JP2874280B2

JP2874280B2 - 周縁露光装置及び周縁露光方法

Info

Publication number: JP2874280B2
Application number: JP2126447A
Authority: JP
Inventors: 健服部; 今朝芳天野; 正夫中島; 雅喜内藤
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1990-05-16
Filing date: 1990-05-16
Publication date: 1999-03-24
Anticipated expiration: 2014-03-24
Also published as: JPH0425014A; US5361121A

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、集積回路製造用のウェハ等の円形基板の周
縁部分を選択的に露光する周縁露光装置に関するもので
ある。

〔従来の技術〕

ウェハ等の基板に微細な回路パターンを形成するため
に塗布されるレジストは、ウェハの周縁部分で剥がれ易
く、剥がれたレジストがその後の集積回路製造工程に於
いて悪影響を及ぼすということが従来より問題となって
いる。ウェハ周縁部分に於けるレジスト剥離を防止する
ためには、特開平２−56924号公報に開示された装置を
用いる方法が知られている。これは、露光光束を照射す
る発光部と、ウェハの周縁部を挟んで発光部と対向する
受光部とを一体に、ウェハと相対移動可能に備えた装置
に於いて、ウェハの周縁部分を露光する露光光束のう
ち、所定の露光幅（ウェハの径方向の長さ）に対応する
光束はウェハによって遮られ、その残りの光束をウェハ
周縁部を挟んで露光光源と対向して配置された受光部で
受光し、この受光部で得られる信号をウェハの露光幅を
一定に保つためのサーボ動作用に用いるものである。

〔発明が解決しようとする課題〕

従来の技術に於いては、受光部で得られる信号をウェ
ハの露光幅を一定に保つためのサーボ動作用に用いてい
る。この場合、例えば光源が劣化して露光光の強度が予
想以上に低下したり、光源を交換したりすることによっ
て、同一の露光幅に対する受光部での受光光量が所期の
ものに比べて大きく変化してしまい、その結果サーボ動
作用の目標値との対応付けが曖昧になり、周縁露光動作
の露光幅が安定しないという問題点があった。

また、第６図（ａ）に示すように露光光束のウェハ径
方向に関する露光ビームの強度分布が均一でない場合、
第６図（ｂ）に示すように設定露光幅に対する受光部で
の信号の大きさの関係が線形にならず、ウェハ周縁部の
露光時に得られる受光信号のみで露光幅を制御すること
が困難であるという問題点もあった。

これらの問題点を解決策としては、（１）露光用照明
系内に露光光束の強度分付均一化のための光学系を入れ
たり、（２）設定露光幅に対応した受光信号値を逐一メ
モリ・テーブルとして持たせたりすること等が考えられ
る。ところが（１）の場合、十分に均一化するためには
非常に大きな光学系が必要となり、また（２）の場合、
設定露光幅の設定可能なステップを十分細かく取りたい
ときには膨大なメモリ量のテーブルが必要となり、しか
も露光ビームの強度分布が変化するたびに、そのテーブ
ルを作り直さねばならない。或いは、近似式により信号
値を求めるようにしても、近似式の誤差が露光幅の精度
に悪影響を及ぼす等の問題点があった。

本発明は、上記の様な問題点に鑑みてなされたもので
あり、露光光束の強度変化や強度分付の不均一性に影響
されずに、周縁部をほぼ均一な幅で露光できる周縁露光
装置を提供することを目的とする。

〔課題を解決する為の手段〕

上記問題点を解決するために本発明では、レジストを
ほぼ均一に塗布した基板（２）の中央近傍を中心とし
て、基板（２）を回転手段（1,3）によって回転させな
がら基板（２）の周縁部を露光する周縁露光装置に於い
て、基板（２）のレジストを感応させる特性を有する光
束（６）を射出する照射手段（４〜7,LG）と、基板
（２）の周縁部を挟むように照射手段（４〜7,LG）と対
向して配置された受光手段（８）と、照射手段（４〜7,
LG）からの光束（６）と基板（２）とを基板（２）の回
転半径方向に相対的に移動させる移動手段（10）と、移
動手段（10）の移動範囲内で、且つ基板（２）と同一平
面内の空間に基板（２）の周縁部とほぼ並行した基準縁
部（12a）を伴って配置された遮光部材（12）と、移動
手段（10）の位置情報を検出する検出手段（13）と、検
出手段（13）の情報に基づいて移動手段（10）を駆動さ
せて、光束（６）が相対移動の方向に関して所定の基準
量だけ遮光される如く光束（６）と遮光部材（12）の基
準縁部（12a）とを位置付けたときに、受光手段（８）
から出力された信号を基準値（Sb）として記憶する記憶
手段（34）と、基板（２）の周縁部分を光束（６）で露
光する際、受光手段（８）から出力された信号（Se）が
記憶手段（14）に記憶された基準値と常に所定の関係に
維持されるように、移動手段（10）をサーボ制御するサ
ーボ制御手段（15,35）とを備え、基板（２）の周縁部
の回転半径方向に関する露光幅を基準値に対応した幅に
制御する。

〔作用〕

本発明では、周縁露光動作の前に遮光部材を用いたキ
ャリブレーション動作を行ってサーボ制御用基準信号
（目標値）を得ており、この基準信号に基づいて露光幅
の制御を行う構成にしたため、ウェハ周縁部への露光光
束の照射直前での強度及び強度分布を加味した正確な周
縁露光を行うことが可能となる。

〔実施例〕

第１図は、本発明の実施例による周縁露光装置の概略
的な構成を示す図である、不図示のウェハ搬送路に沿っ
てターンテーブル１上に搬送されてきたウェハ２は、そ
の中心とターンテーブル１の回転中心とがほぼ一致する
位置（ここでは、必ずしも一致している必要はなく、あ
る範囲内で偏心していても可。）でターンテーブル１上
に吸着保持される。ターンテーブル１は、ウェハ２を保
持したままモータ３によって所定の速度で回転される。
ウェハ２の周縁部上方に配置された照射部４には光源５
から光ファイバーLGによって導かれた露光光が供給され
る。光源５は照射部４の近傍でなくともスペースに余裕
のある位置に配置すればよい。さらに照射部４には、ウ
ェハ２のレジストに対して感応性の高い露光光束６を所
定の形状に規定するための絞り７が備えられている。ま
た、ポジションセンサ、シリコン・フォトダイオード等
からなる受光部８はウェハ２の周縁部を挟んで照射部４
と対向するような位置に配置されており、ウェハ２の外
周エッジ、若しくは後述の遮光板12が露光光束６の一部
を遮ったとき、残りの光束を、斜設したビームスプリッ
タ９を介して受光する。この受光部８からの光電信号に
基づいて、ウェハ２、若しくは遮光板12のエッジ（基準
縁部12a）が検出される。受光部８とウェハ２との間に
は露光光束６のうちウェハ２、若しくは遮光板12で遮ら
れずに受光部８に達する光束のうち一部を透過し、残り
を反射させるビームスプリッタ９が配置されている。こ
のビームスプリッタ９はウェハ２の周縁部の裏面へ一部
の露光光束を反射させて、裏面に回り込んだレジストを
露光させる。照射部４と受光部８は、一体で駆動部10に
固定されており、駆動部10は、モータ11により送りネジ
等を介してウェハ２の半径方向（ターンテーブル１の回
転中心から放射方向）に移動可能になっている。遮光板
12は、照射部４及び受光部８がウェハ２より離れた位置
に移動した際に、照射部４からの露光光束６の一部を遮
断するようにウェハ２と概略同じ高さで駆動部10の移動
範囲内に固設されている。更に遮光板12には露光光束６
を一部遮光する基準縁部12aが形成されていて、その基
準縁部12aはウェハ２の周縁部とほぼ並行に配置されて
いる。又、駆動部10の移動位置を検出するために、エン
コーダ、ポジションスケール、干渉計等からなる位置検
出器13が配置されている。この位置検出器13は駆動部10
の移動ストローク全域をカバーする測長範囲を持つもの
でもよいが、遮光板12を露光速束６が照射する位置近傍
のみに制御された測長範囲を持ったものでもよい。

ここで、受光部８の構成と露光光束６及び遮光板12と
の各位置関係を第２図を用いて説明する。受光部８は、
駆動部10の移動方向に細長く伸びた受光面から成る受光
素子8aと、ピンホール状のエッジセンサ8bと、遮光板12
から最も離れた位置に配置された受光素子8cとで構成さ
れている。この受光素子8aは遮光板12及びウェハ２で遮
光されずに受光部８に達した光量に応じたレベルの光電
信号Seを出力し、また受光素子8cは常に露光光束６の光
量に応じたレベルの光電信号Ｃを出力する。さらに、エ
ッジセンサ8bは遮光板12の基準エッジ12a、若しくはウ
ェハ２のエッジを定点検出するもので、エッジ12aが露
光光束６の先端側（ウェハ側）からｌの範囲内のときは
大きなレベルになり、ｌ以上のときはほぼ零となる光電
信号Ｂが出力する。この受光部８には露光光束６が図示
のように照射され、受光部８と露光光束６との相対位置
は変化しない。即ち露光光束６の先端とエッジセンサ8b
との距離ｌは予め設定されており、遮光板12若しくはウ
ェハ２が露光光束中に進入してきてエッジセンサ8bで受
光される光束を遮光した位置で、遮光板12若しくはウェ
ハ２上での露光幅がｌとなるようになっている。尚、露
光幅を任意の値Ｌに設定する場合は、露光幅ｌの位置を
基準としてＬ−ｌの値に対応した量だけ位置検出13で位
置検出しながら駆動部10を移動する、このようにして遮
光板12上で露光幅が任意の値Ｌとなるようにして露光光
束６を照射し、このとき受光部８で得られた信号Seをサ
ーボ用基準信号Sbとして周縁露光制御部14に記憶する。
これは後で述べるキャリブレーション動作で必要とされ
る構成である。

第３図は、本発明の実施例による周縁露光装置の制御
系の全体構成を示すブロック図である。受光部８は、照
射部４から発生した露光光束６のうち遮光板12、又はウ
ェハ２によって遮光されずに透過した光束を受光して、
その光量に応じたレベルの検出信号Seを周縁露光制御部
14に出力する。また、遮光板12の基準エッジ12a、若し
くはウェハ２のエッジを検出した際に光電信号Ｂを信号
処理部30に出力する。信号処理部30は受光部８からの光
電信号Ｂを入力し、エッジ検出信号Ｅをキャリブレーシ
ョン動作制御部16に出力する。キャリブレーション動作
制御部16は、信号処理部30からのエッジ検出信号Ｅ、位
置検出器13からの位置信号Sp（後述の露光幅ｌ′に対
応）、周縁露光制御部14からの周縁部の必要露光領域
（設定露光幅Ｌ）に関するデータD₁とを入力して、モー
タ11に対する回転制御信号Ｇを出力すると共に、周縁露
光制御部14に対して受光部８からの検出信号Seを基準信
号として記憶させるための記憶制御信号Ｍを出力する。
周縁露光制御部14は、周縁部の必要露光領域（設定露光
幅Ｌ）に関するデータD₁、適正露光量に関するデータ
D₂、光源５（又は、光源５内に設けられたシャッタ）の
ON,OFFに関するデータD₃、受光部８の検出信号Se、及び
その検出信号Seをサーボ基準信号（目標値）Sbとして記
憶するための記憶制御信号Ｍを入力すると共に、回転制
御系17に対する速度信号Stと、サーボ制御部15に対する
偏差信号Sdと、キャリブレーション動作制御部16に対す
るデータD₁と、光源５に対するデータD₃を夫々出力す
る。ウェハを回転させる回転制御系17は、周縁露光制御
部14から回転速度に関する信号Stを入力し、モータ３を
回転させてターンテーブル１を回転する。タコジェネレ
ータTGはモータ３の回転速度に応じた信号を回転制御系
17にフィードバックして常に制御された速度でターンテ
ーブル１を回転できるようになっている。サーボ制御部
15は、周縁露光制御部14から、基準信号Sbとして記憶し
た目標信号レベルと受光部８からの信号レベルとの偏差
信号Sdを入力し、モータ11にサーボドライブ信号Ssを出
力する。モータ11は、周縁露光動作時に於いては、その
サーボドライブ信号Ssを、またキャリブレーション動作
時に於いては、キャリブレーション動作制御部16からの
制御信号Ｇを入力して駆動部10を駆動する。駆動部10
は、モータ11によって照射部４及び受光部８を一体に移
動させる。

さらに、周縁露光制御部14とキャリブレーション動作
制御部16について第４図を参照しながら詳細に説明す
る。信号処理部30はエッジセンサ8bで検出された光電信
号Ｂを入力し、遮光板12の基準エッジ12a（又はウェハ
エッジ）がエッジセンサ8bの上を横切るときに論理値が
反転する２値化されたエッジ検出信号Ｅをカウンタ31に
出力する。このカウンタ31は位置検出器13からの位置信
号（パルス）Spを計数するものである。カウンタ31は信
号処理部30からの検出信号Ｅを入力し、エッジ検出信号
Ｅの論理値が反転する時点で計数値を基準露光幅ｌに対
応する値にプリセットする。カウンタ31から出力される
実際の露光幅に関する計数値ｌは任意の設定露光幅に関
する情報Ｌとともに減算器32に入力し、２つの情報L,
l′の差Ｆを演算して比較器33に出力する。比較器33は
Ｆが０かどうかを判断し、差Ｆが零になったときには記
憶部34へ記憶制御信号Ｍを出力し、差Ｆが零になってい
ないときは差Ｆが小さくなるような回転信号Ｇをスイッ
チSWbを介してモータ11へ出力する。記憶部34は受光部
８の受光素子8aからの検出信号Seをアナログ除算器36に
より受光素子8cからの信号Ｃで除算した信号をスイッチ
SWaを介して入力し、記憶制御信号Ｍを受けた時点で信
号Se/Cを記憶する。記憶部34は保持した信号Se/Cをサー
ボ基準信号Sbとして演算部35に出力し、演算部35は受光
部８からアナログ除算器36,スイッチSWaを介して得られ
る信号Se/Cを入力して、その２つの信号の偏差信号Sdを
演算してサーボ制御部15に出力する。尚、第４図中に２
つのスイッチSWa,SWbはいずれもキャリブレーション時
の状態を示し、ウェハへの周縁露光時には両方とも切り
替えられる。上記第４図の構成で、記憶部34と演算部35
は第２図中の周縁露光制御部14に相当し、また、第２図
中のキャリブレーション動作制御部16は信号処理部30、
カウンタ31、減算器32、比較部33で構成されている。ま
た第２図中の周縁露光制御部14とキャリブレーション動
作制御部16の機能はマイクロコンピュータ等のソフトウ
ェアで代用することができる。

次に、本発明の実施例による周縁露光装置の動作につ
いて第５図に基づいて説明する。先ず、実際の露光を開
始する前に周縁露光時のサーボ用基準信号を得るための
キャリブレーション動作を行う。周縁露光制御部14は、
任意の周縁露光においてのキャリブレーションが終了し
ているかどうかを判断する（ステップ101）。キャリブ
レーションの実行タイミングは、例えば露光すべきウェ
ハの連続する同一処理のロット（ウェハ25枚）毎、また
は光源５の発光点のゆらぎをモニターするセンサが変化
を検知した時点等に行われる。キャリブレーションが終
了していない時は、照射部４から露光光束６を照射する
（ステップ102）。これは、データD₃の露光開始信号
（光源ON）が周縁露光制御部14から光源５（又はその内
に設けられたシャッタ）に伝達されることにより、照射
部４からの露光光束６が遮光板12で遮られることなく受
光部８へ射出される。この時、受光部８で検出される露
光量（信号Se/Cのレベル）と目標等光量とに基づいて、
ウェハの回転速度に関する情報Stを求める（ステップ10
3）。次に、駆動部10を駆動して照射部４と受光部８と
を遮光板12の基準縁部12aへ移動する（ステップ104）。
遮光板12の基準縁部12aが受光部８のエッジセンサ8bに
達して信号処理部30がエッジ検出信号Ｅを出力すると
（ステップ105）、カウンタ31の計数値は基準露光幅の
値ｌにプリセットされる（ステップ106）。周縁露光時
の設定露光幅Ｌと基準値ｌとが異なる場合は、さらにカ
ウンタ31の計数値ｌ′が任意の設定露光幅Ｌになる位置
まで照射部４と受光部８を移動しながら（ステップ10
7）、減算器32でカウンタ31の計数値ｌ′と設定露光幅
Ｌとの差Ｆ、即ちＬ−ｌ′を求める（ステップ108）。
比較器33でその差Ｆが０になったか否かを判断する（ス
テップ109）。この時、Ｆ＝０ならばモータ11の回転を
止め、設定部34に記憶制御信号Ｍを出力する。一方、Ｆ
≠０ならばＦ＝０となるまで引き続き発光部４と受光部
８を移動する（ステップ107〜109）。記憶部37は記憶制
御信号Ｍが入力されると、受光部８の受光素子8a,8bで
検出された信号Seを、露光光束６の強度値（信号Ｃ）で
規格化した信号Se/Cをサーボ基準信号Sbとして記憶する
（ステップ110）。以上のことによりキャリブレーショ
ン動作が終了する。

次に、上記のキャリブレーションに基づいてウェハの
周縁露光を行う。先ず、駆動部10は、予めサーボ制御部
15に記憶されている遮光板12の基準縁部12aとウェハ２
の設計上の外周部との概略的な距離に基づいて、位置検
出器13、若しくは不図示の別設の位置検出器で位置検出
しながら、照射部４と受光部８とを一体にウェハ２の周
縁部まで移動する（ステップ111）。次に、ステップ102
と同様にして露光光束６を照射し、受光部８で検出され
る信号Se/Cを周縁露光制御部14内の偏差演算部35に入力
する（ステップ112）。周縁露光制御部14は、予め記憶
されているサーボ用基準信号Sbと、受光部８から作られ
る信号Se/Cとを、偏差演算部35で比較して偏差信号Sdを
求め（ステップ113）、これをサーボ制御部15に送る。
一方回転制御系17は、先に求めておいた速度情報Stに基
づいてモータ３の回転速度を制御してターンテーブル１
を所定の速度で回転させる（ステップ114）。モータ３
にはタコジェネレータTGが接続されており、回転速度を
回転制御系17にフィードバックして常に一定の速度でタ
ーンテーブル１を回転できるようになっている。され、
サーボ制御部15は周縁露光制御部14からの偏差信号Sdが
零になるように、即ち露光光束６とウェハ２のエッジと
の相対的な位置関係が常に一定となるようにスイッチSW
bを介してモータ11にサーボ信号Ssを送って照射部４及
び受光部８の駆動部10をサーボ制御する（ステップ11
5）。これによりウェハ２のエッジから半径方向へ所定
の距離の領域が一定の幅で均一に露光される。また同時
に露光光束６のうちビームスプリッタ９により反射され
た光束は、第７図に示すようなウェハ裏面に回り込んだ
レジスト18をも露出する。そしてウェハが所定回転した
後、周縁露光制御部14には光源OFF信号D₃が入力された
１枚のウェハに対する周縁露光が終了する（ステップ11
6）。

上述の実施例では、キャリブレーション動作の前と周
縁露光動作の前とで照射部４を点灯して露光光束６を射
出するようにしたが、照射部４及び受光部８の移動中に
も露光光束６を射出していても構わない。尚、サーボ制
御部15に遮光板12の基準縁部12aとウェハ２の設計上の
外周部との距離に関する情報が記憶されていない場合
は、照射部４から露光光束６を射出しながら照射部４と
受光部８を一体にウェハ２の周縁部の方向へ移動する。
この際、周縁露光制御部14は、検出信号Seの強度の変化
に基づいてウェハ２のエッジを検出し、その後、前述の
実施例と同様に周縁露光制御部14からの偏差信号Sdに基
づいてサーボ制御部15によりモータ11を回転し駆動部10
をサーボ制御する。尚、本実施例におけるウェハ２、又
は遮光板12のエッジ検出は、露光光束６を用いて行うよ
うにしたが、エッジ検出を別に行う装置を設けても構わ
ない。例えば第８図に示すように、照射部４及び受光部
８の近傍に非露光光束19を発生する照射部20と非露光光
束19を受光する不図示の受光部とで構成されたエッジ検
出器を設け、非露光光束19の少なくとも一部がウェハ２
等によって遮光される位置と露光光束６がウェハ２等に
よって遮光される位置とを対応付けておく。この場合、
露光光束６と非露光光束19とは円周方向にある角度をも
ってずれて配置されており、ウェハ２の回転中にオリエ
ンテーションフラット部を検出する際には、露光光束６
と非露光光束19との対応付けが曖昧になる。そこで、露
光光束６と非露光光束19との間をウェハ２が通過する時
間に応じてサーボ応答遅れ（又は単なるディレイ）をか
けておくようにする。このようにすれば、エッジ検出を
露光光束６の位置と別の位置で行っても何ら問題はなく
なる。またこの場合、非露光光束19の位置は、ウェハ回
転方向に応じて露光光束６よりも先にエッジ検出するよ
うに配置される。

以上、本発明による実施例においてはウェハ等の円形
基板を用いたが、角形基板を用いても勿論構わない。

次に、駆動部10の送り機構の形性を説明する。

第９図，第10図は、夫々、本実施例に於ける駆動部10
の送り機構の変形例の概略的な構成を示す正面図、及び
平面図である。ローラ21とローラ22は回転アーム23の両
端に固定され、回転アーム23はローラ21とローラ22の回
転軸間のほぼ中点を回転軸としてモータ24により往復回
転する。移動ブロック25の移動方向の両端には、垂直に
懸架された少なくとも２つの当接子28a,28bが形成さ
れ、移動ブロック25はバネ（ここでは引っ張りバネ）27
によりローラ21、或いはローラ22に押し付けられながら
リニアガイド26に沿って直進する。尚、移動ブロック25
は本実施例の駆動部10と直接、或いは間接的に固定され
ている。又、ローラ21とローラ22との間隔（回転軸中心
間の距離）と、当接子28a,28bの間隔（当接面間の距
離）とはほぼ等しくなっている。

次に、本機構の動作について第11図を用いて説明す
る。まず、第11図（ａ）の状態でモータ24が駆動されて
アーム23が時計方向に回転すると、移動ブロック25は、
バネ力によって当接子28aがローラ21に押し付けられな
がら徐々に図中右方向に直進移動して第11図（ｂ）のよ
うな状態になる。第11図（ｂ）の状態からアーム23が時
計方向に約90゜回転すると第11図（ｃ）のようにローラ
22が当接子28bに当たり初め、それと同時にローラ21は
当接子28aから離れる。さらに回転アーム23が回転する
と、第11図（ｄ），（ｅ）のように、移動ブロック25は
ハネ力によって当接子28bがローラ22に押し付けられな
がら、右方へ直進移動し続ける。以上のようなカム機構
を駆動部10に用いれば、比較的小さなスペースで移動量
の大きな駆動装置を得ることができる。

〔発明の効果〕

以上のように本発明によれば、発光部と受光部とがウ
ェハから離れた位置に退避した時に遮光板を用いてキャ
リブレーション動作を行って、露光時のサーボ用基準信
号を求めているので、実際の露光光束強度及び強度分布
に応じて適正な露光量で周縁露光できる。また、ビーム
スプリッタを用いてウェハ裏面に露光光束を反射させれ
ば、裏面に回り込んだレジストも露光できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例による周縁露光装置の概略的な
構成を示す図、第２図は本発明の実施例による周縁露光
装置の受光部の構成を示す図、第３図，第４図は本発明
の実施例による周縁露光装置の制御系の構成を示すブロ
ック図、第５図は本発明の実施例による周縁露光装置の
動作を示すフローチャート、第６図は露光光束の強度分
布、及び受光部の信号強度を示す図、第７図はレジスト
が塗布されたウェハの断面図、第８図は本発明の実施例
による周縁露光装置におけるエッジ検出の他の方法を示
す図、第９図，第10図は本発明の実施例による周縁露光
装置に用いて好適な送り機構の変形例の概略的な構成を
示す図、第11図は本発明の実施例による周縁露光装置に
用いて好適な送り機構の変形例の動作を示す図である。〔主要部分の符号の説明〕１……ターンテーブル、２……ウェハ、3,11……モー
タ、４……発光部、５……光源、６……露光光束、７…
…絞り、８……受光部、９……ビームスプリッタ、10…
…駆動部、12……遮光板、13……位置検出器、14……周
縁露光制御部、15……サーボ制御部、16……キャリブレ
ーション動作制御部、17……回転制御系、Sb……サーボ
基準信号、Se……光量検出信号、Sd……偏差信号、Ss…
…サーボ信号。

フロントページの続き (72)発明者内藤雅喜宮城県名取市田高字原277番地株式会社仙台ニコン内 (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) H01L 21/027 G02F 7/20

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】レジストをほぼ均一に塗布した基板の中央
近傍を中心として、該基板を回転手段によって回転させ
ながら該基板の周辺部を露光する周縁露光装置に於い
て、前記基板のレジストを感応させる特性を有する光束を射
出する照射手段と、前記基板の周縁部を挟むように前記照射手段と対向して
配置された受光手段と、前記照射手段からの光束と前記基板とを該基板の半径方
向に相対的に移動させる移動手段と、前記移動手段の移動範囲内で、且つ前記基板とほぼ同一
平面内の空間に該基板の周縁部とほぼ並行した基準部材
を伴って配置された遮光部材と、前記移動手段の位置情報を検出する検出手段と、前記光束が前記相対移動の方向に関して所定の基準量だ
け遮光される如く該光束と前記遮光部材の基準縁部とを
位置付けたときに、前記受光手段から出力された信号を
基準値として記憶する記憶手段と、前記基板の周縁部分を前記光束で露光する際、前記受光
手段から出力された信号が前記記憶手段に記憶された基
準値と常に所定の関係に維持されるように、前記移動手
段をサーボ制御するサーボ制御手段とを備え、前記基板
の周縁部の回転半径方向に関する露光幅を前記基準値に
対応した幅に制御することを特徴とする円縁露光装置。
【請求項２】前記移動手段は、前記検出手段からの情報
に基づいて前記遮光部材と前記光束との相対位置を設定
することを特徴とする請求項１に記載の周縁露光装置。
【請求項３】基板の表面に塗布されたレジストを感応さ
せるエネルギービームを照射する照射手段を用いて前記
基板の周辺部を露光する周縁露光方法において、前記表面に平行な方向に沿って前記基板から所定距離離
れた位置に、前記基板の周辺部に応じた基準エッジを有
した基準部材を配置するステップと、前記基準部材と前記照射手段を相対移動して、前記照射
手段の前記平行な方向に関する位置情報を検出するステ
ップとを含むことを特徴とする周縁露光方法。
【請求項４】前記基準部材は前記基準とほぼ同じ高さに
なるように配置されていることを特徴とする請求項３に
記載の周縁露光方法。
【請求項５】前記照射手段の前記平行な方向に関する位
置情報を検出するステップは、複数の前記基板を同一処
理するロット毎に実行されることを特徴とする請求項３
に記載の周縁露光方法。