KR940010175A - 개선된 배치 패턴을 갖는 반도체 회로 - Google Patents
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Abstract
서로 평행하게 배열된 복수의 제1전원선들(20)과, 서로 평행하게 배열되며, 상기 제1전원선(20)과 제1방향 으로 평행하며 또한 상이한 전원전압을 공급하는 복수의 제2 전원선(21)들과, 상기 제1, 및 제2 전원선들(20, 21)에 각각 결합되며 또한 제2 방향으로 교대로 배열되는 동일수의 제1 p-채널 트랜지스터(22) 및 제1 n-채널 트랜지스터(23)로 구성된 제1 셀과, 상기 제1 및 제2 전원선들(20, 21)에 각각 결합되며 또한 상기 제2 방향으로 교대로 배열되는 상이한 수의 제2 p-채널 트랜지스터(32)와 제2 n-채널 트랜지스터(33)로 구성되며, 상기 제2 p-채널 트랜지스터들은 소정의 구동능력을 갖도록 전기적으로 병렬 결합되어 있는 제2셀로 구성되는 반도체회로를 제공하며, 상기 제2 p-채널 트랜지스터들과 제2 n-채널 트랜지스터들은 제2 방향으로 교대로 배열되므로, 상기 제2 p-채널 트랜지스터들(32)이 전기적으로 병렬로 접속될 수 있어 제2 p-채널 트랜지스터들이 소정의 구동능력을 가질 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 2열형 유니트셀들이 독립적으로 배열된 배치패턴의 일예를 나타내는 평면도.
Claims (13)
- 서로 평행하게 배열된 복수의 제1전원선들(20)과, 서로 평행하게 배열되며, 상기 제1전원선과 제1방향으로 평행하며 또한 상이한 전원전압을 공급하는 복수의 제2 전원선들(21)로된 반도체회로에 있어서, 상기 제1 및 제2 전원선들(20, 21)에 각각 결합되며 또한 제2 방향으로 교대로 배열되는 동일수의 제1 p-채널 트랜지스터(22) 및 제1 n-채널 트랜지스터(23)로 구성된 제1셀과, 상기 제1 및 제2전원선들(20, 21)에 제각기 결합되며 또한 상기 제2 방향으로 교대로 배열되는 상이한 수의 제2 p-채널 트랜지스터(32)와 제2 n-채널 트랜지스터(33)로 구성되며, 상기 제2 p-채널 트랜지스터들(32)은 소정의 구동능력을 갖도록 전기적으로 병렬 결합되어 있는 제2셀로 구성되는 것이 특징인 반도체 회로.
- 제1항에 있어서, 상기 제2 p-채널 트랜지스터들(32)과 상기 제2 n-채널 트랜지스터들(33)은 상기 제1 p-채널 트랜지스터들(22)과 상기 제1 n-채널 트랜지스터들(23)과 동일 크기를 갖는 것이 특징인 반도체 회로.
- 제1항에 있어서, 상기 제2 p-채널 트랜지스터들(32)와 상기 제2 n-채널 트랜지스터들(33)은 상기 제1 p-채널 트랜지스터들(22)과 상기 제1 n-채널 트랜지스터들(23) 보다 더 큰 길이를 상기 제1 방향으로 갖는 것이 특징인 반도체 회로.
- 제3항에 있어서, 상기 제2 p-채널 트랜지스터들(32)은 상기 제1 p-채널 트랜지스터들(22)과 상기 제1 n-채널 트랜지스터들(23)보다 더 큰 폭을 상기 제1 방향에 수직한 방향으로 갖는 것이 특징인 반도체 회로.
- 제1항에 있어서, 상기 제2 p-채널 트랜지스터들(32)은 상기 제1 p-채널 트랜지스터들(22)과 상기 제1 n-채널 트랜지스터들(23)보다 더 큰 폭을 상기 제1 방향에 수직한 방향으로 갖는 것이 특징인 반도체 회로.
- 제5항에 있어서, 상기 제2 n-채널 트랜지스터들(33)은 상기 제1 p-채널 트랜지스터들(22)과 상기 제1 n-채널 트랜지스터들(23)과 동일 크기를 가지며, 또한 상기 제2 p-채널 트랜지스터들(32)은 상기 제1 방향으로 상기 제1 p-채널 트랜지스터들(22)과 상기 제1 n-채 널 트랜지스터들(23)과 동일 길이를 갖는 것이 특징인 반도체 회로.
- 제1∼6항중 임의의 한 항에 있어서, 상기 제2 p-채널 트랜지스터들(32)의 상기 소정의 능력은 상기 제2 n-채널 트랜지스터들(33) 거의 2배인 것이 특징인 반도체 회로.
- 제1∼6항중 임의의 한 항에 있어서, 상기 제2 방향은 상기 제1 방향에 수직인 것이 특징인 반도체 회로.
- 제8항에 있어서, 상기 두 제2 전원선들(21)은 상기 두 제1 전원선들(20)간에 구비되며, 또한 상기 제2 n-형 트랜지스터(33)는 상기 두 제2 p-형 트랜지스터들(32)간에서 상기 두 제2 전원선들(21)과 부분적으로 중첩되도록 배치되는 것이 특징인 반도체 회로.
- 제8항에 있어서, 상기 두 제1 전원선들(20)은 상기 두 제2 전원선들(21)간에 구비되며, 또한 상기 제2 p-형 트랜지스터(32)는 상기 두 제2 n-형 트랜지스터들(33)간에서 상기 두 제1 전원선들(20)과 부분적으로 중첩되도록 배치되는 것이 특징인 반도체 회로.
- 제8항에 있어서, 상기 복수의 제1셀들은 임의의 상호 인접한 제1셀들의 위치들이 상기 제2 방향을 따라 이동되도록 배열되는 것이 특징인 반도체 회로.
- 제1항에 있어서, 상기 제2 방향은 상기 제1 방향에 평행한 것이 특징인 반도체 회로.
- 제12항에 있어서, 상기 복수의 제1셀들은 임의의 상호 인접한 제1셀들의 위치들이 상기 제1방향을 따라 이동되도록 배열되는 것이 특징인 반도체 회로.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP92-282061 | 1992-10-20 | ||
JP28206192 | 1992-10-20 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR940010175A true KR940010175A (ko) | 1994-05-24 |
KR970008327B1 KR970008327B1 (ko) | 1997-05-23 |
Family
ID=17647644
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019930021753A KR970008327B1 (ko) | 1992-10-20 | 1993-10-20 | 개선된 배치패턴을 갖는 반도체회로 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5489860A (ko) |
KR (1) | KR970008327B1 (ko) |
FR (1) | FR2697109B1 (ko) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6097221A (en) * | 1995-12-11 | 2000-08-01 | Kawasaki Steel Corporation | Semiconductor integrated circuit capable of realizing logic functions |
US6480032B1 (en) * | 1999-03-04 | 2002-11-12 | Intel Corporation | Gate array architecture |
US6331800B1 (en) * | 2000-07-21 | 2001-12-18 | Hewlett-Packard Company | Post-silicon methods for adjusting the rise/fall times of clock edges |
US6917084B2 (en) * | 2003-09-05 | 2005-07-12 | Texas Instruments Incorporated | Interdigitated layout methodology for amplifier and H-bridge output stages |
JP5552775B2 (ja) | 2009-08-28 | 2014-07-16 | ソニー株式会社 | 半導体集積回路 |
US8698205B2 (en) * | 2012-05-25 | 2014-04-15 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Integrated circuit layout having mixed track standard cell |
US9576644B2 (en) * | 2015-04-27 | 2017-02-21 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Integrated circuit chip having two types of memory cells |
US11508735B2 (en) | 2019-08-28 | 2022-11-22 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Cell manufacturing |
US11296080B2 (en) | 2020-06-15 | 2022-04-05 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Source/drain regions of semiconductor devices and methods of forming the same |
US11990511B2 (en) | 2021-08-27 | 2024-05-21 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Source/drain device and method of forming thereof |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6017932A (ja) * | 1983-07-09 | 1985-01-29 | Fujitsu Ltd | ゲ−ト・アレイ |
JPS62276852A (ja) * | 1986-05-23 | 1987-12-01 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体集積回路装置 |
JPH0831578B2 (ja) * | 1986-06-19 | 1996-03-27 | 日本電気株式会社 | マスタ−スライス方式のゲ−トアレ−半導体集積回路装置 |
JPS63313835A (ja) * | 1987-06-17 | 1988-12-21 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体集積回路 |
DE68925897T2 (de) * | 1989-04-28 | 1996-10-02 | Ibm | Gate-Array-Zelle, bestehend aus FET's von verschiedener und optimierter Grösse |
US5175605A (en) * | 1990-02-05 | 1992-12-29 | Rockwell International Corporation | Single event upset hardening circuits, devices and methods |
JPH03231462A (ja) * | 1990-02-06 | 1991-10-15 | Nec Corp | 半導体集積回路 |
-
1993
- 1993-10-20 FR FR9312493A patent/FR2697109B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1993-10-20 US US08/138,081 patent/US5489860A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-10-20 KR KR1019930021753A patent/KR970008327B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2697109B1 (fr) | 1996-05-24 |
KR970008327B1 (ko) | 1997-05-23 |
US5489860A (en) | 1996-02-06 |
FR2697109A1 (fr) | 1994-04-22 |
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A201 | Request for examination | ||
G160 | Decision to publish patent application | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
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FPAY | Annual fee payment |
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|
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