ATE87750T1 - Opto-lithographische vorrichtung mit einem verstellbaren linsensystem und kontrollverfahren fuer die abbildungseigenschaften eines linsensystems in einer solchen vorrichtung. - Google Patents

Opto-lithographische vorrichtung mit einem verstellbaren linsensystem und kontrollverfahren fuer die abbildungseigenschaften eines linsensystems in einer solchen vorrichtung.

Info

Publication number
ATE87750T1
ATE87750T1 AT87201100T AT87201100T ATE87750T1 AT E87750 T1 ATE87750 T1 AT E87750T1 AT 87201100 T AT87201100 T AT 87201100T AT 87201100 T AT87201100 T AT 87201100T AT E87750 T1 ATE87750 T1 AT E87750T1
Authority
AT
Austria
Prior art keywords
lens system
opto
control method
image properties
enlargement
Prior art date
Application number
AT87201100T
Other languages
English (en)
Inventor
Adrianus Bouwer
De Looy Guido Van
Original Assignee
Philips Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Nv filed Critical Philips Nv
Application granted granted Critical
Publication of ATE87750T1 publication Critical patent/ATE87750T1/de

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70241—Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Focusing (AREA)
  • Automatic Focus Adjustment (AREA)
  • Lens Barrels (AREA)
AT87201100T 1986-06-16 1987-06-11 Opto-lithographische vorrichtung mit einem verstellbaren linsensystem und kontrollverfahren fuer die abbildungseigenschaften eines linsensystems in einer solchen vorrichtung. ATE87750T1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8601547A NL8601547A (nl) 1986-06-16 1986-06-16 Optisch litografische inrichting met verplaatsbaar lenzenstelsel en werkwijze voor het regelen van de afbeeldingseigenschappen van een lenzenstelsel in een dergelijke inrichting.
EP87201100A EP0250031B1 (de) 1986-06-16 1987-06-11 Opto-lithographische Vorrichtung mit einem verstellbaren Linsensystem und Kontrollverfahren für die Abbildungseigenschaften eines Linsensystems in einer solchen Vorrichtung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ATE87750T1 true ATE87750T1 (de) 1993-04-15

Family

ID=19848171

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
AT87201100T ATE87750T1 (de) 1986-06-16 1987-06-11 Opto-lithographische vorrichtung mit einem verstellbaren linsensystem und kontrollverfahren fuer die abbildungseigenschaften eines linsensystems in einer solchen vorrichtung.

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4737823A (de)
EP (1) EP0250031B1 (de)
JP (1) JP2598408B2 (de)
AT (1) ATE87750T1 (de)
DE (1) DE3785090T2 (de)
NL (1) NL8601547A (de)

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0782981B2 (ja) * 1986-02-07 1995-09-06 株式会社ニコン 投影露光方法及び装置
EP1106332B1 (de) * 1988-04-18 2005-11-02 3D Systems, Inc. Profilierung eines Strahlungsbündels für Stereolithographie
JPH0812843B2 (ja) * 1989-03-15 1996-02-07 日本精工株式会社 光学結像装置及び方法
US5311362A (en) * 1989-04-20 1994-05-10 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
DE69109366T2 (de) * 1990-05-31 1995-10-19 Canon Kk Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung mit Gatestruktur.
NL9001611A (nl) * 1990-07-16 1992-02-17 Asm Lithography Bv Apparaat voor het afbeelden van een maskerpatroon op een substraat.
NL9001908A (nl) * 1990-08-30 1992-03-16 Philips Nv Elektromagnetische ondersteuning met positie-onafhankelijke eigenschappen.
US5361122A (en) * 1990-09-06 1994-11-01 Canon Kabushiki Kaisha Autofocusing device and projection exposure apparatus with the same
NL9100202A (nl) * 1991-02-05 1992-09-01 Asm Lithography Bv Lithografische inrichting met een hangende objecttafel.
NL9100215A (nl) * 1991-02-07 1992-09-01 Asm Lithography Bv Inrichting voor het repeterend afbeelden van een maskerpatroon op een substraat.
NL9100407A (nl) * 1991-03-07 1992-10-01 Philips Nv Optisch lithografische inrichting met een krachtgecompenseerd machinegestel.
NL9100410A (nl) 1991-03-07 1992-10-01 Asm Lithography Bv Afbeeldingsapparaat voorzien van een focusfout- en/of scheefstandsdetectie-inrichting.
NL9100421A (nl) * 1991-03-08 1992-10-01 Asm Lithography Bv Ondersteuningsinrichting met een kantelbare objecttafel alsmede optisch lithografische inrichting voorzien van een dergelijke ondersteuningsinrichting.
US6989647B1 (en) * 1994-04-01 2006-01-24 Nikon Corporation Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device
JP3209641B2 (ja) * 1994-06-02 2001-09-17 三菱電機株式会社 光加工装置及び方法
EP0737330B1 (de) * 1994-06-02 1999-03-10 Koninklijke Philips Electronics N.V. Verfahren zur wiederholten abbildung eines maskenmusters auf einem substrat und vorrichtung zur durchführung des verfahrens
US6721034B1 (en) 1994-06-16 2004-04-13 Nikon Corporation Stage unit, drive table, and scanning exposure apparatus using the same
US5530516A (en) * 1994-10-04 1996-06-25 Tamarack Scientific Co., Inc. Large-area projection exposure system
KR100399813B1 (ko) 1994-12-14 2004-06-09 가부시키가이샤 니콘 노광장치
JP3709896B2 (ja) * 1995-06-15 2005-10-26 株式会社ニコン ステージ装置
TW406292B (en) * 1997-06-03 2000-09-21 Koninkl Philips Electronics Nv Motion damper with electrical amplifier, and lithographic device with such a motion damper
US6417922B1 (en) 1997-12-29 2002-07-09 Asml Netherlands B.V. Alignment device and lithographic apparatus comprising such a device
US6160622A (en) * 1997-12-29 2000-12-12 Asm Lithography, B.V. Alignment device and lithographic apparatus comprising such a device
US6248486B1 (en) * 1998-11-23 2001-06-19 U.S. Philips Corporation Method of detecting aberrations of an optical imaging system
US6368763B2 (en) 1998-11-23 2002-04-09 U.S. Philips Corporation Method of detecting aberrations of an optical imaging system
US6544694B2 (en) 2000-03-03 2003-04-08 Koninklijke Philips Electronics N.V. Method of manufacturing a device by means of a mask phase-shifting mask for use in said method
JP4666747B2 (ja) * 2000-11-06 2011-04-06 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
TW526573B (en) * 2000-12-27 2003-04-01 Koninkl Philips Electronics Nv Method of measuring overlay
TW556296B (en) * 2000-12-27 2003-10-01 Koninkl Philips Electronics Nv Method of measuring alignment of a substrate with respect to a reference alignment mark
JP4504622B2 (ja) * 2001-05-18 2010-07-14 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ デバイスを製造するリソグラフィック方法
DE102016204535A1 (de) * 2016-03-18 2017-09-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Messmikroskop zur Vermessung von Masken für lithographische Verfahren sowie Messverfahren und Kalibrierverfahren hierfür
EP3586189B1 (de) * 2017-02-23 2024-01-10 Nikon Corporation Messung einer änderung bei einer geometrischen eigenschaft und / oder position eines werkstücks
EP3451060A1 (de) 2017-08-28 2019-03-06 ASML Netherlands B.V. Substrat, metrologievorrichtung und zugehörige verfahren für einen lithographischen prozess

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3563648A (en) * 1967-10-18 1971-02-16 Texas Instruments Inc Step and repeat camera with computer controlled film table
US3735686A (en) * 1970-12-18 1973-05-29 Sidney R Littlejohn & Co Ltd Camera systems
FR2371716A1 (fr) * 1976-11-19 1978-06-16 Thomson Csf Appareil photorepeteur de masques
FR2388300A1 (fr) * 1977-04-20 1978-11-17 Thomson Csf Dispositif optique de projection de motifs comportant un asservissement de focalisation a grandissement constant
JPS59150424A (ja) * 1983-02-14 1984-08-28 Toshiba Corp 半導体装置の製造装置および方法
JPS6119129A (ja) * 1984-07-05 1986-01-28 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 投影光学装置

Also Published As

Publication number Publication date
US4737823A (en) 1988-04-12
JP2598408B2 (ja) 1997-04-09
NL8601547A (nl) 1988-01-18
EP0250031B1 (de) 1993-03-31
JPS6324211A (ja) 1988-02-01
DE3785090D1 (de) 1993-05-06
EP0250031A1 (de) 1987-12-23
DE3785090T2 (de) 1993-10-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3785090D1 (de) Opto-lithographische vorrichtung mit einem verstellbaren linsensystem und kontrollverfahren fuer die abbildungseigenschaften eines linsensystems in einer solchen vorrichtung.
WO1998044718A3 (en) High-precision-resolution image acquisision apparatus and method
DE3686895D1 (de) Vorrichtung fuer feinverstellung.
EP0470263A4 (en) Method and apparatus for measuring the angle of work
KR900013600A (ko) 노출장치
ATE36114T1 (de) Vorrichtung zum stuetzen und positionieren des menschlichen koerpers und verfahren zum deren einstellen.
EP0488033A3 (en) Laser process apparatus
DE3770347D1 (de) Vorrichtung zur stabilisierung eines schraegstellbaren fahrzeugs.
DE68902786D1 (de) Einrichtung zur selbsttaetigen einstellung von auf werkstueckpaletten angeordneten tragkoerpern.
ATE187357T1 (de) Haltevorrichtung
ATE241556T1 (de) Verfahren zum positionieren von plattenförmigen gegenständen in der zuführstation einer verarbeitungsmaschine und vorrichtung zur durchführung des verfahrens
WO2005064400A3 (en) Chuck system, lithographic apparatus using the same and device manufacturing method
ES2139593T3 (es) Sistema de alineacion.
EE03021B1 (et) Seade formeeritava klaasplaadi kinnitamiseks ja hoidmiseks selle töötlemise ajal
DE68913662D1 (de) Mammographische verfahren und vorrichtungen.
EP0990931A3 (de) Anordnung zur Justage optischer Komponenten
DE3866678D1 (de) Loetvorrichtung.
DE3750613D1 (de) Vorrichtung zum Verschweissen eines Ventils mit einer Folie.
DE69024511D1 (de) Gerät zum Verstellen einer Objektivlinse
ATE110596T1 (de) Sammelventilationsverfahren und vorrichtung eines arbeitsplatzes.
ES8602490A1 (es) Un dispositivo para impresion en reticula
DE69314496D1 (de) Vorrichtung für die installation eines heizkörpers
ES2071954T3 (es) Dispositivo de embuticion de materiales en laminas, en particular de porciones de chapa.
EP0940723A3 (de) Probentisch für Musterbelichtungsapparat
WO1991001507A3 (en) Mount for an optical device

Legal Events

Date Code Title Description
RER Ceased as to paragraph 5 lit. 3 law introducing patent treaties