KR930005299A - 반도체 레이저 다이오드의 제조방법 - Google Patents
반도체 레이저 다이오드의 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR930005299A KR930005299A KR1019910013663A KR910013663A KR930005299A KR 930005299 A KR930005299 A KR 930005299A KR 1019910013663 A KR1019910013663 A KR 1019910013663A KR 910013663 A KR910013663 A KR 910013663A KR 930005299 A KR930005299 A KR 930005299A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- conductive
- gaas
- layer
- conductive type
- current control
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/30—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
내용 없음.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 종래 반도체 레이저 다이오드의 구조도,
제2도의 (A) 내지 (C)는 본 발명 반도체 레이저 다이오드의 제조방법.
Claims (1)
- 제1도전형 GaAs기판(1)위에 제1도전형 AlGaAs클래드층(2), 활성층(3), 제2도전형 AlGaAs클래드층(4) 및 제1도전형 GaAs 전류제어층(5)을 4)을 액상 에피텍셜(LPE)결정 성장 방법으로 성장시킨 후, 상기 제1도전형 GaAs전류제어층(5)의 중앙부위를 일부 남겨놓은 소정의 깊이로 화학적 식각을 통해 V홈을 형성하고, 상기 액상 에피텍셜(LPE)법으로 상기 V홈내에 남아있는 상기 전류제어층(5)의 제1도전형 GaAs를 제거한 후 제2도전형 GaAs금속접촉층을 형성하여 됨을 특징으로 하는 반도체 레이저 다이오드의 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019910013663A KR940011106B1 (ko) | 1991-08-07 | 1991-08-07 | 반도체 레이저 다이오드의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019910013663A KR940011106B1 (ko) | 1991-08-07 | 1991-08-07 | 반도체 레이저 다이오드의 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR930005299A true KR930005299A (ko) | 1993-03-23 |
KR940011106B1 KR940011106B1 (ko) | 1994-11-23 |
Family
ID=19318352
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019910013663A KR940011106B1 (ko) | 1991-08-07 | 1991-08-07 | 반도체 레이저 다이오드의 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR940011106B1 (ko) |
-
1991
- 1991-08-07 KR KR1019910013663A patent/KR940011106B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR940011106B1 (ko) | 1994-11-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS5681994A (en) | Field effect type semiconductor laser and manufacture thereof | |
KR930005299A (ko) | 반도체 레이저 다이오드의 제조방법 | |
KR930011350A (ko) | 반도체 레이저 다이오드 제조방법 | |
KR880008479A (ko) | 반도체레이저장치의 제조방법 | |
KR950012833A (ko) | 반도체 레이저 다이오드 제조방법 | |
KR920013824A (ko) | 레이저 다이오드 제조방법 | |
KR890011151A (ko) | 레이저 다이오드의 제조방법 | |
KR930005271A (ko) | 화합물 반도체를 이용한 광전소자의 제조방법 | |
KR930005298A (ko) | 반도체 레이저 다이오드의 제조방법 | |
KR870006644A (ko) | Iii-v족화합물 반도체 소자의 전극 형성방법 | |
KR960002977A (ko) | 반도체 레이저다이오드의 제조방법 | |
KR930020786A (ko) | 레이저다이오드 및 그 제조방법 | |
KR940001500A (ko) | 반도체 레이저 다이오드 제조방법 | |
KR930005301A (ko) | 반도체 레이저 다이오드의 제조방법 | |
KR930015225A (ko) | 레이저 다이오드의 제조방법 | |
KR940001499A (ko) | 반도체 레이저 다이오드의 제조방법 및 그 구조 | |
KR950012940A (ko) | 굴절율도파형 반도체 레이저 다이오드 및 그의 제조 방법 | |
KR970018882A (ko) | 반도체 레이저 다이오드 및 그 제조방법 | |
KR930003473A (ko) | 반도체 레이저의 제조방법 | |
KR940010434A (ko) | 2-스텝 매립형 고출력 반도체 레이저 다이오드 제조방법 | |
KR930003446A (ko) | 반도체 발광소자 제조방법 | |
KR920013828A (ko) | 반도체 레이저 다이오드 제조방법 | |
KR910019298A (ko) | 매립형 이종구조(buried heterostructure) 레이저 다이오드 제조방법 | |
KR940010429A (ko) | 반도체 레이저 다이오드 제조방법 | |
KR900001075A (ko) | 고출력 복합 반도체 레이저 다이오우드 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
G160 | Decision to publish patent application | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20031008 Year of fee payment: 10 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |