KR900013600A - 노출장치 - Google Patents

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KR900013600A
KR900013600A KR1019900001934A KR900001934A KR900013600A KR 900013600 A KR900013600 A KR 900013600A KR 1019900001934 A KR1019900001934 A KR 1019900001934A KR 900001934 A KR900001934 A KR 900001934A KR 900013600 A KR900013600 A KR 900013600A
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도오교오 에레구토론 가부시끼가이샤
다카시마 히로시
도오교오 에레구토론큐우슈우 가부시끼가이샤
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    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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Abstract

내용 없음

Description

노출장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는, 본 발명에 관한 노출장치의 블록도,
제2도는, 제1도의 실시예의 노출장치의 주요부를 나타낸 사시도,
제3도는, 노출장치의 웨이퍼 얹어 놓는대를 절결하여 나타낸 종단면도.

Claims (10)

  1. 반도체 장치의 제조공정에 사용되는 노출장치로서 반도체 장치 패턴 형성용의 막이 도포된 피처리판이 얹어 놓이는 스테이지 수단(12)과, 상기 스테이지 수단(12)을 회전 시키는 회전수단(11)과, 상기 스테이지 수단(12)의 얹어놓는면에 대면하여 형성된 광조사수단(21)과, 상기 광조사수단(21)을 상기 얹어놓는면의 중심을 통하여 직선에 따라서 왕복운동 시키는 이동수단(22), (23), (42), (43)과, 상기 피처리판의 소망의 노출범위를 입력하는 노출범위 입력수단(36)과 입력된 노출범위를 기억하는 노출범위 기억수단(35)과, 상기 피처리판의 기준위치를 검출하는 기준위치 검출 수단(18)과, 검출된 기준위치와 상기 광조사 수단(21)과의 상대적 위치 관계를 검출하는 상대적 위치 관계 검출수단과, 상기 상대적 위치 및 상기 노출범위에 대응하여 상기 이동수단 ((22), (23), (42), (43)을 제어하는 제어 수단과, 상기 상대적 위치 및 상기 노출범위에 대응하여 상기 광조사 수단(21)으로부터 상기 피처리판에 조사된 광량을 제어하는 광량제어수단을 가지는 노출장치.
  2. 제1항에 있어서, 노출범위 입력수단(36)은, 면센서를 가지는 노출장치.
  3. 제1항에 있어서, 기준위치 검출수단(18)은, CCD이미지 센서(17)를 가지는 노출장치.
  4. 제1항에 있어서, 기준위치 검출수단(18)은, 베클라이드(15)를 가지는 노출장치.
  5. 제1항에 있어서, 광량 제어수단은 노출범위를 선택적으로 노출제어 하는 노출장치.
  6. 제1항에 있어서, 광조사 수단(21)은, 광파이버(20)를 가지는 노출장치.
  7. 제1항에 있어서, 광조사 수단(21)은, 2개조의 렌즈(105), (106)를 가지는 노출장치.
  8. 제1항에 있어서, 광조사 수단(21)은, 조리개(104)를 가지는 노출장치.
  9. 제1항에 있어서, 회전수단(21)은 스텝핑 모우터를 가지고, 광조사 수단(11)과 회전수단(11)이 동기 하도록되어 있는 노출장치.
  10. 제1항에 있어서, 광조사 수단(21)은 고정되어 있는 노출장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019900001934A 1989-02-16 1990-02-16 노광장치 KR0148371B1 (ko)

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