KR920704332A - 개량된 웨이퍼이송 및 처리장치 - Google Patents

개량된 웨이퍼이송 및 처리장치

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KR920704332A
KR920704332A KR1019920701972A KR920701972A KR920704332A KR 920704332 A KR920704332 A KR 920704332A KR 1019920701972 A KR1019920701972 A KR 1019920701972A KR 920701972 A KR920701972 A KR 920701972A KR 920704332 A KR920704332 A KR 920704332A
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wafer
wafer transfer
medium
compartment
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KR1019920701972A
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에드와드보크
요한스 빌헬름스발라그 로날드
Original Assignee
에드와드보크
요한스 빌헬름스발라그 로날드
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Publication date
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Abstract

내용 없음.

Description

개량된 웨이퍼이송 및 처리장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 의한 장치의 세척모듈의 종단면도,
제2도는 제1도에 의한 모듈의 2―2선을 통한 단면도,
제3도는 제1도에 의한 모듈의 3―3선을 통한 단면도.

Claims (186)

  1. 최소한 하나의 웨이퍼 모듈, 및 이외에 a) 하측 체임버 블록 및 상측 체임버 블록의 결합체 : b) 웨이퍼를 청결하기 위하여 최소한 하나의 중앙 리세스에서 이들 블록 사이에 위치되는 청결 체임버 : c) 이 블록 장치에서 이 체임버 결의 측방향에 청결 매질을 위한 방출 통로 : d) 상기 청결 체임버를 향하여 그리고 이로부터 웨이퍼 이송을 위하여 상기 체임버 블록을 서로로부터 이동시키고 웨이퍼 청결을 위하여 서로를 향하여 변위시키는 수단 : 및 e) 진동 작용하에 체임버 벽의 왕복에 의하여 상기 청결 체임버에서 최소한 웨이퍼의 청결중에 상기 청결 체임버의 높이의 최소한 일시적인 변화를 부여하는 진동기로 구성되며, 웨이퍼의 청결중에 상기 방출 통로를 향하여 상기 청결 체임버로부터 상기 체임버 블록 사이에 최소한 일시적으로 설정된 매질 방출갭과 함께 폐쇄 시스템이 최소한 가스 매질에 의하여 설정되게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서, 최소한 함께 일시적으로 상기 벽의 결합된 상태에서 상기 청결 체임버 및 상기 방출통로 사이에 상기 소형 매질 방출 갭이 설정되게 하는 협동 정지벽을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 매질 방출 갭이 웨이퍼 청결 작용중에 방사 방향으로 중단없이 연장되게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  4. 제2항에 있어서, 정지벽 부분으로서 최소한 하나의 상기 정지벽은 연장부이든 아니든 간에 상기 방출통로를 지나 측방향에서 상기 체임버 블록의 하나의 최소한 일부임을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  5. 제1항 내지 제4항중의 어느 하나에 있어서, 상기 체임버 블록이 상기 방출 통로의 외부에서 측방향으로 연장되며 방사 방향으로 협동하는 연속된 벽 부분을 포함하며, 웨이퍼의 청결중에 벽 부분의 상기 연결은 외부 환경으로부터 측방향으로 상기 방출 통로를 최소한 거의 완전히 폐쇄시키도록 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 체임버 블록의 청결 위치에서 가스 매질에 의하여 폐쇄 시스템이 측방향 외향 방향으로 상기 방출 통로를 위하여 설정되게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  7. 제5항에 있어서, 상기 블록 사이의 상기 벽 부분에서 가스 록 격실이 방사 방향으로 연장되어 위치되고, 상기 격실에 공급되는 가스 매질은 상기 방출 통로에 도달된 청결 매질이 상기 벽 부분 사이에서 측방향 외향 방향으로 새어나오는 것을 방지하여 주는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리장치.
  8. 제7항에 있어서, 가스 록을 유지하기 위하여 상기 가스 록 격실로 공급되는 매질이 측방향 외향 연장부를 통하여 생기도록 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 가스 록 격실의 상기 연장부가 상기 체임버 블록 장치 외부의 환경으로부터 상기 격실을 향하여 매질을 공급하기 위하여 상기 체임버 블록 장치의 외부를 향하여 측방향 외향 방향으로 연장됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  10. 제7항에 있어서, 상기 가스 록 격실은 여과된 가스 매질의 개별 공급과 연결된 수직 방향으로 확대된 부분으로 구성시키므로서 상기 체임버 블록의 상기 정지벽 부분의 결합중에 상기 방출 통로를 향하여 상기 격실로부터 상기 가스 매질의 방출이 제한되도록 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리장치.
  11. 제10항에 있어서, 상기 체임버 블록은 상기 가스 록 격실 외부의 측방향으로 연장되는 협동하는 방사방향의 연속된 벽 부분의 결합으로 구성되고, 벽 부분의 상기 결합은 웨이퍼의 청결중에 최소한 측방향 외향방향으로 상기 격실로부터 매질의 누출이 제한되게 하는 정도로 외향 방향으로 상기 가스 록 격실을 폐쇄시킴을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리장치.
  12. 제11항에 있어서, 청결 매질의 방출 중에 상기 격실의 매질의 압력이 상기 방출 통로의 매질의 압력보다 크게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리장치.
  13. 제7항에 있어서, 최소한 일부분에 대하여 상기 가스 록 격실의 측방향 외향 방향으로 함께 위치되는 상기 벽 부분이 상기 정지벽 부분이 되게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리장치.
  14. 제1항 내지 제13항에 있어서, 상기 체임버 블록이 다음의 대응하는 벽 부분, 즉 a) 정지벽 부분; b) 상기 방출 통로로부터 측방향 외향 방향으로 연장되는 방사 방향이 연속된 벽 부분; c) 상기 청결 체임버 및 상기 방출 통로 사이에서 방사 방향의 연속된 벽 부분으로 구성되며, 추가적으로 상기 정지벽 부분의 결합된 위치에서 다음의 매질 방출 갭, 즉 상기 방출 통로를 향하여 가스 매질의 공급을 위한 상기 방출 통로 외부의 방출 갭; 및 상기 청결 체임버 및 상기 방출 통로 사이에서 최소한 일시적으로 상기 청결 체임버로부터 청결 매질의 방출을 위한 방사 방향의 연속된 방출 갭이 설정되도록 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  15. 제14항에 있어서, 상기 체임버 블록은 이외에 다음에 해당하는 벽 부분, 즉 c) 상기 가스 록 격실로부터 측방 외향 방향으로 연장되는 방사 방향의 연속된 벽 부분을 포함하고, 이외에 상기 정지벽 부분의 결합위치에 다음의 매질 방출 갭, 즉 c) 상기 벽 부분 사이에서 상기 가스 록 격실의 외부에 미세한 갭이 설정되도록 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  16. 제15항에 있어서, 상기 가스 록 격실에서 웨이퍼의 청결중에 과압이 상기 가스 록 격실의 외부를 향하여 측방향에서 매질의 압력에 대하여 유지될 수 있도록 상기 갭에서 매질에 대한 유동 저항을 크게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  17. 제14항에 있어서, 상기 청결 체임버로부터 측방 외향 방향으로 연장되는 상기 체임버 블록 벽은 웨이퍼가 상기 청결 체임버를 향하여 그리고 그로부터 이송되는 이송 대역을 포함하고, 상기 정지벽 부분은 상기 청결 체임버에서 청결된 웨이퍼의 이송 대역의 최소한 외부에 위치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  18. 제17항에 있어서, 청결된 웨이퍼를 위한 이송 대역의 결에서 상기 가스 록 격실의 외방을 향하여 측방향에 위치되는 상기 벽 부분은 정지벽 부분임을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  19. 제1항 내지 제18항 중의 어느 하나에 있어서, a) 원통형 막 부분에 의하여 상기 청결 체임버를 지나 측방향으로 연장되는 중앙 체임버 블록 부분이 체임버 블록과 함께 상기 블록의 외측 부분과 연결되고; (b) 상기 방출 통로는 상기 막 부분으로부터 떨어져 약간 거리를 두고 측방 외향 방향에 위치되며; (c) 커버가 진동기 체임버의 생성과 함께 상기 외측 블록 부분에 대하여 압력 밀폐식으로 고정되고; d) 상기 진동이 체임버에서 진동기 장치는 상기 중앙 체임버 블록 부분이 진동 왕복하도록 위치되며, 상기 진동기 체임버에서 매질이 이 매질에 의하여 함께 위치될 때 상기 청결 체임버에 대한 상기 폐쇄 시스템이 달성되도록 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  20. 제19항에 있어서, 상기 막 부분은 다른 체임버 블록의 반대 폐쇄 벽 부분에 해당하는 원통형 폐쇄 벽 부분을 포함하며, 상기 방출 갭은 최소한 상기 폐쇄벽 부분을 향하여 상기 방출 통로로부터 내측으로 연장되며, 상기 진동기 체임버와 상기 방출 갭에서 추력 매질의 얻어진 추력에 의하여 상기 막 폐쇄 벽 부분이 상기 청결 체임버로부터 청결 매질의 방출이 거의 전체 폐쇄와 함께 상기 반대 폐쇄 벽에 압압되게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  21. 제1항 내지 제20항 중의 어느 하나에 있어서, 최소한 함께 상기 진동기 체임버에서 웨이퍼의 청결중 추력 매질의 과압이 상기 방출 통로의 압력에 대하여 유지되도록 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  22. 제21항에 있어서, 상기 막 부분의 상기 폐쇄 벽 부분이 상기 방출 통로의 측부에서 상기 막 부분의 중앙을 지나 위치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  23. 제22항에 있어서, 최소한 일시적으로 웨이퍼의 청결중에 매질의 방출이 상기 청결 체임버로부터 일어나든 안일어나든 간에 상기 진동시 체임버와 상기 방출 통로의 압력 사이에 상당히 명확한 차이가 유지되도록 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  24. 제21항에 있어서, 상기 체임버 블록의 하역 위치에서 상기 폐쇄 벽 부분은 인접 부분으로부터 적은 거리에 걸쳐 하향 연장되게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  25. 제1항 내지 제24항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 체임버 블록의 결합된 정지 위치에서 상기 청결 체임버의 높이가 거의 웨이퍼의 두께보다 크게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  26. 제25항에 있어서, 상기 청결 체임버에 매질의 공급에 의한 상기 진동기 체임버의 일정 압력에 의하여 압력 축적이 일어나고, 상기 막 부분의 상기 폐쇄 벽 부분이 일시적이며 최소한 국부적으로 다른 체임버 블록의 상기 반대 폐쇄 벽 부분으로부터 인양되고, 일시적으로 상기 방출 통로를 향하여 상기 청결 체임버로부터 최소한 국부적으로 연속된 소형 방출 갭이 형성되게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  27. 제26항에 있어서, 상기 진동기 체임버에 정지벽이 위치되고, 상기 중앙 체임버 블록 부분은 대응하는 정지벽 부분을 포함하며, 상기 정지벽 장치에 의하여 상기 중앙 블록 부분의 수직 방향으로의 변위가 제한됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  28. 제27항에 있어서, 웨이퍼의 청결중 상기 정지벽 장치에 의히여 상기 청결 체임버의 최대 용량을 제한함으로서 상기 중앙 블록 부분의 진동 왕복이 회피되도록 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  29. 제28항에 있어서, 이 목적을 위하여 정지벽 부분의 상기 결합은 사이에 위치되는 추력 매질이 댐퍼로서 작용하도록 큰 결합면을 가짐을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  30. 제27항에 있어서, 상기 방출 통로에서 최소한 거의 일정한 압력으로 청결매질을 방출하기 위하여 상기 청결 압력은 감소되도록 하고, 이는 상기 진동기 체임버의 압력의 점진적 감소에 의하여 달성되고 그 사용은 상기 진동기 체임버 내에서 상기 정지벽 장치로 이루어지도록 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  31. 제1항 내지 제30항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 막 부분은 폐쇄 부분, 상기 폐쇄 부분과 상기 진동 중앙 체임버 블록 부분 사이의 제1가요성 막 부분, 및 상기 폐쇄 부분과 상기 외측 체임버 블록 부분 사이의 제2가요성 막부분을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  32. 제31항에 있어서, 상기 진동기 체임버에 정지벽이 위치되고 상기 폐쇄부분은 폐쇄 위치로부터 상기 폐쇄 부분의 변위를 제한하기 위한 반대 정지벽을 포함함을 특징으로 하는 계량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  33. 제32항에 있어서, 상기 원통형 폐쇄 부분은 최소한 국부적으로 약간의 거리에 걸쳐 평탄함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  34. 제32항에 있어서, 상기 폐쇄 부분의 상기 정지벽은 상기 인접한 가요성 막 부분으로부터 약간의 거리에 걸쳐 상향 연장되며 최소한 국부적으로 평탄함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  35. 제32항에 있어서, 상기 진동기 체임버의 상기 대응하는 정지벽에 대하여 상기 폐쇄 부분의 상기 정지벽의 정지위치에서 상기 제1막 부분의 아래를 향하여 상기 청결 체임버로부터 연장되는 방출 갭 부분의 높이는 크고, 상기 중앙 블록 부분의 진동 왕복은 최대로부터 적은 정도로 상기 방출 갭 부분 내에서 매질에 의하여 감소되게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  36. 제32항에 있어서, 상기 제2가요성 막 부분은 수직방향으로 변위될 수 있으며 다른 체임버 블록의 폐쇄벽 부분에 해당하는 제2폐쇄 벽 부분을 포함하고 있고, 방출 갭은 최소한 상기 제2폐쇄 벽 부분을 향하여 상기 방출 통로로부터 내측으로 연장됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  37. 제36항에 있어서, 상기 제2폐쇄 벽 부분은 상기 방출 통로의 측부에서 상기 제2막 부분의 단부 가까이에 위치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  38. 제35항에 있어서, 상기 제1페쇄 부분의 상기 정지벽의 정지 위치에서, 소형 방출 갭이 상기 제1폐쇄 부분과 다른 체임버 블록의 상기 대응하는 벽 부분 사이에서 이루어지게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  39. 제38항에 있어서, 상기 제1폐쇄 부분의 상기 개방 통로 위치에서 상기 청결 체임버에 일정한 압력이 축절될 때까지 상기 제2폐쇄 부분이 다른 체임버 블록의 상기 대응하는 부분에 대향하여 상기 진동기 체임버와 상기 방출 통로의 매질의 압력에 대하여 상기 청결 체임버의 일정한 압력 축적 이상으로 압압되고, 상기 제2폐쇄 부분이 상기 대응하는 폐쇄 부분으로부터 인양되어 매질의 방출이 달성되게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  40. 제36항에 있어서, 상기 진동기 체임버에서 대응하는 정지벽을 갖는 상기 중앙 체임버 블록 부분의 제1정지벽 부분은 상기 블록 부분의 상향 변위를 제한하도록 작용하고, 상기 진동기 체임버 내에서 상기 대응하는 제2정지벽에 대한 상기 막 부분의 상기 제1폐쇄 부분의 일부로서 제2정지벽의 정지 위치에서 상기 제1정지벽 부분은 상기 진동기 체임버에서 상기 대응하는 벽으로부터 약간의 거리에 걸쳐 이동되도록 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  41. 제1항 내지 제40항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 진동용 중앙 상측 체임버 블록 부분에 최소한 하나의 진동기가 고정되고, 상기 진동기의 상측 부분은 댐퍼 벽이고, 사기 진동기 체임버 내에 대응하는 댐퍼 벽이 위치되고, 그 사이의 거리는 제한되며, 그의 상당한 면적과 조합하여 상기 상측 진동기 부분의 진동이 감쇠되을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  42. 제41항에 있어서, 상기 댐퍼 벽 사이의 갭의 높이는 상기 청결 체임버의 최대로 달성할 수 있는 용량에 대하여 상기 댐퍼가 압축성 정지 부재로서 상용할 수 있는 정도로 상기 진동기의 상기 상측 부분의 상향 변위가 감쇠되는 그러한 높이 임을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  43. 제41항에 있어서, 상기 청결 체임버의 최대 용량을 제한하기 위하여 제1정치벽 부분의 정지 위치에서, 상기 진동기의 상기 댐퍼 벽이 상기 진동기 체임버 내의 상기 댐퍼 벽과 기계적 접촉을 이루지 못하게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  44. 제1항 내지 제43항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 막 폐쇄 부분에서 상기 방출 갭의 매질 통로의 개방 및 폐쇄가 주로 상기 막 부분의 양측에 작용하는 성취된 매질의 압력차에 의하여 일어나도록 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  45. 제44항에 있어서, 상기 막 부분의 상기 폐쇄 부분을 향하여 상기 청결 체임버로부터 외방으로 연장되는 좁은 방축 갭 부분 내에서 방축된 매질에 의한 그의 개방 상태 하에 그와 같이 높은 유동 저항이 생성되게 하여 상기 진동기 체임버의 압력과 결합된 상기 막 부분에서 상기 방축 갭에서의 압력 감소가 상기 폐쇄 부분에서 통로 갭의 축소를 이루게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  46. 제44항에 있어서, 상기 청결 체임버에 대한 매질의 공급에 따라, 상기 폐쇄 부분에서 국소형 통로 갭이 최소한 일시적으로 어느 정도 개방되게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  47. 제39항에 있어서, 상기 제2막 부분의 강성, 다른 체임버 블록의 상기 대응하는 폐쇄 부분에 대하여 압압하는 동안의 상기 막 부재의 변형 정도 및 상기 막의 나머지에 대하여 상기 제2폐쇄 부분의 위치의 조합에 의하여 상기 진동기 체임버 및 상기 청결 체임버의 압력이 상기 방출 통로의 압력보다 상당히 높아질 수 있게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  48. 제1항 내지 제47항 중의 어느 하나에 있어서, 웨이퍼의 청결중의 상기 방출 갭의 압력이 상기 진동기 장치에 의하여 상기 청결 체임버의 청결 매체를 연속 압축 및 팽창하는 동안의 상기 청결 체임버의 평균 압력과 대략 동일하게 되게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  49. 제48항에 있어서, 상기 청결 체임버와 상기 방출 통로 사이의 상기 방출 갭의 길이는 그의 극소 높이에 대하여 크고, 통과하는 청결 매체에 대하여 달성된 큰 유동 저항에 의하여 상기 갭은 완충 격실로서 작용함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  50. 제48항에 있어서, 웨이퍼의 청결을 위하여 상기 진동기 체임버의 압력을 조절하는 동안 상기 방출 통로의 압력이 따라서 적합하게 되도록 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  51. 제1항 내지 제50항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 중앙 체임버 블록 부분의 진동 왕복을 위하여 어떠한 형태의 진동기라도 적합한 형태로 이용될수 있게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  52. 제51항에 있어서, 상기 진동기는 초고속 진동 진폭을 갖는 피에조 변환기임을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 처리 장치.
  53. 제51항에 있어서, 상기 진동기는 상기 진동기 체임버를 향하여 그리고 그로부터 액체 매질을 공급 및 방출하는 낮은 진동수를 갖는 유압 진동기 임을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  54. 제53항에 있어서, 조절 가능한 양의 매질이 상기 진동기 체임버를 향하여 그리고 그로부터 공급 및 방출되게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  55. 제51항에 있어서, 양 체임버 블록은 진동하는 왕복 가능한 중앙 체임버 블록 부분을 포함하며, 상기 체임버 블록의 외측 부분의 각각에 대하여 커버가 두개의 진동기 체임버를 형성하면서 기밀하게 고정되고, 상기 중앙 블록 부분의 왕복 변위를 위하여 상기 체임버 내에 진동기 장치가 위치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  56. 제47항에 있어서, 상기 제1정치벽 결합체의 상기 협동하는 벽 사이의 높이가 높고, 상기 정지벽 장치의 방향으로 상기 중앙 블록 부분의 진동 변위가 단지 적은 정도로만 감쇠됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  57. 제1항 내지 제56항 중의 어느 하나에 있어서, 과압하에 상기 청결 체임버에서 청결을 행하는 동안 부압이 상기 방출 통로에 유지되게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  58. 제57항에 있어서, 상기 모듈을 위한 외부 환경이 상기 방출 통로의 외부를 향하여 측방향으로 가스 록을 유지시키고 상기 통로를 린스하는데 요구되는 가스 매질의 공급자로 작용하게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  59. 제1항 내지 제58항 중의 어느 하나에 있어서, 일련의 웨이퍼 청결 모듈 및 웨이퍼 처리 모듈을 격실내에 배치시키되 불활성 가스 매질을 최소한 함께 위치시키고, 일련의 웨이퍼 이송 로버트를 최소한 수평 웨이퍼 이송을 위하여 사용함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  60. 제59항에 있어서, 커버에 의한 상기 격실은 인접한 작동실로부터 분리되고, 상기 커버는 최소한 로버트의 수평 웨이퍼 이송 대역을 지나 하측 격실이 연장되며 공기를 포함하는 상기 상측 격실의 아래를 향하여 하향 방향으로 연장되며, 수선을 위하여 상기 상측 격실을 상기 하측 격실로부터 접근할수 있는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  61. 제1항 내지 제60항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 상측 체임버 블록에서 외향 방향으로 원통형 막 부분에 의한 상기 청결 체임버의 왕복가능한 상측 벽으로서 상기 중앙 블록 부분이 취부 부분과 연결되고, 상기 하측 체임버 블록에서 제2중앙 블록 부분이 상기 방출 통로를 지나 측방향 외향방향으로 약간의 거리를 두고 연장되어 위치되는 한편 측방향 외향방향으로 원통형 막 부분에 의하여 방사방향의 연속된 취부 부분과 연결되며, 이외에 정치벽을 향하여 상기 체임버 블록의 결함된 위치에서 상기 하측 중앙 블록 부분을 0.1㎜이하 하향방향으로 변위시키고 상기 청결 체임버로부터 매질의 방출을 달성하기 위한 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  62. 제1항 내지 제61항 중의 어느 하나에 있어서, 변위 장치에 의하여 상기 변위가능한 체임버 블록이 폐쇄된 웨이퍼 청결 위치를 향하여 그리고 그로부터 상기 청결 체임버를 향하여 그리고 그로부터 웨이퍼의 공급 및 방출을 위하여 개방 웨이퍼 이송 위치로부터 변위될 수 있게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  63. 제62항에 있어서, 서로 고정되는 지지체 블록과 커버 블록의 결합체를 포함하며, 상기 체임버 블록의 하나는 상기 블록의 하나의 일부이며, 변위 장치와 함께 다른 체임버 블록은 웨이퍼 이송을 위해 상기 체임버 블록 사이에 통로를 형성하고 웨이퍼의 청결을 위해 서로에 대하여 상기 체임버 블록의 상기 정지벽 부분을 압압하도록 상기 결합체에 변위가능하게 고착됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  64. 제63항에 있어서, 상기 하측 체임버 블록이 상기 지지체 블록의 일부가 되고, 상기 상측 체임버 블록이 수직방향으로 변위될 수 있게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  65. 제64항에 있어서, 추력 체임버가 상기 하측 체임버 블록의 상기 중앙 부분의 수직 변위를 위하여 위치되어 웨이퍼 청결 위치를 개방시키거나 개방시키지 않도록 하고, 상기 상측 체임버 블록은 웨이퍼 이송 및 폐쇄 웨이퍼 청결 위치를 달성하도록 수직방향으로 변위가능함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  66. 제64항에 있어서, 상기 변위 장치는 웨이퍼 이송 방향으로 보아 상기 상측의 체임버의 전단부 및/또는 후단부가 웨이퍼의 이송을 위하여 수직방향으로 일정한 거리에 걸쳐 변위될 수 있는 방식으로 구성됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  67. 제66항에 있어서, 청결하게 하고자 하는 웨이퍼의 상기 청결 체임버를 향한 이송은 상기 상측 블록의 달성된 경사 위치에 의하여 상기 상측 체임버 블록의 상기 체임버 리세스에 대하여 중심적으로 개방된 체임버 블록 장치 내의 한 위치를 향하여 상기 이송 로버트의 아암을 변위시킨 다음 웨이퍼가 상기 리세스 내에 보내어지는 수평 위치를 향하여 상기 블록을 하향방향으로 변위시키므로서 일어나게 하고, 웨이퍼 아래로부터 상기 로버트 아암의 그 다음의 후방 이동후 상기 상측 체임버 블록이 폐쇄 웨이퍼 청결 위치를 향하여 더욱 하향 이동되게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  68. 제67항에 있어서, 웨이퍼 변부에 대하여 상기 체임버 리세스의 수직 측벽의 하측 림의 전단 작용에 의하여 중심을 벗어나 공급된 웨이퍼에 대하여, 상기 웨이퍼를 상기 리세스 내에서 그의 중심 위치를 향하여 추진되게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  69. 제67항에 있어서, 웨이퍼의 청결후 상기 웨이퍼를 상기 상측 체임버 벽에 대하여 이전이 추진되게 하고, 상기 블록이 개방된 이송 위치 및 상기 방출 로버트의 웨이퍼 지지 블레이트의 인수 위치에서 상기 웨이퍼에 대한 추력이 종료되게 하고, 그 자신의 중력에 의하여 상기 웨이퍼가 상기 청결 모듈로부터 방출을 위하여 상기지지 블레이드에 지지되게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  70. 제1항 내지 제69항중 어느 하나에 있어서, 최소한 일부의 웨이퍼 청결을 위하여 최소한 가스 매질을 사용하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  71. 제70항에 있어서, 최소한 일부의 웨이퍼 청결을 위하여 가스와 액상 매질의 혼합물을 사용하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  72. 제70항에 있어서, 최소한 일부의 웨이퍼 청결을 위하여 가스상 매질과 가스상 또는 증기상의 다른 매질의 혼합물을 사용하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  73. 제70항에 있어서, 최소한의 일부의 웨이퍼 청결을 위하여 증기 및 액상의 청결 매질을 사용하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  74. 제70항에 있어서, 웨이퍼 청결을 위하여 이산화탄소 같은 초임계 유체를 일시적인 액상 및/또는 기상으로 사용하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  75. 제70항에 있어서, 상기 상측 청결 갭에 있어서는 상기 웨이퍼의 처리 측부의 청결이 최소한 청결 매질에 의하여 일어나게 하고, 최소한 가스 매질에 대한 상기 하측 갭에 있어서는 상기 웨이퍼에 대한 최소한 가스상 쿠션이 유지되게 하는 수단을 포함하는 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  76. 제70항에 있어서, 웨이퍼의 청결중에 상측 청결 갭의 평균 높이가 적고 그의 외측 부분이 매질에 대하여 상당한 유동 저항을 가지므로서 1상기 갭에서 거의 개별적인 청결이 일어나게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  77. 제76항에 있어서, 최소한 일시적으로 상측 및 하측 갭을 향하여 매질의 공급을 조절함으로서, 상기 상측 갭의 평균 높이가 상기 하측 갭의 평균 높이보다 적게 되게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  78. 제70항에 있어서, 웨이퍼와 청결을 위하여 최적 사용이 상기 왕복하는 웨이퍼의 래크 효과로 달성되게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  79. 제78항에 있어서, 팽창 스트로크 중에 상기 웨이퍼가 그의 비교적 큰 질량으로 인하여 처지게 되어 액체 매질 내에 기포가 발생되게 하고 상기 웨이퍼 직상의 경계층으로부터 매질의 이동을 위한 작은 폭발 작용이 일어나게 하며, 압축 스트로크 중에 상기 기포의 내파작용에 의하여 분무상태의 액화 매질이 상기 경계층과 웨이퍼의 위상에 강력한 영향을 미치게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  80. 제70항에 있어서, 최소한 일시적으로 웨이퍼의 청결중에 상기 청결 갭에서 중앙에 공급되는 새로운 매질에 의한 사용이 끝난 청결 매질의 점진적인 교체가 일어나게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  81. 제80항에 있어서, 상술한 매질의 교체가 최소한 일시적이면서 연속적으로 그리고 최소한 거의 연속적으로 일어나게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  82. 제80항에 있어서, 최소한 상측 청결 갭에서 상기 웨이퍼의 청결중에 사용이 끝난 청결 매질의 최소한 일시적인 점진적 교체가 다음 형태의 중앙에 공급된 새로운 매질에 의하여 일어나게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  83. 제1항 내지 제82항중 어느 하나에 있어서, 상기 웨이퍼의 다음의 청결중의 하나, 즉 부압 및/또는 정압하에서 청결을 위하여 과압하에 청결의 점진적 이송에 의하든 아니하든 초고압, 과압, 부압 또는 진공하에서의 청결중의 하나가 결합에 의하든 아니든 간에 일어나게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  84. 제59항에 있어서, a) 웨이퍼 저장 및 진단과 결합되는 아니든 간에 상측 격실에 위치되는 웨이퍼 청결, 이송 및 처리를 위한 최소한 하나의 격실; b) 상기 격실과 떨어져 수평방향으로 배치되어 보수자를 위한 입구를 갚는 보수 회랑; c) 하측 격실로부터 상기 상측 격실을 분리하는 상기 보수 회랑 아래의 바닥; d) 상기 격실 및 상기 회랑 위의 상기 상측 격실의 일부로서의 공통 상부 부분; 및 e) 상기 격실, 상기 회랑 및 상기 상부 부분에 고도로 여과된 컬럼 불황성 가스를 유지하기 위한 수단을 포함하며, 이 불활성 가스를 위한 공급 오리피스가 바닥 상부에 위치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  85. 제83항에 있어서, 이 불활성 가스를 위한 방출 오리피스가 상기 상측 격실에 위치되는 장치 부분의 수평 웨이퍼 이송 대역의 아래에 위치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  86. 제84항에 있어서, 상기 공급 오리피스가 상기 웨이퍼 이송 대역의 상부에 위치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  87. 제1항 내지 제86항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 회랑 바닥의 상부의 상기 상측 격실 내에 고도로 여과된 컬럼 공기가 상기 컬럼 불활성 가스의 아래에 유지되게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  88. 제87항에 있어서, 상기 컬럼 공기가 최대의 상기 수평 웨이퍼 이송 대역을 향하여 상향 연장되게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  89. 제87항에 있어서, 수직 분리 벽이 상기 컬럼 공기와 불활성 가스 사이에서 분리 수준을 지나며 상기 회랑 바닥으로부터 최소한 국부적으로 상향 연장되는 상기 회랑 부분 및 상기 웨이퍼 이송/처리/저장/진단 격실 사이에 위치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  90. 제89항에 있어서, 상기 회랑에서 고도로 여과된 공기를 위한 공급 오리피스가 상기 바닥의 상부 및 상기분리 수준의 아래에 위치되고, 상기 회랑에서 상기 공기를 위한 방출 오리피스가 상기 바닥에 위치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  91. 제90항에 있어서, 상기 회랑 내에서 상기 불활성 가스를 위한 방출 오리피스가 상기 분리 수준의 상부에 위치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  92. 제89항에 있어서, 상기 컬럼 불활성 가스와 공기 사이의 상기 분리 수준이 상기 회랑 내에서 매질이 회전하는 동안 공기가 상기 웨이퍼 이송/처리/저장 진단 격실에 전혀 들어갈 수 없도록 상기 분리벽의 상부의 아래로부터 멀리 위치되게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  93. 제1항 내지 제92항 중의 어느 하나에 있어서, 최소한 공동으로 상기 웨이퍼 이송/처리/저장/진단 격실에서 장치의 보수는 봉입물 내에 일시적으로 위치되는 보수자에 의하여 일어나게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  94. 제93항에 있어서, 상기 봉입물은 공급 및 방출에 의하여 최소한 산소를 포함하는 매질이 함유되고 최소한 일시적으로 상기 상측 격실 내에 위치되며 상향 방향으로 약간의 거리를 두고 그의 상측 부분이 상기 컬럼 불활성 가스와 상기 컬럼 공기 사이의 분리 수준으로부터 이동되게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  95. 제94항에 있어서, 상기 봉입물은 그 하측이 접근할 수 있게 개방되고 자립할 수 있게 구성시킨 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  96. 제95항에 있어서, 상기 봉입물은 그 속에 위치되는 사람이 구부릴 수 있게 가요성 조인트에 의하여 누출이 생기지 않게 서로 연결된 강성의 하측 및 상측 부분을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  97. 제1항 내지 제96항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 봉입물은 교체가능한 아암 봉입물을 취부하기 위한 두개의 연결부분을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  98. 제97항에 있어서, 상기 봉입물의 하측 부분은 지지 부재에 의하여 보다 무겁게 제작됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  99. 제98항에 있어서, 상기 지지 부재에서 로울 장치가 상기 봉입물의 변위를 위하여 설치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  100. 제98항에 있어서, 상기 상측 격실은 상기 봉입물을 위한 청결 장치를 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  101. 제94항에 있어서, 상기 봉입물이 호흡 공기의 공급 및 방출을 위한 관재료에 의하여 상기 회랑의 내측에서 커플링과 연결됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  102. 제1항 내지 101항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 수평 분리벽에서 맨홀이 상기 하측 격실로부터 출입을 위한 사람의 통로로서 그리고 국부적으로 상기 회랑에 위치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  103. 제102항에 있어서, 상기 하측 격실에서 상기 맨홀에 사람의 엘리베이터가 설치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  104. 제103항에 있어서, 상측 위치에서 상기 엘리베이터의 바닥이 회랑 바닥 부분으로서 작용하게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  105. 제103항에 있어서, 상기 맨홀의 상부에서 상기 봉입물은 상기 엘리베이터에 의하여 사람이 상기 봉입물내에서 그의 상측 위치를 향하여 상향 방향으로 또는 이와 반대로 변위되는 방식으로 위치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  106. 제1항 내지 제105항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 컬럼 불활성 가스의 상기 상측 격실에 상기 보수자에 의하여 반입되는 장치용 초청결 부품의 저장을 위하 최소한 하나의 랙이 설치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  107. 제89항에 있어서, 상기 웨이퍼 이송/처리/저장/진단 격실에서 불활성 가스용 방출 오리피스가 상기 웨이퍼 이송 대역의 아래에 설치되고, 방출 도관을 통하여 상기 오리피스가 공통 방출 도관과 연결됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  108. 제107항에 있어서, 상기 방출 오리피스가 상기 컬럼 불활성 가스 및 공기 사이의 상기 분리 수준의 직상에 설치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  109. 제1항 내지 제108항 중의 어느 하나에 있어서, 최소한 하나의 웨이퍼 이송/처리 격실 아래에 최소한 국부적으로 수평 분리벽이 설치되고, 상기 불활성 가스용 방출 오리피스가 상기 분리벽에 설치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  110. 제1항 내지 제109항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 회랑에 설정된 분리 수준을 유지하기 위하여, 부동 스위치가 상기 공기의 공급 및 방출을 조절하기 위해 설치되고, 상기 회랑에 상기 불활성 가스를 위한 상기 방출 오리피스가 상기 부리벽의 상부에 설치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  111. 제1항 내지 제110항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 웨이퍼 이송/처리/저장/진단 격실에서 처리 스테이션의 입구에 청결 모듈이 설치되고, 상기 모듈의 뒤에서 제2청결 모듈이 최소한 다음의 웨이퍼 처리 스테이션의 앞에 설치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  112. 제111항에 있어서, 상기 웨이퍼의 청결이 가스 및 액상의 공급 매질에 의하여 일어나는 모듈의 뒤에, 최소한 일시적으로 증가된 압력하에서 상기 웨이퍼의 탈수 소성이 행하여지는 고진공 스테이션이 위치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  113. 제1항 내지 제112항 중의 어느 하나에 있어서, 진공 하에 처리가 행하여지는 스테이션의 앞에, 가스 매질과 초임계 유체의 혼합물을 의하여 웨이퍼 청결이 행하여지는 웨이퍼 청결 모듈이 설치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  114. 제1항 내지 제113항 중의 어느 하나에 있어서, 연속하는 웨이퍼 이송/처리 격실의 수직 측벽 사이에, 분지 회랑 부분이 공통 회랑 속으로 연장되어 설치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  115. 제114항에 있어서, 상기 주요 상측 격실에서 중앙 회랑으로서 상기 공통 회랑의 양측에, 상기 웨이퍼 이송/처리 스테이션의 연속 결합체가 설치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  116. 제115항에 있어서, 상기 상측 격실에서 상기 웨이퍼 이송/저장/진단/스테이션이 외측에 설치되고, 상기 웨이퍼 이송/처리 스테이션의 수직 측벽 사이에서 상기 중앙 회상의 분지 부분이 상기 외측 스테이션과 떨어져 상기 수직 분리벽을 향하여 연장됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  117. 제116항에 있어서, 최소한 두 개의 덮개가 씌워진 주요 상측 격실이 서로 떨어져 설치되어 그 사이에 상기 작동실의 작동자 회랑을 형성하고, 상기 상측 격실 사이의 웨이퍼 이송이 카세트에서 이든 아니든 간에 공통 하측 격실은 통하여 일어나게 하는 수단을 포함함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  118. 제115항에 있어서, 웨이퍼 공급 및 방출 부분이 웨이퍼 처리 스테이션에서 상기 수평 웨이퍼 이송 대역으로부터 하향방향으로 연장되어 위치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  119. 제116항에 있어서, 상기 주로 상측 격실의 상기 커버의 측벽에서 웨이퍼 진단 스테이션이 그의 콘솔부분의 내부에 설치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  120. 제116항에 있어서, 상기 주요 상측 벽실에는 그 속에 설치되는 장치 및 웨이퍼 이송을 제어 및 진단하기 위한 TV 카메라가 설치됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 장치.
  121. a) 하측 체임버 블록 및 상측 체임버 블록의 결합체; b) 웨이퍼를 청결하기 위하여 최소한 하나의 중앙 리세스에서 상기 블록 사이에 위치되는 청결 체임버; c) 상기 블록 장치에서 이 체임버와 떨어져 측방향에 청결 매질을 위한 방출 통로; d) 상기 청결 체임버를 향하여 그리고 이로부터 웨이퍼 이송을 위하여 상기 체임버 블록을 서로로부터 이동시키고 웨이퍼 청결을 위하여 서로를 향하여 변위시키는 수단; e) 진동작용하에 체임버 벽이 왕복에 의하여 상기 청결 체임버에서 최소한 상기 웨이퍼의 청결중에 상기 청결 체임버의 높이의 최소한 일시적인 변화를 부여하는 진동기를 포함하는 최소한 하나의 웨이퍼 청결 모듈로 구성되며, 상기 웨이퍼의 청결중에 상기 방출 통로를 향하여 상기 청결 체임버로부터 상기 체임버 블록 사이에 최소한 일시적으로 설정된 매질 방출 갭과 함께 폐쇄 시스템이 최소한 가스 매질에 의하여 설정됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  122. 제121항에 있어서, 상기 방출 갭이 상기 체임버 블록의 협동하는 정지벽에 의하여 설정됨을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  123. 제122항에 있어서, 상기 매질 방출 갭이 상기 웨이퍼 청결 작용중에 방사방향으로 중단없이 연장되게함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  124. 제121항 내지 제123항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 체임버 블록이 상기 방출 통로로부터 측방향 외방으로 연장되며 방사방향으로 협동하는 연속된 벽 부분을 포함하며, 웨이퍼의 청결중에 벽 부분의 상기 연결은 환경으로부터 측방향으로 상기 방출 통로를 최소한 거의 완전히 폐쇄시키도록 함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  125. 제124항에 있어서, 상기 체임버 블록의 청결 위치에서 가스 매질에 의하여 폐쇄 시스템이 측방향 외향 방향으로 상기 방출 통로를 위하여 설정되게 함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  126. 제124항에 있어서, 상기 블록 사이의 상기 벽 부분에서 가스 록 격실이 방사방향으로 연장되어 위치되고, 상기 격실에 공급되는 가스 매질은 상기 방출 통로로 추진된 청결 매질이 상기 벽 부분 사이에서 측방향 외향방향으로 세어나오는 것을 방지하도록 함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  127. 제126항에 있어서, 상기 가스 록 격실의 상기 연장부가 상기 체임버 블록 장치 외부를 향하여 측방향 외향방향으로 연장되게 하므로 상기 가스 록을 유지하기 위해 상기 가스록 격실로의 매질의 공급이 상기 체임버 블록 장치의 외부의 환경으로부터 일어나게 함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  128. 제126항에 있어서, 상기 가스 록 격실은 여과된 가스 매질의 개별 공급과 연결된 수직방향으로 확대된 부분으로 구성시키므로서 상기 체임버 블록의 상기 정치벽 부분의 결합중에 상기 방출 통로를 향하여 상기 격실로부터 상기 가스 매질의 방출이 제한되도록 함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  129. 제128항에 있어서, 청결 매질의 방출중에 상기 격실의 압력이 상기 방출 통로의 매질의 압력보다 크게함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  130. 제121항 내지 129항에 있어서, 상기 체임버 블록의 상기 정지벽 블록의 상기 정지벽 부분의 결합된 위치에서 닦음의 매질 방출 갭, 즉 a) 상기 방출 통로를 향하여 가스 매질의 공급을 위한 상기 방출 통로 외부를 향한 방출 갭; b) 상기 청결 체임버 및 상기 방출 통로 사이에서 최소한 일시적으로 상기 청결체임버로부터 청결 매질의 방출을 위한 방사방향의 연속된 방출 갭; 및 c) 벽부분 사이에 국부적 접촉을 이루면서 상기 가스 록 격실의 외부를 향한 상기 벽 부분 사이의 미세 갭이 설정되게 함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  131. 제121항 내지 130항 중의 어느 하나에 있어서, a) 원통형 박 부분에 의하여 상기 청결 체임버를 지나 측방향으로 연장되는 연장 체임버 블록 부분이 체임버 블록과 함께 상기 블록의 외축 취부 부분과 연결되게 하고; b) 상기 방출 통로는 상기 막 부분으로부터 떨어져 약간 거리를 두고 축방향 외향방향에 위치되게 하고; c) 커버가 진동기 체임버의 생성과 함께 상기 외측 블록 부분에 대하여 압력 밀폐식으로 고정되게 하고; d) 상기 진동기 체임버에서 진동기 장치는 상기 중앙 체임버 블록 부분이 진동 왕복하도록 위치하게 하고; 상기 진동기 체임버 내에 위치되는 매질에 의하여 상기 청결 체임버에 대한 상기 폐쇄 시스템이 달성되도록 함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  132. 제131항에 있어서, 상기 막 부분은 다른 체임버 블록의 반대 폐쇄 벽부분에 해당하는 원통형 폐쇄 벽 부분을 포함하고, 상기 방출 갭은 최소한 상기 폐쇄 벽 부분을 향하여 상기 방출 통로로부터 내측으로 연장되게 하여, 상기 진동기 체임버와 상기 방출 갭에서 추력 매질의 얻어진 추력에 의하여 상기 막 폐쇄 벽 부분이 상기 청결 체임버로부터 청결 매질의 방출의 거의 폐쇄와 함께 상기 반대 폐쇄 벽에 일시적으로 압압되게 함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  133. 제132항에 있어서, 상기 막 부위 상기 폐쇄 벽 부분이 상기 방출 통로의 측부에서 상기 막 부분의 중앙을 지나 위치되게 함으로서, 최소한 일시적으로 웨이퍼의 청결주에 매질의 방출이 상기 청결 체임버로부터 일어나든 안일어나든 간에 상기 진동기 체임버와 상기 방출 통로의 압력 사이에 상당히 명확한 차이가 유지되도록 함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  134. 제132항에 있어서, 상기 청결 갭에 매질의 공급 의한 상기 진동기 체임버의 일정 압력에 의하여 압력 축적이 일어나고, 상기 막 부분의 상시 폐쇄 벽 부분이 일시적이며 최소한 국부적으로 다른 체임버 블록의 상기 반대 폐쇄 벽부분으로부터 인양되고, 일시적으로 상기 방출 통로를 향하여 상기 청결 체임버로부터 최소한 국부적으로 연속된 소형 방출 갭이 형성되게 함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  135. 제134항에 있어서, 상기 진동기 체임버에 정지벽이 위치되고, 상기 중앙 체임버 블록 부분은 대응하는 정지벽 부분을 포함하며 웨이퍼의 청결중 상기 정지벽이 의하여 상기 청결 체임버의 최대 용량의 제한 중에 상기 중앙 블록 부분의 왕복 진동이 회피되는 것이 방지되고, 이 목적을 위하여 정지벽 사이에 위치되는 추력 매질이 댐퍼로서 작용하도록 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  136. 제135항에 있어서, 상기 방출 통로에서 최소한 거의 일정한 압력으로 청결 매질을 방출하기 위하여 상기 청결 체임버의 압력은 일시적으로 감소되도록 함으로서, 사이에 감쇠 매질이 위치하는 상기 중앙 체임버 블록 부분의 상기 정지벽 부분이 과압하에 상기 반대 벽에 대하여 압압되도록 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  137. 제121항 내지 제136항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 막 부분은 폐쇄 부분, 상기 폐쇄 부분과 상기 진동 중앙 체임버 블록 부분 사이의 제1가요성 막 부분 및 상기 폐쇄 부분과 상기 외측 체임버 블록 부분 사이의 제2가요성 막 부분으로 구성시키고, 상기 진동기 체임버에 정지벽을 위치시키고, 상기 폐쇄 부분은 반대 정지벽으로 구성시키고, 폐쇄 위치로부터 상기 폐쇄 부분의 변위가 제한되도록 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  138. 제137항에 있어서, 상기 원통형 폐쇄 부분은 최소한 국부적으로 약간의 거리에 걸쳐 평탄하게 하고, 상기 폐쇄 부분의 개방위치에서 큰 유동저항을 갖는 방출 갭이 형성되도록 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  139. 제137항에 있어서, 상기 진동기 체임버의 상기 대응하는 정지벽이 대하여 상기 폐쇄 부분의 상기 정지벽의 정지위치에서 상기 제1막 부분의 아래를 향하여 상기 청결 체임버로부터 연장되는 방출 갭 부분의 높이는 크고, 상기 중앙 블록 부분의 진동 왕복은 최대로부터 적은 정도로 상기 방출 객 부분 내에서 매질에 의하여 감소되게 함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  140. 제137항에 있어서, 상기 제2가요성 막 부분은 수직방향으로 변위될 수 있으며 다른 체임버 블록 폐쇄 벽 부분에 해당하는 제2페쇄 벽 부분을 형성시키고, 상기 제1폐쇄 부분의 상기 개방 통로 위치에서 상기 청결 체임버에 일정한 압력이 축적될 때까지 상기 제2폐쇄 부분이 다른 체임버 블록의 상기 대응하는 부분에 대항하여 상기 진동기 체임버와 상기 방출 통로의 매질의 압력에 대하여 상기 청결 체임버의 일정한 압력 축적 이상으로 압압되고, 상기 제2폐쇄 부분이 상기 대응하는 폐쇄 부분으로부터 인양되어 매질의 방출이 달성되게 함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  141. 제121항 내지 제140항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 중앙 상측 체임버 블록 부분에 최소한 하나의 진동기를 고착시키고, 상기 진동기의 상측 부분은 댐퍼 벽으로 하고, 상기 진동기 체임버 내에 대응하는 댐퍼 벽을 위치시키고, 그 사이의 거리는 제한하여 그의 상당한 면적과 조합하여 상기 상측 진동기 부분의 진동이 되게 하여 상기 댐퍼 벽 사이의 갭의 높이가 상기 청결 체임버의 최대로 달성할 수 있는 용량에 대하여 상기 댐퍼가 압축성 정지 부재로서 작용할 수 있는 정도로 상기 진동기의 상기 상측 부분의 상향 변위가 감쇠되게 함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  142. 제121항 내지 제141항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 막 폐쇄 부분에서 상기 방출 갭의 매질 통로의 개방 및 폐쇄가 수로 상기 막 부분의 양측에 작용하는 성취된 매질의 압력차에 의하여 일어나도록 하고, 상기 막 부분의 상기 폐쇄 부분을 향하여 상기 청결 체임버로부터 외방으로 연장되는 좁은 방출 갭 부분 내에서 방출된 매질에 의한 그의 개방 상태 하에 그와 같은 높은 유동 저항이 생성되게 하여 상기 진동기 체임버의 압력과 결합된 상기 막 부분에서 상기 방출 갭에서의 압력 감소가 상기 폐쇄 부분에서 통로 갭의 축소를 이루게 하고, 상기 청결 체임버에 대한 매질의 공급에 따라, 상기 폐쇄 부분에서 극소형 통로 갭이 최소한 일시적으로 어느 정도 개방되게 함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  143. 제142항에 있어서, 웨이퍼의 청결중 상기 방출 갭의 압력이 상기 청결 체임버의 평균 압력과 거의 동일하며, 상기 웨이퍼 청결 또는 매질 방출을 위하여 상기 진동기 체임버내에서 매질 압력을 조절하는 동안 상기 방출 통로의 압력이 따라서 적합하게 되도록 함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  144. 제121항 내지 제143항 중의 어느 하나에 있어서, 피에조 변환기 장치에 상기 중앙 체임버 블록 부분이 고진동수에서 왕복되게 함을 특징으로 하는 개방된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  145. 제121항 내지 제144항 중의 어느 하나에 있어서, 유압 진동기에 의하여 상기 중앙 체임버 블록 부분이 저진동수에서 왕복되게 함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  146. 제145항에 있어서, 조절 가능한 양의 매질이 상기 진동기 체임버를 향하여 그리고 그로부터 공급 및 방출되게 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  147. 제121항 내지 제146항 중의 어느 하나에 있어서, 일련의 웨이퍼 청결 모듈 및 웨이퍼 처리 모듈을 격실 내에 배치시키되 불활성 가스 매질을 최소한 함께 위치시키고, 웨이퍼 이송 로버트에 의하여 접촉 웨이퍼 이송이 일어나도록 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  148. 제147항에 있어서, 커버에 의하여 상기 격실이 인접한 작동실로부터 분리되고, 상기 커버는 최소한 로버트의 수평 웨이퍼 이송 대역을 지나 하측 격실이 연장되어 공기를 포함하는 상기 상측 격실의 아래를 향하여 하향방향으로 연장되게 하고, 장치의 수선을 위하여 상기 상측 격실을 수선자가 출입할 수 있게 한것을 특징으로 하는 개량된 이송 및 처리 방법.
  149. 제121항 내지 제148항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 상측 체임버 블록에서 외향방향으로 원통형 막 부분에 의한 상기 청결 체임버의 왕복 가능한 상측 벽으로서 상기 중앙 블록 부분이 취부 부분과 연결되고, 상기 하측 체임버 블록에서 제2중앙 블록 부분이 상기 방출 통로를 지나 측방향 외향방향으로 양각의 거리를 두고 연장되어 위치되는 한편 측방향 외방향으로 원통형 막 부분에 의하여 방사방향의 연속되 취부 부분과 연결되어 상기 청결 체임버로 부터 매질이 방출되게 하고, 중앙 하측 블록 부분이 정지 장치를 향하여 상측 체임버 블록으로부터 0.1㎜이하 하향 변위되게 한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  150. 제121항 내지 149항 중 어느 하나에 있어서, 상기 모듈이 서로 고정되는 지지체 블록과 커버 블록의 결합체를 포함하며, 상기 체임버 블록의 하나는 상기 결합체의 일부이며, 사이에 설치되는 변위 장치에 의하여 다른 체임버 블록이 웨이퍼 이송을 위해 상기 체임버 블록 사이에 통로를 형성하고 웨이퍼의 청결을 위해 서로에 대하여 상기 체임버 블록의 상기 정지벽 부분을 압입하도록 상기 결합체에 대하여 변위 가능하게 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  151. 제150항에 있어서, 상기 하측 체임버 블록이 상기 지지체 블록의 일부가 되고, 상기 상측 체임버 블록이 수직방향으로 변위 가능하여 왕복가능한 중앙 부분을 포함하는 진동기 블록으로서 작용하도록 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  152. 제151항에 있어서, 추력 체임버가 매질의 방출에 의하여 상기 추력 체임버로부터 상기 지지 블록의 하측 부분에 형성되게 함으로서 상기 하측 체임버 블록의 중앙 부분이 하향 변위되어 매질 방출 갭을 약간 개방시키도록 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  153. 제151항에 있어서, 상기 변위 장치를 웨이퍼 이송 방향으로 보아 상기 상측 체임버의 전단부 및 후단부가 웨이퍼의 이송을 위하여 수직방향으로 일정한 거리에 걸쳐 변위되고 웨이퍼의 청결을 위하여 복귀될 수 있고, 청결하게 하고자 하는 웨이퍼의 상기 청결 체임버를 향한 이송은 로버트 아암에 의하여 일어나고, 상기 웨이퍼가 상기 상측 체임버 블록에서 상기 체임버 리세스에 대하여 중앙 위치를 향하고, 상기 상측 체임버 블록의 달성된 경사 위치에 의하여 수평 위치를 향한 상기 블록의 후속 하향 변위와 함께 상기 웨이퍼가 상기 리세스로 압압되고, 그 다음 상기 웨이퍼의 아래로부터 상기 로버트 아암의 복귀 이동후 상기 블록이 그의 웨이퍼 청결 위치를 향하여 하향 이동되도록 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  154. 제153항에 있어서, 웨이퍼 변부에 대하여 상기 체임버 리세스의 수직측벽의 하측 림의 전단작용에 의하여 중심을 벗어나 공급된 웨이퍼가 상기 리세스 내에서 그의 중심 위치를 향하여 추진되게 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  155. 제153항에 있어서, 웨이퍼의 청결후 상기 웨이퍼를 상기 상측 체임버 벽에 대하여 여전히 추진되게 하고, 상기 방출 로버트의 웨이퍼 지지 블레이드의 인수 위치와 연결된 상기 상측 블록의 개방된 이송 위치에서 상기 웨이퍼에 대한 추력이 종료되게 하고, 그 자신의 중량에 의하여 상기 웨이퍼가 상기 청결 모듈로부터 방출을 위하여 상기 지지 블레이드에 지지되게 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  156. 제121항 내지 155항 중의 어느 하나에 있어서, 최소한 일부의 웨이퍼 청결을 위하여 최소한 가스 매질을 사용함을 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  157. 제156항에 있어서, 최소한 일부의 웨이퍼 청결을 위하여 가스상 매질 및 액상 유체의 혼합물을 사용함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  158. 제156항에 있어서, 최소한 일부의 웨이퍼 청결을 위하여 가스상 매질과 증기상 유체의 혼합물을 사용함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  159. 제158항에 있어서, 최소한 일부의 웨이퍼 청결을 위하여 가스 및 액상의 청결 유체를 사용함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  160. 제157항에 있어서, 이산화탄소 같은 초임계 유체를 일시적인 액상 및／또는 기상으로 사용함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  161. 제156항에 있어서, 상기 상측 청결 갭에 있어서는 상기 웨이퍼의 처리 측부의 청결이 최소한 청결 유체에 의하여 일어나게 하고, 최소한 가스 매질에 의한 상기 하측 갭에 있어서는 상기 웨이퍼에 대한 최소한 가스상 쿠션이 유지되게 함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  162. 제156항에 있어서, 최소한 일시적으로 상측 및 하측 갭을 향하여 매질의 공급을 조절함으로서, 상기 상측 갭의 평균 높이가 상기 하측 갭의 평균 높이 보다 적게 되게 함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  163. 제156항에 있어서, 팽창 스트로크 중에 상기 웨이퍼가 그의 비교적 큰 질량으로 인하여 처지게 되어 액체 매질 내에 기포가 발생되게 하고 상기 웨이퍼 직상의 경계층으로부터 매질의 이동을 위한 작은 폭발 작용이 일어나게 하여, 압축 스트로크 중에 상기 기포의 내파작용에 의하여 분무 상태의 액화 매질이 상기 경계층과 웨이퍼 위상의 계곡에 강력한 영향을 미치게 함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  164. 제156항에 있어서, 최소한 일시적으로 웨이퍼의 청결중에 상기 청결 갭에서 중앙에 공급되는 새로운 매질에 의한 사용이 끝난 청결 매질의 점진적인 교체가 일어나게 함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  165. 제164항에 있어서, 상기 웨이퍼의 청결중 최소한 상측 청결 갭에서 사용이 끝난 청결 매질의 최소한 일시적인 좀 점진적 교체가 다음 형태의 중앙에 공급된 새로운 매질에 의하여 일어나게 함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  166. 제121항 내지 165항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 웨이퍼의 다음의 청결중의 하나, 즉 부압 및／또는 정압하에서 청결을 위하여 과합하에 청결의 점진적 이송에 의하든 아니하든 초고압, 과압, 투압 또는 진공하에서의 청결중의 하나가 결합에 의하든 아니든 간에 일어나게 함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  167. 제166항에 있어서, a) 웨이퍼 저장 및 진당과 결합되든 아니든 간에 상측 격실에 위치되는 웨이퍼 청결, 이송 및 처리를 위한 최소한 하나의 격실; b) 상기 격실과 떨어져 수평방향으로 배치되어 보수자를 위한 입구를 갖는 보수 회랑; c) 하측 격실로부터 상기 상측 격실을 분리하는 상기 보수 회랑 아래의 바닥; d) 상기 격실 및 상기 회랑 위의 상기 상측 격실의 일부로서의 공통 상부 부분; 및 e) 상기 격실, 상기 회랑 및 상기 상부 부분에 고도로 여과된 컬럼 불활성 가스로 유지하기 위한 수단을 포함시키므로서 상기 불활성 가스의 공급이 상기 상측 격실에 위치되는 장치 부분의 수평 웨이퍼 이송 대역의 아래에서 일어나게 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  168. 제167항에 있어서, 상기 불활성 가스의 공급이 상기 웨이퍼이송 대역의 상부에서 일어나게 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  169. 제121항 내지 168항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 회랑 바닥의 상부의 상기 상측 격실 내에 고도로 여과된 컬럼 공기가 상기 컬럼 불활성 가스의 아래에 유지되게 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  170. 제169항에 있어서, 상기 컬럼 공기가 최대의 상기 수평 웨이퍼 이송 대역을 향하여 상향 연장되게 함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  171. 제169항에 있어서, 수직 분리 벽을 상기 컬럼 공기와 불활성 가스 사이에서 분리 수준을 지나며 상기 회랑 바닥으로부터 최소한 상향 연장되는 상기 회랑 부분 및 상기 웨이퍼 이송／처리／저장／진단 격실 사이에 위치시키므로서 상기 회랑으로의 고도로 여과된 공기의 공급이 상기 분리 수준의 아래에서 일어나고, 상기 가스의 방출이 상기 바닥내에 있는 개구부를 통하여 일어나고, 상기 불활성 가스의 방출이 상기 분리 수준의 상부에서 일어나게 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  172. 제121항 내지 제171항 중 어느 하나에 있어서, 최소한 공동으로 상기 웨이퍼 이송／처리／저장／진단 격실에서 상기 장치 부분의 보수는 봉입물 내에 일시적으로 위치되는 보수자에 의하여 이루어지게 함을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  173. 제172항에 있어서, 상기 봉입물은 최소한 일시적으로 상기 상측 격실 내에 위치시키고, 그의 상측부분은 공기와 불활성 가스 사이의 분리 수준으로부터 떨어져 약간의 거리에 걸쳐 상향 연장시키고, 그 하측 단부는 접근을 위해 개방시키고, 상기 봉입물 내에 위치되는 사람이 보수중 최소한 산소를 함유하는 매질을 상기 봉입물에 공급하고, 상기 분리 수준의 아래에서 매질을 방출할 수 있게 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  174. 제173항에 있어서, 로울 장치에 의하여 상기 봉입물 내에 위치되는 사람이 상기 회랑 바닥에 걸쳐 상기 봉입물을 변위시키도록 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  175. 제173항에 있어서, 상기 호흡 매질의 공급 및 방출이 상기 회랑의 내측에서 커플리와 연결되는 관재료를 통하여 이루어지게 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  176. 제121항 내지 제175항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 수평 분리 바닥 맨홀을 상기 회랑으로부터 또는 이를 향하여 상기 하측 격실로부터 사람을 변위시킬 수 있게 위치시키고, 상기 하측 격실에서 상기 맨홀에 사람용 엘리베이터를 설치하고, 상기 엘리베이터에 의하여 사람이 상기 봉입물 내에서 그의 상부 위치를 향하여 이동되게 되며, 그의 상측 위치에서 상기 엘리베이터의 바닥이 회랑 바닥으로서 작용하게 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  177. 제121항 내지 제176항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 컬럼 불활성 가스의 상기 상측 격실에 상기 보수자에 의하여 반입되는 상기 장치 부분용 초청결 부품의 저장을 위한 최소한 하나의 랙을 설치하고, 상기 보수는 상기 부품에 의하여 최소한 함께 행하게 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  178. 제171항에 있어서, 최소한 하나의 웨이퍼 이송／처리 격실 아래에 최소한 국부적으로 수평 분리벽을 설치하고, 그 위치에서 상기 불활성 가스의 방출이 상기 분리벽의 방출 통로를 통하여 이루어지게 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  179. 제171항에 있어서, 상기 회랑에 상기 분리 수준의 설정된 높이를 유지하기 위하여 최소한 상기 공기의 공급 및 방출의 조절이 상기 컬럼 공기에서 부동하는 부구를 갖는 부동 스위치에 의하여 이루어지게 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  180. 제121항 내지 제179항 중의 어느 하나에 있어서, 모듈에서 상기 웨이퍼의 청결이 탈이온수로서 공급된 액체 매질에 의하여 이루어지고, 상기 웨이퍼의 가스 제거는 최소한 일시적으로 증가된 온도하에 고진공 상태에서 이루어지게 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  181. 제121항 내지 제180항 중의 어느 하나에 있어서, 진공하에 처리가 행하여지는 스테이션의 앞에, 웨이퍼 청결 모듈에서 가스 및／또는 이산화탄소 같은 초임계 유체에 의하여 상기 웨이퍼 청결이 행하여지게 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  182. 제121항 내지 제181항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 상측 격실에서 상기 웨이퍼 이송／저장／진단 스테이션을 외측에 설치하고, 상기 웨이퍼 이송／처리 스테이션의 수직 측벽 사이에서 상기 중앙 회랑의 분지 부분을 상기 외측 스테이션과 떨어져 상기 수직 분리벽을 향하여 연장되게 하고, 상기 스테이션의 보수는 상기 분지 부분으로부터 최소한 함께 이루어지게 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  183. 제182항에 있어서, 최소한 두개의 덮개가 씌워진 상측 격실을 서로 떨어져 설치하여 그 사이에 상기 작동실의 회랑을 형성하고, 상기 상측 격실사이의 웨이퍼 이송이 카세트에서 이든 아니든 간에 공통 하측 격실을 통하여 이루어지게 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  184. 제182항에 있어서, 웨이퍼 처리 스테이션이 상기 수평 웨이퍼 이송 대역으로부터 하향방향으로 연장되게 하므로서 수직 웨이퍼 이송이 카세트에서 이든 아니든 간에 상기 웨이퍼 이송 대역에서 웨이퍼 공급 및 방출 스테이션으로부터 또는 이를 향하여 이루어지게 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  185. 제182항에 있어서, 상기 상측 격실의 상기 커버의 측벽에서 웨이퍼 진단 스테이션을 그의 콘솔 부분의 내부에 설치하므로서, 웨이퍼 진단이 상기 작동실로부터 이루어지게 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
  186. 제182항에 있어서, 상기 상측 격실에는 TV카메라를 설치하여 상기 작동실에 설치되는 스크린에 의하여 상기 웨이퍼 이송과 함께 상기 상측 격실에 설치되는 장치를 제어 및 진단하되, 영상을 연속적이든 아니든 간에 조작자에 의하여 감시하도록 한 것을 특징으로 하는 개량된 웨이퍼 이송 및 처리 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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