KR920001747A - 바이폴라 트랜지스터의 디프콜렉터 제조방법 - Google Patents
바이폴라 트랜지스터의 디프콜렉터 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR920001747A KR920001747A KR1019900008546A KR900008546A KR920001747A KR 920001747 A KR920001747 A KR 920001747A KR 1019900008546 A KR1019900008546 A KR 1019900008546A KR 900008546 A KR900008546 A KR 900008546A KR 920001747 A KR920001747 A KR 920001747A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- collector
- bipolar transistor
- manufacturing
- def
- deflector
- Prior art date
Links
Landscapes
- Bipolar Transistors (AREA)
Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도(A)~(I)는 본 발명에 따른 바이폴라 트랜지스터의 디프콜렉터 제조공정도
Claims (2)
- 폴리실리콘 성장을 이용하여 소자의 콜렉터 저항을 감소시키는 것을 특징으로 하는 바이폴라 트랜지스터 디프콜렉터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 디프콜렉터와 에미터가 형성될 부분의 산화막을 에치한후 디프콜렉터 부분을 제외하고 폴토레지스터를 덮어 실리콘을 에피텍셜층 깊이만큼 에치한 다음 포토레지스터를 제거하고 도우프트 폴리실리콘을 디포지션한후 드라이 에치하고 불순물을 확산시켜 디프콜렉터와 에미터를 동시에 형성하는 것을 특징으로 하는 바이폴라 트랜지스터의 디프콜렉터 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019900008546A KR920001747A (ko) | 1990-06-11 | 1990-06-11 | 바이폴라 트랜지스터의 디프콜렉터 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019900008546A KR920001747A (ko) | 1990-06-11 | 1990-06-11 | 바이폴라 트랜지스터의 디프콜렉터 제조방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR920001747A true KR920001747A (ko) | 1992-01-30 |
Family
ID=67482402
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019900008546A KR920001747A (ko) | 1990-06-11 | 1990-06-11 | 바이폴라 트랜지스터의 디프콜렉터 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR920001747A (ko) |
-
1990
- 1990-06-11 KR KR1019900008546A patent/KR920001747A/ko not_active Application Discontinuation
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR960032765A (ko) | 패턴 형성된 베이스 링크가 있는 더블 폴리실리콘 bjt를 위한 적층 장벽-확산 소스 및 에치 스톱 | |
EP0401786A3 (en) | Method of manufacturing a lateral bipolar transistor | |
KR910007162A (ko) | 반도체 장치의 제조 방법 | |
KR920001747A (ko) | 바이폴라 트랜지스터의 디프콜렉터 제조방법 | |
KR880013256A (ko) | 헤테로접합형 바이폴라트랜지스터 및 그 제조방법 | |
KR970003939A (ko) | 수평 구조의 바이폴라 트랜지스터 제조 방법 | |
KR900019156A (ko) | 반도체장치의 제법 및 그 제법에 따른 반도체장치 | |
KR920015615A (ko) | 바이폴라 트랜지스터의 제조방법 | |
EP0710989A3 (en) | Field-effect transistor and method of producing same | |
KR890013792A (ko) | 반도체장치 및 그 제조방법 | |
KR950034668A (ko) | 반도체소자의 소자분리산화막 제조방법 | |
JPS5654063A (en) | Semiconductor device | |
KR900019255A (ko) | 질화막을 이용한 자기정렬 바이폴라 트랜지스터 제조방법 | |
KR880009445A (ko) | 반도체 장치의 제조방법 | |
KR920015606A (ko) | 바이폴라 트랜지스터의 베이스전극 형성방법 | |
KR900019139A (ko) | 고성능 횡방향 바이폴라 트랜지스터(bipolar transistor)의 제조방법 | |
KR970053102A (ko) | 모스전계효과 트랜지스터의 제조방법 | |
KR910002002A (ko) | 셀프 얼라인을 이용한 고집적 바이폴라 트랜지스터의 제조방법 | |
KR940002948A (ko) | 반도체 장치의 워드라인 형성 방법 | |
KR960019764A (ko) | 자기정렬 쌍극자 트랜지스터의 제조방법 | |
KR920017270A (ko) | 다결정 실리콘 사이드 월(side wall)을 이용한 Laterally Graded Emitter(LGE)구조의 바이폴라 트랜지스터 제조방법 | |
KR920015633A (ko) | 반도체장치의 제조방법 | |
KR920013775A (ko) | 트랜치 사용 트랜지스터 제조방법 | |
KR910017666A (ko) | 트랜지스터 제조방법 | |
KR920013743A (ko) | 열산화막 공정을 이용한 게이트 형성방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application |