法
US20240184205A1 (en) Pellicle Frame, Pellicle, Photomask with Pellicle, Exposure Method, Method for Manufacturing Semiconductor Device, and Method for Manufacturing Liquid Crystal Display
WO2022215609A1 (ja) ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付きフォトマスク、露光方法、半導体デバイスの製造方法及び液晶ディスプレイの製造方法
JPH0772615A (ja) ペリクル

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090711

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120711

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130711

Year of fee payment: 10

EXPY Cancellation because of completion of term