JPS6324211A - オプト−リソグラフィック装置およびこの装置のレンズ系の結像特性を制御する方法 - Google Patents

オプト−リソグラフィック装置およびこの装置のレンズ系の結像特性を制御する方法

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JPS6324211A
JPS6324211A JP62148117A JP14811787A JPS6324211A JP S6324211 A JPS6324211 A JP S6324211A JP 62148117 A JP62148117 A JP 62148117A JP 14811787 A JP14811787 A JP 14811787A JP S6324211 A JPS6324211 A JP S6324211A
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70241Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements

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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Focusing (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、マスク支持部とサブストレートテープルとの
間に配置し、サブストレートの側でテレセントリックな
レンズ系を具え、レンズ系とサブストレートテーブルと
の間の距離を、レンズ系に連結し、かつ弾性変形可能な
連係部材を介して固定のフレームに懸垂した円筒形のホ
ルダに掛合して連結動作するアクチュエータにより調整
自在にし、前記連結部材の変形の程度をアクチュエータ
によりホルダに加わる力で測定するオプ) −IJソゲ
ラフイック装置に関するものである。
更に、本発明はマスクとレンズ系との間の距離を所要値
に調整して所要の拡大倍率を得るようにするオプト−リ
ソグラフイック装置の光学レンズ系の結像特性を制御す
る方法に関するものである。
上述の種類の既知のオプト−リソグラフイック(opt
o−1ithographic)装置(フィリップス 
テクニカル レビュー 411983/84年、第9号
第268−278頁参照)においては、レンズ系は、固
定のコリメータレンズとレンズ系の光軸に沿ってコリメ
ータレンズに対して移動自在の対物レンズとにより構成
している。対物レンズとサブストレートテーブルとの間
の距離は、アクチュエータにより調整可能であり、この
アクチュエータにはモータにより駆動される偏心子を設
け、この偏心子とレンズ系のための円筒形のホルダに掛
合させる。このホルダを固定のスリーブにより包囲し、
このスリーブに電動モータを取付ける。ホルダには周方
向に多数の切欠を設け、この結果ホルダに一体の弾性変
形可能な連結部材が形成される。このような連結部材は
偏心子が壁に掛合する領域の両側に配置する。このこと
は、偏心子の回転の際にこれと同時に連結部材の弾性変
形を生じて固定のコリメータレンズと対物レンズとの間
に相対移動を生じることを意味する。コリメータレンズ
と対物レンズとの間の距離変動により、レンズ系の焦点
面が移動し、像距離を所要値に調整する。レンズ系は、
サブストレートテーブルに対向する側でテレセントリッ
クであるため、マスクとレンズ系との間の距離が一定で
あれば拡大倍率を変化させることなく合焦操作をするこ
とができる。しかし、既知のオプト−リソグラフイック
装置はマスク支持部に対向する側でもテレセントリック
になっている。
このようにしておくことの利点は、拡大倍率がマスクと
レンズ系との間の距離(物体距離)に無関係になり、例
えばマスクにおける厚さ変動および不規則性に対する拡
大補正をする必要がなくなることである。この場合、拡
大率はレンズ系の素子の取付時に調整された距離により
決定される。掛合面の研磨により決定されるこの距離は
操作中に調整することはできない。「ニス ピー アイ
イー プロシーデインダス(SPIC,Proceed
ings) J 。
1985年第538巻、第11号第86−90頁のエフ
・スポロンーフィドラー(F、 5poron−Fie
dler) およびジェイ ウィリアムズ(J、 W 
i l I iams)著の記事[オプティカル マイ
クロリングラフィ(OpticalMicrol it
hography) I’V Jには、大気圧変動が拡
大率に大きな誤差をもたらすことが記載されている。
このため、特にマスクとレンズ系との間の距離を調整自
在にすることが提案されている。しかし、この記事には
、圧力変動を補正する実際的な構造については記載され
ていない。しかし、マスク支持部が傾動および/または
回転しないように注意すべきであると指摘している。更
に、焦点ずらしとレンズ系に対する光源の移動の組合せ
により拡大率を補正できるようにする方法および構造に
ついては記載されている。しかし、この方法は実施が極
めて困難であり、補正の程度は焦点深度における許容変
化量により決定される。更に、大気圧変動があると合焦
補正の必要もでてくることがわかっている。既知の装置
では拡大率と合焦の双方の総括的な補正を行う解決はな
されていない。既して、外部の影響、例えば温度および
圧力による変動並びに製造および取付公差による変動に
対して合焦および/または拡大率の補正をすることがで
きる。変動は装置自体並びにマスクおよびサブストレー
トにも関連する。例えば、マスクおよびサブストレート
の支持体に関連する荷重による変形も補正の対称となり
うる。更に、同一のサブストレートの種々の処理工程に
幾つかのオプ) −IJソゲラフイック装置を使用した
り、障害が起きた場合または保守を行う場合に、他に何
も処理を施すことなく他のオプト−リソグラフイック装
置に切換えたりすることができるのが望ましい。この場
合、種々の装置の結像特性は互いに正確に調和させてお
かねばならない。更に、サブストレートの頂面よりも下
に位置するサブストレート内の平面に合焦すべき場合も
ある。
従って、本発明の目的は、拡大率および合焦の双方に関
して付随的および/または連続的な調整または補正を、
傾動しににくまたレンズ系の光軸に直交する平面におけ
るマスクとレンズ系との相対移動を減少する構造によっ
て可能にするオプト−リソグラフイック装置を得るにあ
る。
この目的を達成するため、本発明オプト−リソグラフイ
ック装置は前記円筒形の第1ホルダに対して相対移動自
在またこの第1ホルダと一緒に移動自在の第1ホルダに
同軸状であり円筒形の第2ホルダと、前記双方のホルダ
のうちの一方に掛合して連係動作する固定の第1アクチ
ュエータと、前記双方のホルダのうちの他方に取付けて
連係動作する第2アクチュエータとを設け、一方のホル
ダを他方のホルダに第1弾性連結部材により取付け、一
方のホルダを前記フレームに第2弾性連結部材により取
付け、一方のホルダに取付けたレンズ系とサブストレー
トテーブルとの間の距離を、他方のホルダに連結したマ
スク支持部とレンズ系との間の距離を一定にした状態で
、前記固定の第1アクチュエータの作動に基づく第2弾
性連結部材の弾性変形により調整可能にし、またレンズ
系とマスク支持部との間の距離を、サブストレートテー
ブルとレンズ系との間の距離を一定にした状態で、前記
第2アクチュエータの作動に基づく第1弾性連結部材の
弾性変形により調整自在としたことを特徴とする。サブ
ストレートテーブルとレンズ系との間の距離およびマス
ク支持部とレンズ系との間の距離を簡単であり周期的ま
たは連続的な方法で調整することができるとともに、前
者の距離の変動は同時に後者の距離の変動をもたらすこ
とがないという事実から、本発明によるオプトIJソゲ
ラフイック装置は結像誤差を招く作用、例えば大気圧変
動、製造公差、取付公差、温度変動を補償する点で高い
融通性が得られる。
傾動しにくく、動的に安定な本発明によるオプト−リソ
グラフイック装置の特別な実施例においては、少なくと
も部分的に第2ホルダにより包囲され、また第3弾性連
結部材によりフレームに取付けた第1ホルダにレンズ系
を連結するとともに、第2ホルダを第1ホルダに第4弾
性連結部材により取付ける。
更に、弾性変形可能な連結部材を比較的簡単かつ安価に
製造できるオプト−リソグラフイック装置の実施例にお
いては、弾性連結部材は、それぞれ弾性変形可能な金属
製のリングにより構成し、各リングには偶数個の対の弾
性回動部の対を設け、リングの回動部対間には比較的長
いロング部分を配置するとともに、多対における回動部
相互間には比較的短かいショート部分を配置し、第1弾
性連結部材のショート部分を第1ホルダと第2ホルダに
交互に連結し、第2弾性連結部材のショート部分をフレ
ームと一方のホルダに交互に連結する。
更に、本発明の好適な実施例においては、常に横方向か
ら駆動されるホルダでも傾動に対する抵抗力が高くなる
ようにするため、前記ホルダ間にはプレストレスを与え
た少なくとも1個の補償ばねを配置するとともに、フレ
ームと一方のホルダ間にはプレストレスを与えた少なく
とも1個の補償ばねを配置する。
更に、簡単な構造でクリアランスフリーおよびヒステリ
シスフリーのアクチュエータを具えるオプト−リソグラ
フイック装置の実施例においては、第1アクチュエータ
および第2アクチュエータは、それぞれ第1偏心子およ
び第2偏心子により構成し、これら偏心子はそれぞれ一
方のホルダおよび他方のホルダに掛合させ、かつそれぞ
れ第1直流モータおよび第2直流モータにより駆動し、
この第1モータをフレームに取付けるとともに、第2モ
ータを一方のホルダに取付ける。
更に、プロセッサによる自動制御に好適なオプト−リソ
グラフイック装置の実施例においては、第1制御ループ
および第2制御ループを有するサーボ制御装置を設け、
第1制御ループではレンズ系を設けたホルダに取付けた
光学的合焦検出器により第1制御信号を、第1アクチュ
エータに連結した合焦モータに供給し、第2制御ループ
では光学的拡大検出器により第2制御信号を、第2アク
チュエータに連結した拡大モータに供給する。
更に、本発明の目的は、オプト−リソグラフイック装置
の光学的レンズ系の結像特性を制御する方法を得るにあ
る。この場合、レンズ系の合焦および拡大調整のそれぞ
れに対する付随的な補正を、手動、半自動、または全自
動で行うことができるようにする。
この目的を達成するため、本発明による方法は、サーボ
制御装置の第1制御ループ内で合焦検出器で測定された
第1制御信号を、第1アクチュエータに連結した合焦モ
ータに供給し、この第1アクチュエータによりレンズ系
とサブストレートとの間の距離を調整し、サーボ制御装
置の第1制御ループ内で、拡大検出器により測定した第
2制御信号を、第2アクチニエータに連結した拡大モー
タに供給し、マスクとレンズ系との間の距離を所要値に
調整するとこよりなる。
本発明による方法の好適な実施例においては、大気圧の
変動により生ずるレンズ系の合焦および拡大率の変動を
簡単に補正できるようにするため、レンズ系とマスクを
結像するサブストレートとの間の距離を光学的合焦検出
器により測定し、合焦検出器により供給される第1制御
信号を、レンズ系とサブストレートとの間の所要距離お
よび大気圧に相関させ、次に第1制御信号を第1アクチ
ュエータの合焦モータに供給することによりレンズ系と
サブストレートとの間の距離を所要値に調整し、次に、
第1制御ループを動作させたまま第2制御ループを動作
させ、拡大検出器により測定された大気圧に相関する第
2制御信号を第2アクチコエータの拡大モータに供給し
、所要の拡大倍率の調整が得られた後に、相対位置セン
サにより得られかつ第2制御信号により校正される第3
信号を第2信号に代って使用し、この後、一連の順次の
サブストレート露光中第1制御ループおよび第2制御ル
ープの双方の動作を維持する。
次に図面゛につき本発明の好適な実施例を説明する。
第1図に示す光゛学石版またはオプト−リソグラフイッ
ク装置(いわゆる「ウェハ ステッパ(wafer 5
tepper) J ) は固定のフレーム1を有し、
このフレーム1には矩形の花崗岩製のプレート3が位置
し、このプレート3はこれに取付けた4個の垂直支柱5
の支持体として作用する。支柱5のうちの2個のみが第
1図に示されているが、これら支柱5はプレート3の端
縁の近傍に矩形パターンにして配列する。更に、3個の
プレート7.9および11がフレーム1の一部を構成し
、これらプレートを支柱5に取付ける。金属製のプレー
ト7゜金属製のプレート9およびガラス製のプレート1
1は水平平面上に位置させ、花崗岩製のプレート3に平
行にする。オプト−リソグラフイック装置は、多数のレ
ンズ素子例えば素子15.17よりなる光学レンズ系1
3を有し、この先軸19は第1図に示すX。
Y、Z直交軸系のZ軸に一致させる。レンズ系13は金
属製の円筒形第1 (レンズ)ホルダ21に取付け、こ
の第1ホルダ21は、これに同軸状であり、やはり金属
製の円筒形の第2 (マスク)ホルダ23により部分的
に包囲される。レンズホルダ21およびマスクホルダ2
3の中心線は光軸19およびZ軸に一致させる。マスク
ホルダ23には第2図に示す支持部25を配置し、この
支持部25にはマスク29のための掛合パッド27を設
け、このマスク29のパターンをレンズ系13により縮
尺寸法(10:1)で、テーブル33に配置した半導体
のサブストレート31上に結像する。テーブル33は、
空気静力学的に花崗岩プレート3に支持した脚35によ
り案内し、またX軸および/またはY軸に平行に移動自
在にするとともに、Z軸に平行な軸線の周りに回転自在
にする。
3個のリニア電子モータ(第2図参照)により移動自在
のテーブル33は、それ自体既知であり、雑誌「デ コ
ンストルクトゥアー(De Con5truct−er
u J 1983年10月発行、第10号におけるアー
ル・エッチ・ムニング・シュミット(R,H8Munn
ingSchmidt)およびニー・ジー・バウワー(
A、G。
Bouwer)共著の記事に記載されている。第2図に
示すように、テーブル33の駆動装置は、×−ステータ
37およびX軸に平行に並進させるようテーブル33に
取付けたX−)ランスレータ39を有するリニアモータ
と、Y軸に平行に並進させるとともに、Z軸に平行な軸
線の周りに回転させる2個のりニアモータを有する。後
者の2個のモータのうちの一方は、Yl−ステータ41
およびY、−トランスレータ43を有し、2個のモータ
のうちの他方はY2−ステータ45およびY2− トラ
ンスレータ47を有する。テーブル33は極めて正確な
、連続的または段階的または周期振動的な運動を行うこ
とができ、これは特に米国特許第4251160号から
原理的には既知のレーザインターフェロメトリに基づく
測定装置によるものである。例えばヘリウムネオンレー
ザ49から発生するレーザビーム53はプリズム55を
経て2個の半透過性プリズム57.59およびプリズム
61を通過し、3個のサブビーム63; 65.67を
形成する。
サブビーム63.65.67はテーブル33の反対側端
縁で反射し、干渉計69.71.73内で基準ビーム(
不可視)に合体し、干渉ビーム75.77および79を
形成し、ビームの強さをレシーバ81.83.85内の
フォトセルにより測定する。サブストレート31は光源
8了によりレンズ系13に対してテーブル33の異なる
多数の位置で露光する。光源87から出射する光は放物
面ミラー89により反射する。ミラー91、シャッタ9
3、ダイアフラム95、ミラー97、およびコンデンサ
レンズ99を経て光はマスク29を通過する。以下に第
1、2.3および4図につき詳細に説明するレンズホル
ダ21およびマスクホルダ23の相対的なまたフレーム
1に対する特別な連結方法により、レンズ系13とサブ
ストレート31との間の距離を調整して合焦することが
でき、またマスク29とレンズ系13との間の距離を調
整して拡大(引伸し)投射することができる。
第1,2および3図から明らかなように、レンズホルダ
(第1ホルダ)21をマスクホルダ(第2ホルダ)23
に弾性変形可能な金属リングとしての第1弾性連結部材
(以下「第1連結部材」と略称する)101により連結
するとともに、弾性変形可能な金属リングとしての第2
弾性連結部材(以下「第2連結部材」と略称する)10
3によりマスクホルダ23をフレーム1のプレート7に
連結する。
レンズホルダ21は更に第3連結部材105によりフレ
ーム1にガラスプレート11を介して連結するとともに
、マスクホルダ23は第4連結部材107によりレンズ
ホルダ21に取付ける。第3連結部材105および第4
連結部材107はそれぞれ弾性変形可能なリングとする
。リング101.103.105.107は原理的には
同一とし、第4図に示す種類のものとするが、寸法は異
なるものとする。第4図に示すように、各リング101
.103.105および107 は偶数個の弾性回動部
109.111の対を有し、各順次の対間には比較的長
いロング部分113 と、多対における2個の回動部1
09.111間の比較的短いショート部分115を有す
る。各ショート部分115にはねじ孔117を設ける。
第3図から明らかなようにレンズホルダ21は環状のフ
ランジ119を有し、この環状のフランジをマスクホル
ダ23の環状の肩部121に対向配置する。
リング101のショート部分115をボルト(第3図に
は図示しない)によりレンズホルダ21のフランジ11
9およびマスクホルダ23の肩部121に交互、に取付
ける。ショート部分115.フランジ119.肩部12
1相互間にそれぞれスペーサプレー) 123.125
をクランプし、これらスペーサプレートによりロング部
分113がフランジ119および肩部121から離れて
配置されることになる。マスクホルダ23は更に、環状
のフランジ127を有し、このフランジ127をプレー
ト7に取付けたリング129に対向させて配置する。リ
ング103のショート部分115はボルト131により
フランジ127 とリング129 とに交互に取付ける
。スペーサプレート133.135をリング103のシ
ョート部分115 とリング129 との間およびフラ
ンジ127とリング129との間にそれぞれクランプし
、これらスペーサプレートによりロング部分113をフ
ランジ127およびリング129から離してお(ことが
できる。レンズホルダ21は環状の肩部137を有しこ
の肩部に対して堅固な平坦リング139をボルト141
により取付ける(第3図にはボルト141を1個のみ示
す)。リング139はマスクホルダ23の下側に配置し
、リング107をレンズホルダ21にボルト143によ
り取付けるのに使用し、ボルト143 はリング107
のショート部分115の孔117に挿通し、マスクホル
ダ23とリング139とに交互に取付ける。スペーサプ
レート145.147をリング107のショート部分、
マスクホルダ23、リング139相互間にそれぞれクラ
ンプし、これらスペーサプレートによりリング107の
ロング部分113をマスクホルダ23およびリング13
9から離しておくことができる。レンズ系13は平坦リ
ング149上に支持し、この平坦リング149はレンズ
ホルダ21の肩B151に配置する。リング149およ
びレンズ系13はレンズホルダ21にボルト153によ
り取付ケる。レンズホルダ21には更に環状のフランジ
155を設け、このフランジ155はリング105をレ
ンズホルダに取付けるのに使用する。リング105の下
側で4個のリング157.159.161.163を配
置する。
ボルト165をリング105のショート部分の孔117
に挿通し、これらボルト165によりリング105をフ
ランジ155 とリング157に交互に取付ける。スペ
ーサブレー) 158.160をリング105のショー
ト部分115.フランジ155.リング157相互間に
それぞれクランプし、リング105のロング部分113
をフランジ155およびリング157から離しておくこ
とができる。リング157をボルト167によりリング
159に取付け、リング161をボルト169によりガ
ラスプレート11に取付けたリング163に取付ける。
リング161,163はともにU字状室を構成し、この
U字状室内にリング159を収納する。
リング163に調整ボルトのためのねじ孔171を設け
、この調整ボルトによりレンズホルダ21のガラスプレ
ート11に対する半径方向位置を調整することができる
。この目的のために半径方向クリアランス173および
175をそれぞれリング157.161内およびリング
159.163間に設ける。レンズホルダ21を正確に
調整した後(このステップについては後に説明する)、
リング159を簡単のため図示しない方法でリング16
1.163間にクランプするとともに、ねじ孔171内
で調整ボルトを後方に回すことによりリング1590半
径方向の押圧力を減する。
このようにしてリング159の真円度を保証する。
金属製のプレート9に支持台177を取付け、この支持
台177には駆動軸181のための軸受ブツシュ179
を設け、駆動軸181は直流モータ(合焦モータ)18
3の出力軸に連結する。駆動軸181を軸受ブツシュ1
79内で玉軸受185により回転自在に支承する。駆動
軸181の端部を偏心スリーブ187に取付けておきこ
の偏心スリーブ187に玉軸受189を取付け、この玉
軸受189の外側レース191をこの上方に位置しかつ
レンズホルダ21およびリング107に取付けたリング
139に掛合させる。ブツシュ179の中心線を駆動軸
181の中心線に対して偏心させる。従ってホルダ21
.23の粗調整は手操作により行うことができる。合焦
モータ183.駆動軸181.偏心スリーブ187およ
び玉軸受189はともにレンズ系13を合焦させるため
のフレームに固定した第1アクチュエータを構成する。
マスクホルダ23の壁に円形の孔193を設け、この孔
内に軸受ブツシュ195を取付ける。この軸受ブツシュ
195は直流モータ197のハウジングに取付け、この
モータの駆動軸を軸受プツシ、 195に回転自在に支
承する。レンズホルダ21の壁に形成した孔201の下
端縁に掛合する偏心子199をモータ197の駆動軸に
取付ける。以下このモータ197を拡大モータ197と
称する。軸受プツシ:Li2Sをブラケット203によ
り孔193にクランプすることができる。円形の偏心子
199の中心線は拡大モータ197の駆動軸の中心線に
対して平行にずらし、軸受プツシ:Li2Sの中心線は
孔193内で回転する円形円筒形のブツシュの回転軸線
に対して平行にずらして−おく。この構成によれば以下
の説明から明らかなように先ずレンズホルダ21および
マスクホルダ23の粗調整、次いで微調整を行うことが
可能となる。駆動軸を有する拡大モータ197.軸受は
ブツシュ195.および偏心子199はともにレンズ系
13の拡大率を調整する移動自在の第2アクチュエータ
を構成する。
マスクホルダ23.レンズホルダ21およびこれに取付
け、Z軸に平行に移動自在のすべての部材の総重量は、
周方向に見て、Z軸に直交する円周上でほぼ120°毎
に分布する3点に作用する。第3図に示すピン205の
断面図は、わかりやすくするため60°にわたり回転し
た部分の断面である。3点のうちの1点は軸受189と
リング139との間の接触点とし、残りの2個の点はリ
ング139の下側に掛合する2個のピンとする。これら
2個のピンのうちの1個のピン205のみを第3図に示
す。プレストレスを加えた螺旋ばね207(第2補償ば
ね)によりピン205をリング139に圧着させ、この
螺旋ばね207をホルダ209に配置する。このホルダ
209にはねじ山を設け、雌ねじを形成したスIJ−ブ
211により軸線方向位置を調整自在とする。このスリ
ーブ211は金属プレート9に取付ける。レンズホルダ
21の壁にはボルト213によりピン217のための支
持スリーブ215を設け、このピン217の上部を円形
円筒状の支持部219にねじ込み、この支持部219は
中空スリーブ状のビン221内で摺動自在にする。また
ピン217の下部は支持スリーブ215内で摺動自在に
する。ボルト223によりマスクホルダ23の壁に取付
けたスリーブ225にピン221をプレストレスを加え
た螺旋ばね227(第1補償ばね)により圧着させる。
周方向に見て2個のピン221を設け、これらピンをZ
軸に直交する円周上にレンズホルダ21の偏心子199
の接触点とともに120°の間隔毎に配列する。第3図
のピン221の断面図は説明の便宜上60°回転してず
らした位置での断面を示す。リング101.103.1
05および107はショート部分115の領域でスペー
サプレートによりクランプするため、ロング部分113
は接触する部分がな(、従って曲げ力およびねじり力に
よりZ方向に比較的小さい弾性変形を受けることができ
る。この弾性変形は主に曲げ力によりもたらされる。リ
ング101.103.105および1070弾性変形は
以下に述べるようにして得られる(特に第2および3図
参照)。
偏心子199が静止した状態で偏心スリーブ187を合
焦モータ183の付勢により回転し、この結果玉軸受1
89が垂直方向に上下動する場合、リング103、10
5が弾性変形するとともに、リング101゜107は変
形しない。この場合、偏心スリーブ187による弾性変
形を意味しているのであって、リング101.107が
マスクホルダ23、レンズホルダ21およびこれらホル
ダと一緒に移動自在の部材の重量によって受けている静
的変形を意味するものでないことに注意すべきである。
偏心子199を停止させておくやり方については後に第
7図につき詳細に説明する。玉軸受189の垂直移動に
よりホルダ21.23はともに固定のZ軸に平行に移動
し、これによりレンズ系13とサブストレート31との
間の距離の増減を行うことができる。従って、上述の移
動はレンズ系13の合焦に使用できる。即ち、像距離は
両ホルダの同時移動によって制御されるからである。こ
のときマスク29とレンズ系13との間の物体距離は変
化しない。合焦操作中、拡大率は変化しない。即ちレン
ズ系13はサブストレート側でテレセントリックである
からである。いわゆるひとみの中心を通過する光ビーム
の光線(主光線)が同一サイドに対応する像平面または
対物面に常に直交する場合レンズ系は所定の側(図示の
実施例の場合ピクチャーサイド)でテレセントリックと
なることに注意すべきである。本発明によるオプト−リ
ソグラフイック装置のレンズ系13は、拡大を簡単で実
用的に制御できるようにするため、対物側ではテレセン
トリックにしないよう意図的に構成している。何の作用
によりこのような拡大制御を好ましいものにするかを後
に詳細に説明する。
偏心スリーブ187が静止した状態で拡大モータ197
の付勢(通電)により偏心子199を回転させ、この結
果レンズホルダ21が静止した状態でマスクホルダが垂
直方向に上下動する場合、リング101゜103、およ
び107が弾性変形するとともに、リング105は変形
しない。この場合、単に偏心子の回転による動的弾性変
形を意味しているのであって、マスクホルダ23および
このマスクホルダに連結し、レンズホルダに対して移動
自在の部材の重量によりリング101.103.107
が受けている静的変形を意味しているのではない。偏心
スリーブ187を停止させておくやり方については後に
第7図につき詳細に説明する。マスクホルダ23のレン
ズホルダ21に対する相対的な垂直方向移動によりレン
ズ系13とマスク29との間の距離が増減する。この移
動は像距離が一定で、物体距離を制御するのに使用し、
これによりレンズ系の拡大率を制御または調整すること
ができるようにする。
補償ばね207および227のプレストレスによりそれ
ぞれリング139およびスリーブ255に押し付けられ
るピン205.221は二重の機能を満たす。ピン20
5.221によれば、2個のホルダ、弾性連結部材およ
びフレームの機械的荷重をホルダの周方向に見てできる
限り均一に分布させることができる。
またピン205.221の存在により、玉軸受189お
よび偏心子199に対する荷重が大き過ぎないようにす
ることができる。ピン205および玉軸受189は2個
のホルダ21.23およびこれらホルダに連結し、ホル
ダと一緒に移動することができる部材の重量を支持する
。ピン205は玉軸受189によりリング139に常に
加わる側方の力によって傾動するのを防止する作用も行
う。補償ばね207のプレストレスを玉軸受189のい
わゆる中心位置に開運したばね張力として規定すると、
補償ばねには、予張力に合焦操作中における2個のホル
ダ21.23を移動するのに必要な力の1/3をプラス
またはマイナスした力が合焦操作中に加わる。同様に、
ピン221および補償ばね227および偏心子199に
は拡大調整中に、予張力に、静止しているレンズホルダ
21に対してマスクホルダ23を移動するに必要な力の
173をプラスまたはマイナスした力が加わる。ピン2
21は、偏心子199が常に同一側面に掛合することに
より拡大調整中にマスクホルダ23が傾動するのを防止
する作用を行う。ピン205および221は、更にホル
ダ21.23が静止位置において傾動するのを阻止する
即ち合焦移動または拡大調整移動が生じないようにする
作用を行う。
合焦および拡大調整の操作はセンサ、即ち第5図に示す
合焦検出器229および第6図に示す拡大検出器231
により制御する。合焦検出器229および拡大検出器2
31は光検出器であり、それぞれ合焦誤差信号および拡
大誤差信号を、第7図に示すサーボ制御装置233に供
給する。合焦検出器229(この原理は米国特許第43
56392号に記載されており、光学的ゼロ点調整を行
う特別な具体例はオランダ特許出願第8600253号
に記載されている)は、放射線源例えばダイオードレー
ザ235.偏光スリッティングキューブ237.多数の
プリズム239゜241、243.ミラー249および
2個の放射線検出器247、249を有する。レンズ2
51により放射線スポットS、をサブストレート31に
形成するとともに、リング263によりレンズ255と
ともに放射線スポットS、を検出器247.249上に
放射線スポットS2として結像する。ミラー245はレ
ンズ253の焦点面に配列する。ミラー即ちリフレクタ
245およびレンズ253はともにいわゆる逆反射体を
構成し、これによりミラー245に達する光ビームは再
帰反射し、また放射線スポットS−二ミラー像として集
束し、従って対称放射線スポットが得られる。サブスト
レート310反対の局部的な差は検出器247゜249
に形成される放射線スポットS2における光の強さの分
布には影響しない。参照符号235.237゜239、
247.249.255および257で示される合焦検
出器229の部分は、固定配置の一体構成とするととも
に参照符号241.243.245.251.253お
よび259で示される合焦検出器229の部分は、レン
ズホルダ21に連結する。例えばサブストレート31の
厚さの変動に基因してレンズ系13とサブストレート3
1との間の距離の変化があると、放射線スポットS2は
検出器247.249に対してずれ、どちらか一方の検
出器は他方の検出器よりも強さが小さいかまたは大きい
放射線を受ける。このようにして検出器247、249
は異なる値の信号を生ずる。検出器247゜249に接
続した差動増幅器257の出力信号は合焦誤差信号ΔF
を形成し、このΔFをサーボ制御装置233(第7図参
照)に使用する。大気圧変動が合焦操作に過大な影響が
あるとわかるとき、回転自在の平行六面体のガラスプレ
ート259により補正することができる。このガラスプ
レートにより光路長を調整することができる。合焦検出
器229は大気圧変動による合焦変動を検出しないため
、合焦誤差信号ΔFの多点調整またはいわゆる「オフセ
ット」および補正を、回転自在のプレート259の補助
を受けて光路長調整により行うことができる。プレート
259の調整は手作業またはモータで行うことができる
。例えば大気圧が合焦に及ぼす影響を測定によって決定
した表またはグラフにより、プレート259の手動回転
の程度を決定することができる。大気圧変動は一般的に
比較的緩慢な変動であるため、順次の補正の間隔を例え
ば1日または2.3 日とすることができる。このよう
な補正ではプレート259のモータ駆動装置を設けた個
別のサーボ系に気圧計の測定信号を使用することにより
連続的または自動的に行うこともできる。このような連
続的な合焦補正では拡大調整に影響しない。即ち、レン
ズ系13はサブストレート側でテレセンドリンクである
ためである。プレート259の手動調整はテストサブス
トレート上への実験的結像またはサブストレート31の
頂面に一致しないがサブストレート31内に位置する平
面上に合焦するのに使用する。
第5図に線図的に示すオプト−リソグラフイック装置に
おける弾性連結部材の位置決めは第1゜2および3図に
示す装置とは異なる。第1.2および3図における弾性
連結部材105  (IJソング05)はマスクホルダ
23と図示しない固定フレームとの間におけるばね26
1としての弾性連結部材261(第3連結部材)に代っ
ている。この実施例は第1.2および3図に示す構成の
代案であり、本発明の範囲内である。ただし、マスクホ
ルダ23を(−点ではなく)2個の点で弾性連結部材を
フレームに直接連結するとともに、レンズホルダ21は
弾性連結部材によってフレームに直接連結することは全
(せず、2点でマスクホルダ23に連結することが特徴
的な差である。
拡大検出器231(上述のオランダ国特許出願第860
1278号に記載されている)はテストマスクまたは回
路マスク29に2個の振幅ラスタ263.265 (テ
ーブル33における対応の2個の振幅ラスタ267゜2
69に結像させる)を設けた装置により構成する。
第6図に2個のレンズ271.273で線図的に示すレ
ンズ系13によってラスタ263をラスタ269上に結
像させ、ラスタ265をラスタ267上に結像させる。
ラスタ263はラスタ269に結像する光ビーム275
のうちの主光線277のみを示し、ラスタ265をラス
タ267上に結像する光ビーム279は主光線281の
外に端縁光線283.285 も示す。ビーム275.
279は単独の幅広光ビーム287の一部であり、この
光ビーム287は回路マスク29とサブストレート31
に結像させるのと同じビームとすると好適である。
このとき波長の差によるラスタ像の偏差は得られない。
これはそれぞれラスタ267および269を通過する光
ビーム279.277の各光路に配置した露光放射線検
出器289.291に使用される波長での収差補正がレ
ンズ系13に対してなされるためである。
検出器289.291 はテーブル33に配置する。ラ
スタ263、265を適正な拡大倍率でラスタ269.
267上に結像する場合、対応のラスタ像の周波数はラ
スタ269、267の周波数に等しい。ラスタ265.
267およびラスタ263.269からそれぞれ検出器
289.291により、互いに正確に整列する放射線量
は等しい。
拡大誤差があると、結像したラスタ263とラスタ26
9および結像したラスタ265 とラスタ267は互い
に合致せず、モアレ模様ができ、この周期が拡大誤差の
測定値となる。この拡大誤差を拡大信号に変換できるよ
うにするため、マスクラスタ263゜265およびテー
ブル267、269を周期的に相対的にまたX軸に対し
て平行に駆動装置293により移動させる。この駆動装
置293はテーブル33に連結する。駆動装置293は
オプト−リソグラフイック装置に設けたXステータおよ
びx トランスレータ39(第2図参照)を有するリニ
ア電子モータにより構成する。上述の干渉計装!(63
,81)を拡大測定のだめのテーブル33の周期移動制
御に使用する。
テーブルラスタに対するマスクラスタの周期移動により
、拡大誤差がある場合(従って有限周期のモアレ模様が
ある場合)検出器289.291のほぼ正弦波形状の出
力信号295.297間に位相差を生ずる。
信号295.297を位相比較器299に送り、この位
相比較器により拡大誤差信号ΔM1を発生し、この誤差
信号を第7図に示すサーボ制御装置233に使用する。
拡大検出器231は、更に大気圧変動による拡大誤差も
検出するため、拡大誤差信号ΔM1はサーボ制御装置2
33によって圧力変動補正にも使用することができる。
従って、合焦検出器299で使用したゼロ点調整または
いわゆる「オフセット」は拡大検出器231では圧力変
動に関しては不必要である。このことは圧力変動ゆえに
要求される拡大補正は拡大誤差信号ΔM1に直接加減さ
れており、測定および計算に基づいて表またはグラフか
ら導き出す必要は必ずしもない。従って、拡大補正中に
エラーを生ずる危険性は、読取誤差および補間誤差が回
避されるという事実によって相当減少される。
サーボ制御信号233(第7図参照)は、合焦調整を行
う第1制御ループ301と拡大調整を行う第2制御ルー
プ303とを有する。第3図から明らかなように、マス
クホルダ23に対してクリアランスを有して挿通し、か
つレンズホルダ21に取付けたスリーブ305をマスク
ホルダ23の輪郭を越えて突出させ、ホルダ21.23
のZ軸に平行な相対移動をツイータ307の並進運動に
変換し、このツイータ307はマスクホルダ23に連結
したブロック309に摺動自在に支承する。スリーブ3
05.ツイータ307およびブロック309はともに、
(相対)位置センサ311(第7図参照)を構成する。
第1制御ループ301 は制御回路313からスイッチ
315を介して動作させることができる。制御ループ3
01には比例積分(PI)制御器3171合焦モータ1
83.および合焦誤差信号ΔFを発生する合焦検出器2
29を設ける。
第2制御ループ303は制御回路313からスイッチ3
19を介して動作させることができる。制御ループ30
3には、更に比例積分(PI)制御器321.拡大モー
タ197およびスイッチ323の位置に基づく拡大検出
器231または位置センサ311を設ける。位置センサ
311におけるツイータ307の並進運動を摺動ポテン
ショメータ325により電気信号に変換し、比較器32
7に送る。拡大誤差信号ΔM1はスイッチ323および
スイッチ329を経て比較器327に送ることができる
。ボルトメータ331を比較器327の出力および制御
回路313に接続する。スイッチ323、329を相互
に連結し、また極性を逆にする。
以下にどのようにサーボ制御装置233を使用し、オプ
ト−リソグラフイック装置における繰返しの露光処理の
準備と実施をどのように行うかを説明する。
集積回路、例えば半導体回路、光学回路およびオプト−
リソグラフイック装置の光電回路を製造するためには、
先ず、関連のサブストレート31を予め機械的に整列さ
せる操作を行い、サブストレートは例えば数個のサブス
トレートを収納するカセットからベルト送り装置により
オプト−リソグラフイック装置に配置したいわゆるX、
 Y、  テーブルに自動的に供給される。サブストレ
ートの平坦側面を利用してサブストレートの並進および
/または回転により基準に対して整列させる。適正な予
整列は顕微鏡により制御する。次にサブストレートをチ
ェンジャにより上述のテーブル33に送り、ここでX軸
およびY軸に平行な軸線の周りに傾動させ、またZ軸に
平行に並進させて合焦の微調整範囲内の位置をとらせる
ことによりセットする。
テーブル33における傾動および並進運動はテーブル3
3の既知のサブメカニズムおよびガラスプレート11に
取付けた基準メカニズムにより得られる。
オプト−リソグラフイック装置は、米国特許第4251
160号に記載され、原理的に既知である型式の整列微
調整装置333を有する。ヘリウムネオンレーザ335
(第2図参照)、偏光感応スプリッティングキューブ3
37、プリズム339,341 、いわゆる1/4 λ
プレート343、放射線345、光源347および光路
長に適合させるための光学装置349はこの整列微調整
装置333の一部をなす。更に、マスク29およびサブ
ストレート31の各々に1対の整列微調整用のマスクを
設け、これらマスク対によりマスクおよびサブストレー
トは整列操作中に互いに光学的に整列させることができ
る。サブストレートに対するマスクの光学的整列微調整
を行った後、スイッチ315を制御回路313(第7図
参照)により閉じ、第1制御ループ301を動作させ、
合焦検出器229の合焦誤差信号ΔFをPI制御器31
7から合焦モータ183に送り、レンズ系13とサブス
トレート31との間の目標距離に調整する。合焦移動中
、ホルダ21.23はともに同期偏心運動を行い、マス
ク29とレンズ系13との間の距離(物体距離)を一定
に維持する。上述のオプト−リソグラフイック装置にお
いて物体距離は、合焦操作中多数の方法で一定に維持さ
れる。偏心子199の僅かな偏心度(15μm)により
、第2アクチュエータの自己制動の程度は比較的大きい
。通常の条件の下では合焦操作中のホルダ相互間の相対
移動が生ずることの心配をする必要はない。しかし、例
えば振動がホルダ相互の相対移動を引き起すと予想され
る場合、スイッチ319を閉じ、制御回路313により
第2制御ループを動作させる。第2制御ループの作用を
以下に詳細に説明する。比較約1かな保持電流により拡
大モータを通電(付勢)するとき、電気機械的制動が偏
心子199の機械的自己制動に加わる。第5図につき説
明したように、合焦検出器229のゼロ点調整は平行六
面体のプレート259の回転により変化する。この操作
はサーボ駆動または手動により半自動で行う。例えば大
気圧によりゼロ点調整を変化させる必要がある場合、こ
の微調整合焦操作中に合焦検出器のオフセットは既に実
現されている。更に、サブストレート31の頂面により
下方でサブストレート31内の成るレベルに合焦する場
合にオフセットを使用する。大気圧に対するオフセット
量はグラフまたは表から決定することができる。グラフ
または表の値は電子メモリ内に記憶することができ、こ
の電子メモリは大気圧用の計器に接続しておく。各圧力
に対して平行六面体のプレート259のサーボ駆動装置
に供給されるオフセット値を自動的に発生する。場合に
よっては、閾値を使用し、閾値を越えたときのみ補正を
行うようにすることもできる。レンズ系13とサブスト
レート31との間の距離(像距離)を適正に調整した後
、スイッチ315が閉じられており、従って第1制御ル
ープ301が動作している状態でスイッチ319を閉じ
9、適正拡大調整のための第2制御ループ303を動作
させる。第6図につき既に説明したように、拡大調整中
にテーブル33の駆動装置293  (IJニアモータ
37.39>を使用して拡大誤差信号ΔMiを生ずるよ
うにする。このことは、第7図には図示しないコンバー
タを介してテーブル33をX軸に平行に均一な往復運動
をさせることにより得られる。このとき第1制御ループ
301が動作するため、拡大調整中にも最適な合焦が常
に確保できる。
従ってサブストレート31のいかなる厚さ変動も拡大調
整中、既に容認されない方法で得られている合焦の精度
に影響を与えることがなくなる。拡大検出器231 に
より閉じたスイッチ323.329を介して拡大誤差信
号(第2制御信号)をPI制御器321に送り、この制
御器の出力信号により拡大を調整する拡大モータ197
を制御する。拡大調整中、偏心スリーブ187の僅かな
偏心度(15μm)による機械的自己制動は通常条件下
では十分大きいもので、ホルダ21.23のZ軸に平行
な同時移動を阻止することができる。例えば、振動が予
想される場合、拡大調整中に僅かな保持電流を合焦モー
タ183に通電することにより、電気機械的制動を付加
することができる。このことは合焦検出器229のオフ
セットにより行う。制i卸回路313 により動作する
スイッチ323 をスイッチ329 に組合せる。
このことは、拡大誤差信号ΔM、が比較器327にも送
られることを意味する。拡大検出器231による拡大調
整がテーブル33を停止することにより終了する時点で
、光学的に測定した拡大誤差信号と、位置センサ311
により供給されてポテンショメータ325により変換さ
れた信号との差信号をメータ331により測定する。こ
のときポテンショメータ325はボルトメータ331に
より測定される信号がゼロに等しくなるよう調整される
。このようにして、位置センサ311は光学的拡大信号
ΔM1により校正され、第3制(和信号が得られ、この
第3制御信号がこのときサブストレートに対して実施さ
れるべき一連の露光工程中に第2制御信号にとって代る
。駆動装置293  (Uニアモータ37.39)は露
光段階中にほぼ一定の動作をしてサブストレート31を
一方の露光位置から他方の露光位置に移動させるため、
光学的拡大検出器231は原理的に一連の露光相互間の
所定間隔中にのみ(吏用することができる。従って、1
111i1のサブストレートの一連の露光中に拡大検出
器により既に校正された位置センサ311のみを使用す
るとよい。このときスイッチ323、329は第7図に
点線で示した位置をとる。第7図において、付加的な信
号をも示し、この信号は、例えば大気圧変動による補正
のために比較器327に送ることができる。このことは
、合焦誤差信号ΔFにつき説明したと同様にして行うこ
とができる。最終的に得られた蛎大誤差信号ΔM2は一
連の露光中に温度・圧力および機械的振動により変化す
る拡大倍率を補正するのに使用する。合焦検出器229
および拡大検出器231はそれぞれ信号ΔFおよびΔ)
41を供給し、原則的には大気圧の影響は考慮していな
い。にもかかわらず、この影響はいずれにせよゼロ点調
整またはオフセットにより制御ループ301,303に
おいて考慮されている。
これら制御ループは露光工程中にも動作を維持し、合焦
および拡大は最適状態に調整される。上述のサーボ制御
はデジタル的にもアナログ的にも行うことができ、第6
および7図につき説明した検出器に限定するものではな
い。本発明による方法は、レンズ系は別個に配置するオ
プト−リソグラフイック装置にも適用することができる
。この場合、サブストレートテーブルおよびマスクテー
ブルを設け、これらテーブルをZ軸に平行にレンズ系に
対して移動させるようにする。
上述のリングとしての弾性連結部材はホルダ21゜23
において既知の切欠部とすることもできるが、リングは
より密集した構造とするとよい。このようなリングには
カム肉厚部および肉薄部を設け、これによりスペーサプ
レートを不要にすることができる。ねじ孔171(第3
図参照)における調整ボルトによりホルダ21.23は
最適な予合焦が得られるよう傾動する。この場合、多数
のテスト像を形成し、最適の合焦状態が得られてからホ
ルダ21゜23をリング161 によりクランプする。
上述のオプト−リソグラフイック装置の実施例ではレン
ズホルダ21は少なくとも部分的にマスクホルダ23内
に位置するがこのことは必須ではない。マスクホルダ2
3は全体的にまたは部分的にレンズホルダ21内に配置
することもでき、この場合、レンズホルダはマスクホル
ダを保持する。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明によるオプト−リソグラフイック装置
の線図、 第2図は、第1図の装置の部分斜視図、第3図は、第1
および2図に示す装置に使用する第1ホルダおよび第2
ホルダを取付ける装置の縦断面図、 第4図は、弾性連結部材の部分平面図および直径方向の
縦断面図、 第5図は、第1および2図に示す装置に使用する光学的
合焦検出器の線図、 第6図は、第1および2図に示す装置に使用する光学的
拡大検出器の線図、 第7図は第1および2図に示す装置に使用されるサーボ
制御装置の回路図である。 ■・・・固定フレーム   3.7.9.11・・・プ
レート5・・・支柱       13・・・レンズ系
15、17・・・レンズ素子  19・・・光軸21・
・・第1ホルダ(レンズホルダ)23・・・第2ホルダ
(マスクホルダ)25・・・支持部      29・
・・マスク31・・・サブストレート33・・・テーブ
ル101、103.105.107・・・弾性連結部材
109、111・・・弾性回動部 113・・・ロング
部分115・・・ショート部分  117・・・ねじ孔
123、125.133.135.145.147.1
58.160・・・スペーサプレート 177・・・支持台     179.195・・・軸
受ブツシュ181・・・駆動軸 183・・・直流モータ(合焦モーフ)185、189
・・・玉軸受   187・・・偏心スリーブ191・
・・外側レース 197・・・直流モータ(拡大モータ)199・・・偏
心子     205.217.221・・・ピン20
7、227・・・螺旋ばね  229・・・合焦検出器
231・・・拡大検出器   233・・・サーボ制御
装置301・・・第1制御ループ 303・・・第2制
御ループ305・・・スリーブ    307・・・フ
ィーラ309・・・ブロック    311・・・相対
位置センサ313・・・制御回路 315.319.323.329・・・スイッチ317
.321・・・比例積分(PI)制御器325・・・摺
動ポテンショメータ 327・・・比較器     331・・・ボルトメー
タ333・・・整列V&調整装置 特許出願人  エヌ・ベー・フィリップス・フルーイラ
ンペンツアフリケン PI6.4

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、マスク支持部とサブストレートテーブルとの間に配
    置し、サブストレートの側でテレセントリックなレンズ
    系を具え、レンズ系とサブストレートテーブルとの間の
    距離を、レンズ系に連結し、かつ弾性変形可能な連結部
    材を介して固定のフレームに懸垂した円筒形のホルダに
    掛合して連係動作するアクチュエータにより調整自在に
    し、前記連結部材の変形の程度をアクチュエータにより
    ホルダに加わる力で測定するオプト−リソグラフイック
    装置において、前記円筒形の第1ホルダに対して相対移
    動自在またこの第1ホルダと一緒に移動自在の第1ホル
    ダに同軸状であり円筒形の第2ホルダと、前記双方のホ
    ルダのうちの一方に掛合して連係動作する固定の第1ア
    クチュエータと、前記双方のホルダのうちの他方に取付
    けて連係動作する第2アクチュエータとを設け、一方の
    ホルダを他方のホルダに第1弾性連結部材により取付け
    、一方のホルダを前記フレームに第2弾性連結部材によ
    り取付け、一方のホルダに取付けたレンズ系とサブスト
    レートテーブルとの間の距離を、他方のホルダに連結し
    たマスク支持部とレンズ系との間の距離を一定にした状
    態で、前記固定の第1アクチュエータの作動に基づく第
    2弾性連結部材の弾性変形により調整可能にし、またレ
    ンズ系とマスク支持部との間の距離を、サブストレート
    テーブルとレンズ系との間の距離を一定にした状態で、
    前記第2アクチュエータの作動に基づく第1弾性連結部
    材の弾性変形により調整自在としたことを特徴とするオ
    プト−リソグラフイック装置。 2、少なくとも部分的に第2ホルダにより包囲され、ま
    た第3弾性連結部材によりフレームに取付けた第1ホル
    ダにレンズ系を連結するとともに、第2ホルダを第1ホ
    ルダに第4弾性連結部材により取付けたことを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項に記載のオプト−リソグラフイ
    ック装置。 3、弾性連結部材は、それぞれ弾性変形可能な金属製の
    リングにより構成し、各リングには偶数個の対の弾性回
    動部の対を設け、リングの回動部対間には比較的長いロ
    ング部分を配置するとともに、各対における回動部相互
    間には比較的短かいショート部分を配置し、第1弾性連
    結部材のショート部分を第1ホルダと第2ホルダに交互
    に連結し、第2弾性連結部材のショート部分をフレーム
    と一方のホルダに交互に連結したことを特徴とする特許
    請求の範囲第1または2項に記載のオプト−リソグラフ
    イック装置。 4、前記ホルダ間にはプレストレスを与えた少なくとも
    1個の補償ばねを配置するとともに、フレームと一方の
    ホルダ間にはプレストレスを与えた少なくとも1個の補
    償ばねを配置したことを特徴とする特許請求の範囲第1
    項に記載のオプト−リソグラフイック装置。 5、第1アクチュエータおよび第2アクチュエータは、
    それぞれ第1偏心子および第2偏心子により構成し、こ
    れら偏心子はそれぞれ一方のホルダおよび他方のホルダ
    に掛合させ、かつそれぞれ第1直流モータおよび第2直
    流モータにより駆動し、この第1モータをフレームに取
    付けるとともに、第2モータを一方のホルダに取付けた
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載のオプト
    −リソグラフイック装置。 6、第1制御ループおよび第2制御ループを有するサー
    ボ制御装置を設け、第1制御ループではレンズ系を設け
    たホルダに取付けた光学的合焦検出器により第1制御信
    号を、第1アクチュエータに連結した合焦モータに供給
    し、第2制御ループでは光学的拡大検出器により第2制
    御信号を、第2アクチュエータに連結した拡大モータに
    供給することを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載
    のオプト−リソグラフイック装置。 7、マスクとレンズ系との間の距離を所要値に調整して
    所要の拡大倍率を得るようにするオプト−リソグラフイ
    ック装置の光学レンズ系の結像特性を制御する方法にお
    いて、サーボ制御装置の第1制御ループ内で合焦検出器
    で測定された第1制御信号を、第1アクチュエータに連
    結した合焦モータに供給し、この第1アクチュエータに
    よりレンズ系とサブストレートとの間の距離を調整し、
    サーボ制御装置の第1制御ループ内で、拡大検出器によ
    り測定した第2制御信号を、第2アクチュエータに連結
    した拡大モータに供給し、マスクとレンズ系との間の距
    離を所要値に調整するとこよりなることを特徴とするオ
    プト−リソグラフイック装置のレンズ系の結像特性制御
    方法。 8、レンズ系とマスクを結像するサブストレートとの間
    の距離を光学的合焦検出器により測定し、合焦検出器に
    より供給される第1制御信号を、レンズ系とサブストレ
    ートとの間の所要距離および大気圧に相関させ、次に第
    1制御信号を第1アクチュエータの合焦モータに供給す
    ることによりレンズ系とサブストレートとの間の距離を
    所要値に調整し、次に、第1制御ループを動作させたま
    ま第2制御ループを動作させ、拡大検出器により測定さ
    れた大気圧に相関する第2制御信号を第2アクチュエー
    タの拡大モータに供給し、所要の拡大倍率の調整が得ら
    れた後に、相対位置センサにより得られかつ第2制御信
    号により校正される第3信号を第2信号に代って使用し
    、この後、一連の順次のサブストレート露光中第1制御
    ループおよび第2制御ループの双方の動作を維持するこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第7項に記載のオプト−
    リソグラフイック装置のレンズ系の結像特性制御方法。
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