KR970059840A - 주사형 투사노광장치 및 이를 사용한 소자제조방법 - Google Patents

주사형 투사노광장치 및 이를 사용한 소자제조방법 Download PDF

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Abstract

주사형노광장치는, 제1대상물이 놓이는 제1가동스테이지와, 제2대상물이 놓이는 제2가동스테이지와, 제1대상물이 패턴을 제2대상물위에 투사하는 투사광학시스템에 의해서 제2대상물에 투사하는 동안, 제1, 제2가동스테이지를에 투사광학시스템에 대해서 상대적으로 또한 서로 적절한 시간관계로 주사이동하는 주사기구를 포함하고, 미리 측정된 노광 조건의 변화에 대응하고 또한 제1, 제2가동스테이지 중 적어도 하나를 이동함으로써 생성되는 데이터를 저장하고, 또한 제1, 제2가동스테이지 중 적어도 어느 하나의 구동에 대해서, 저장된 데이터에 의거하여 결정된 보정값을 반영하면서 주사조광을 행한다.

Description

주사형 투사노광장치 및 이를 사용한 소자제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 제1실시에 의한 주사형노광장치의 개략도.

Claims (18)

  1. 제1대 상물이 놓이는 제1가동스테이지와; 제2대상물이 놓이는 제2가동스테이지와; 제1대상물의 패턴을 제2대상물에 투사하는 투사광학시스템과; 제1대상물의 패턴이 상기 주사광학시스템에 의해 제2대상물에 투사하는 동안, 상기 제1, 제2가동스테이지를 상기 투사광학시스템에 대하여 상대적으로 또한 서로 적절한 시간관계로 주사이동하는 주사기구와; 미리 측정된 노광조건의 변화에 대응하고 또한 상기 제1, 제2가동스테이지 중 적어도 어느 하나를 이동함으로써 생성되는 데이터를 저장하는 저장수단과; 상기 제1, 제2가동스테이지 중 적어도 어느 하나의 구동에 대하여, 저장된 데이터에 의거하여 결정되는 보정값을 반영하면서 실제의 노광 처리시에 상기 제1, 제2이동 스테이지의 구동을 제어하는 제어수단을 구비한 것을 특징으로 하는 주사형 노광장치.
  2. 제1항에 있어서, 보정값은 상기 제1, 제2가동스테이지 중 적어도 어느 하나의 복수의 가속도나 속도에 대해서 결정되고, 보정값이 이들의 방향과 가속도나 속도에 따라서 가변적으로 설정되는 것을 특징으로 하는 주사형 노광장치.
  3. 제1항에 있어서, 보정값은 제2대상물에 대한 제1대상물의 패턴의 주사형 노광장치 편차에 대해서 결정되는 것을 특징으로 하는 주사형 노광장치.
  4. 제1항에 있어서, 보정값은 제2대상물에 대한 제1대상물의 패턴의 투사화상의 초점오차에 대하여 결정되는 것을 특징으로 하는 주사형 노광장치.
  5. 제3항에 있어서, 주사노광은, 상기 제1, 제2가동 스테이지 중 적어도 어느 하나의 속도에 따라서 노광량을 제어하면서, 행하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광장치.
  6. 제1대상물의 패턴이 투사광학시스템을 통하여 제2대상물에 투사하면서, 제1대상물이 놓이는 제1가동스테이지와 제2대상물이 놓이는 제2주사형 노광장치 이지를 투사광학 시스템에 대하여 상대적으로 또한 서로 알맞는 시간관계로 주사이동하는 주사노광방법에 있어서, 미리 측정된 노광 조건의 변경에 대응하고 또한 제1, 제2가동스테이지 중 적어도 어느 하나를 이동함으로써 생성되는 데이터를 저장하는 단계와, 제1, 제2이동스테이지 중 적어도 어느 하나의 구동에 대해서, 저장된 데이터에 의거하여 결정되는 보정값을 반영하면서 주사노광을 행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광장치.
  7. 제1대 상물의 패턴이 투사광학시스템을 통하여 웨이퍼에 투사하면서, 제1대 상물이 놓이는 제1가동스테이지와 제2대상물이 놓이는 제2가동스테이지를 투사광학시스템에 대하여 상대적으로 또한 서로 적절한 시각관계로 주사 이동하는 소자제조방법에 있어서, 미리 측정된 노광 조건의 변경에 대응하고 또한 제1, 제2가동스테이지 중 적어도 어느 하나를 이동함으로써 생성되는 데이터를 저장하는 단계와; 제1, 제2가동스테이지 중 적어도 어느 하나를 이동함으로써 생성되는 데이터를 저장하는 단계와; 제1, 제2가동스테이지 중 적어도 어느 하나의 구동에 대해서 저장된 데이터에 의거하여 동스테이지 보정값을 반영하면서 주사노광을 행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 소자제조방법.
  8. 제7항에 있어서, 보정값은 제1, 제2가동스테이지의 복수의 가속도나 속도에 대해서 결정되고, 또한 보정값은 이들 방향과 가속도나 속도에 따라서 가변적으로 설정되는 것을 특징으로 하는 소자제조방법.
  9. 제7항에 있어서, 보정값은 제2대상물에 대한 제1대상물의 패턴의 투사 화상의 초상오차에 대해서 결정되는 것을 특징으로 하는 소자제조방법.
  10. 제7항에 있어서, 보정값은 제2대상물에 대한 제1대상물의 패턴의 투사 화상의 초상오차에 대해서 결정되는 것을 특징으로 하는 소자제조방법.
  11. 게9항에 있어서, 주사노광은, 제1, 제2가동 스테이지 중 적어도 어느 하나의 속도에 따라서 노광량을 제어하면서, 행하는 것을 특징으로 하는 소자제조방법.
  12. 제1대상물이 놓이는 제1가동 스테이지와 제2대상물이 놓이는 제2가동 스테이지와; 투사광학 시스템과; 제1대상물의 패턴이 상기 투사광학시스템에 의해서 제2대상물에 투사되도록 상기 제1, 제2가동 스테이지를 서로 적절한 시간관계로 또한 상기 투사광학시스템의 투사배율에 대응하는 속도비율로 주사이동하고, 또한 상기 광학시스템과 상호작용하는 주사수단과; 상기 투사광학시스템에 의해 형성된 제1대상물의 화상평면의 위치를 측정하는 검출수단과; 상기 제1가동 스테이지를 주사이동하면서 상기 검출수단에 의해서 측정된 화상평면위치를, 상기 제1가동스테이지의 상이한 위치에서의 화상평면위치에 관한 보정값으로써 저장하는 저장수단과; 화상평면위치에 대해서 제2대상물을 설정하기 위하여, 상기 저장수단에 저장된 화상평면위치에 의거하여 초점의 방향으로 제2상물을 이동하는 구동수단을 구비한 것을 특징으로 하는 투사형 노광장치.
  13. 제12항에 있어서, 상기 제1가동스테이지의 주사이동시에 화상평면위치에 측정하기 전에, 상기 검출수단은, 상기 제1가동스테이지의 상이한 주사위치에 대해서 화상평면위치에 관련된 정보를 산출하는 화상평면위치정보에 의거하여, 상기 제1가동스테이지가 유지고정되는 상기 투사광학시스템에 의해서 형성된 제1대상물의 화상평면위치정보를 검출하는 것을 특징으로 하는 투사형조광장치.
  14. 제12항에 있어서,상기 검출수단은 조사광을 제1대상물에 투사하는 조사광원과, 조사광을 일부를 통과하고 또한 제1대상물의 표면에 형성된 제1슬리트와, 조사광원중에서, 상기 제1슬리트와 상기 투사광학시스템을 통과하는 광을 검출하는 수광수단을 포함하고, 또한 상기 검출수단은 상기 수광수단에 의해서 생성된 신호에 의거하여, 상기 투사광학시스템에 의해서 형성된 상기 제1가동 스테이지의 상이한 주사위치에 대해서 상기 제1대상물의 화상평면위치에 관한 정보를 검출하는 것을 특징으로 하는 투사형조광장치
  15. 제12항에 있어서, 상기 검출수단은 상기 제2가동스테이지 위에 형성된 제2슬리트마크를 조사하는 조사광원과 상기 제2슬리트마크로부터 상기 투사광학시스템을 통하여 나오는 광을 검출하는 수광수단을 포함하고, 또한 수광수단을 검출수단은, 상기 수광수단에 의하여 생성된 신호에 의거하여 상기 투사광학시스템에 의해 형성된 상기 제1가동스테이지의 상이한 주사위치에 대해서 제1대상물의 화상평면위치에 관련된 정보를 검출하는 것을 특징으로 하는 투사형노광장치.
  16. 제14항에 있어서, 상기 수광수단은 상기 제1슬리트와 상기 투사광학시스템을 통과한 광을 검출한 다음에 상기 제2가동스테이지 위에 형성되고 또한 표면단차구조를 가지는 반사표면에 의해서 반사되고, 또한 다음에 투사광학시스템과 상기 제1슬리트를 다시 통과하는 것을 특징으로 하는 투사형조광장치.
  17. 제12항에 있어서, 제1대상물은 화상평면의 위치측정을 위한 제1패턴과 상기 제2가동스테이지의 표면의 관측을 위한 관측윈도우로 형성되고, 또한 상기 제2가동스테이지는 화상평면위치측정을 위한 제2패턴으로 형성되고, 또한 상기 검출수단은, 상기 측정시스템에 의해서 측정된 상기 제1, 제2패턴에 의거하여, 상기 투사광학시스템에 의해서 형성된 상기 제1가동 스테이지의 상이한 주사위치에 대해서 제1대상물의 화상평면위치에 관한 정보를 검출하도록, 상기 제1, 제2패턴의 동시 측정을 위한 관측시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 투사형노광장치.
  18. 제12항 내지 제17항 중 어느 한 항에 기재된 바와 같은 주사형투사노광장치를 사용하여 레티클과 웨이퍼를 정렬한 다음에, 페티클의 패턴을 웨이퍼에 투사하여 프린트한 다음에, 노광된 웨이퍼를 현상하는 것을 특징으로 하는 소자제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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