JP3223826B2 - 基板上の不要レジスト露光装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性レジストを
塗布した基板における周辺の不要レジストを除去するた
めの露光を行う基板上の不要レジスト露光装置に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】例えばＩＣ、ＬＳＩ等の製造工程におい
ては、半導体ウエハの表面に感光性のレジストを塗布
し、この塗布層をマスクを介して露光して現像すること
により、回路パターンを形成することが行われている。
半導体ウエハの表面にレジストを塗布する方法として
は、一般に、ウエハを回転台上に載置し、このウエハの
表面の中心付近にレジストを滴下して回転させ、遠心力
によってウエハの表面全体にレジストを塗布するスピン
コート法が用いられている。

【０００３】このようなスピンコート法においては、レ
ジストは、ウエハのパターン形成領域だけではなく、ウ
エハの周辺部にもレジストが塗布されることになるが、
本来、ウエハの周辺部にはレジストを塗布する必要がな
い。これは、ウエハが、種々の処理工程に付される際
に、その周辺部を利用して搬送され或いは保持されるこ
とが多く、また周辺部ではパターンの歪みが生じやすい
ため、通常、ウエハの周辺部をパターン形成領域として
利用することがないからである。そして、ウエハの周辺
部に塗布された不要レジストを残したままにしておく
と、レジストがポジ型レジストである場合には、パター
ン形成工程において周辺部が露光されないために現像後
も当該周辺部にレジストが残留し、種々の問題が生ず
る。

【０００４】すなわち、ポジ型レジストとして用いられ
るフェノールノボラック−キノンアジド系樹脂は、一般
に、樹脂そのものが固くてもろいものであるため、処理
工程中において、ウエハを搬送するためにその周辺部を
掴んだり、また搬送中に周辺部を擦ったりすることによ
って、ウエハの周辺部に機械的ショックが加えられる
と、ウエハの周辺部のレジストの一部が欠落し、これが
ダストとなって悪影響を及ぼすことがある、という問題
がある。特に、ウエハの搬送中に、レジストが欠落して
これがウエハの表面上に付着した場合には、この付着部
分がエッチングされず、所望の形態を有する回路パター
ンが形成されなっかったり、この付着物がイオン注入時
にマスクとして作用することにより、必要なイオン打ち
込みが阻害されたりして、歩留りを低下させることがあ
る。

【０００５】以上のような理由から、一般に、ウエハの
周辺部に塗布された不要レジストを除去することが行わ
れている。不要レジストを除去する方法としては、ウエ
ハにおけるパターン形成領域のレジスト塗布層の露光工
程とは別個に、露光装置により、ウエハの周辺部のレジ
スト塗布層を露光し、このレジスト塗布層を現像工程で
除去する方法が知られている。

【０００６】ウエハの周辺部のレジスト塗布層を露光す
るための具体的な方法としては、ウエハの外周縁から内
側に一定の幅の領域だけほぼ円環状に露光する円環状露
光法（例えば特開平２−１１１４号公報参照）や、ウエ
ハのパターン形成領域の外縁に沿って階段状に露光する
階段状露光法（例えば特開平４−２９１９３８号公報参
照）が知られている。

【０００７】図１４は、従来のウエハ上の不要レジスト
露光装置により、円環状露光法によりウエハの周辺部を
露光する状態の一例を示す説明図である。この不要レジ
スト露光装置は、複数の光学繊維が束ねられた光学繊維
束よりなる導光ファイバ４により光源（図示省略）から
出射部５に導かれた光を、ウエハ１のパターン形成領域
２の外側の周辺部３に照射し、ウエハ１を回転移動させ
ることにより、周辺部３全体を露光するものである。Ｌ
は、ウエハ１の周辺部３における光照射領域である。な
お、出射部５は、当該出射部５から照射される光によっ
て、ウエハ１の外周縁から一定の幅の領域だけほぼ円環
状に露光されるよう、不図示の位置制御機構により常に
位置制御される。

【０００８】上記の不要レジスト露光装置においては、
一般に、導光ファイバ４からの光は出射部５に設けられ
た適宜の投影レンズを介して周辺部３に照射される。従
って、光照射領域Ｌの形状は、導光ファイバ４の光出射
端の形状により定まる。然るに、導光ファイバ４は複数
の光学繊維が束ねられた光学繊維束よりなるものである
ため、導光ファイバ４の出射端面を投影レンズの焦点位
置とすると、各光学繊維における例えば円形の輪郭がウ
エハ１の周辺部３に投影されて結像してしまうので、光
照射領域Ｌにおける照度分布が不均一となり、ウエハ１
を回転移動させて周辺部３全体を露光するときに、周辺
部３において積算露光量の不均一が生じる。このような
問題を回避するためには、各光学繊維における例えば円
形の輪郭が結像することなく導光ファイバ４からの光が
ウエハ１の周辺部３に照射されるように、投影レンズ
を、導光ファイバ４の出射端面の位置が当該投影レンズ
の焦点位置から外れるよう配置することにより、出射部
５からの光によって形成される光照射領域Ｌの照度分布
の均一化を図る手段が考えられる。しかしながら、この
ような手段においては、光照射領域Ｌと光が照射されて
いない領域（以下、「非照射領域」という。）との境界
近傍における光の照度分布の変化がシャープなものでは
ないので、ウエハ１のパターン形成領域２の外縁２ａに
対してシャープに露光することができず、そのため、露
光現像後においては、パターン形成領域２の外縁２ａ上
に位置される部分のレジスト形状がテーパ状のものとな
ってレジストの厚みの小さい部分が発生する。その結
果、レジストの厚みの小さい部分が剥離しやくなり、上
述したような歩留りの低下などの種々の問題が生ずる。

【０００９】このような問題を解決するため、導光ファ
イバの出射部において、当該導光ファイバの光出射端に
ギャップを介して光透過用開口を有する板状のアパーチ
ャ部材が配置されると共に、このアパーチャ部材の光透
過用開口の位置が焦点位置となるよう投影レンズが配置
されてなる露光装置が提案されている（特開平８−３１
７３０号公報参照）。このような露光装置によれば、導
光ファイバの光出射端の位置と投影レンズの焦点位置と
の間にギャップが存在するので、各光学繊維における例
えば円形の輪郭がウエハの周辺部に結像することはな
い。そして、この導光ファイバの光出射端からの光は、
アパーチャ部材の光透過用開口によって整形された状態
でウエハの周辺部に照射されるので、形成される光照射
領域は、非照射領域との境界近傍における光の照度の変
化を光透過用開口の開口縁の厚みに応じてシャープなも
のとすることができ、ウエハのパターン形成領域の外縁
に対してある程度シャープに露光することが可能とな
る。

【００１０】しかしながら、上記の露光装置において
は、次のような問題がある。上記のようにウエハのパタ
ーン形成領域の外縁に対してシャープに露光するために
は、アパーチャ部材の光透過用開口における開口縁の厚
みが小さいものであることが重要である。よって、アパ
ーチャ部材の光透過用開口における開口縁の厚みを小さ
くするため、当該開口縁をナイフエッジ状に加工する手
段が知られているが、このような手段では、得られる開
口縁の厚みは、２００〜３００μｍ程度であり、しか
も、加工精度上の問題により、当該開口縁には、５０〜
６０μｍ程度の粗さが存在するので、形成される光照射
領域と非照射領域との境界近傍における光の照度の変化
を十分にシャープなものとすることができない。

【００１１】さらに、投影レンズや導光ファイバに劣
化、損傷等が生じたときには、当該投影レンズまたは当
該導光ファイバを新たなものと交換する必要があるが、
特に、階段状露光法によりウエハを露光する場合には、
次のような理由により交換作業が煩雑となる。すなわ
ち、階段状露光法においては、一般に、適宜の制御機構
を用い、この制御機構にウエハの露光すべき部分の情報
を記憶し、ウエハが載置される処理台上における当該ウ
エハの載置状態を検知し、その情報によって、記憶され
たウエハの露光すべき部分の情報を補正し、この補正さ
れた情報に基づいて光出射部をウエハに対して相対的に
移動させる。以上において、ウエハ上には、前述したよ
うに、アパーチャ部材の光透過用開口によって整形され
た形状の光が照射されるので、制御手段に記憶されるウ
エハの露光すべき部分の情報は、アパーチャ部材の光透
過用開口の位置情報である。然るに、投影レンズや導光
ファイバを新たなものに交換する場合には、出射部が取
り外されると共にアパーチャ部材も取り外されてしまう
ので、出射部を再び取り付ける際には、ウエハの露光す
べき部分の情報すなわちアパーチャ部材の光透過用開口
の位置情報をその都度補正することが必要となり、交換
作業が煩雑となる。

【００１２】更に、階段状露光法に用いられる露光装置
においては、以下のような問題がある。階段状露光法に
おいては、出射部とウエハとを、例えばＸ−Ｙステージ
等による移動手段によって一方向およびこれと垂直な他
方向に相対的に移動させることにより、出射部からの光
によって形成される光照射領域がウエハの周辺部上にお
いて階段状に走査されて当該ウエハの周辺部が露光され
る。以上において、アパーチャ部材を介して形成される
光照射領域は直角な頂部を有する形状とされ、この頂部
を形成する一辺および他の一辺の伸びる方向は、以下の
理由により、それぞれ前記一方向および前記他方向に平
行であることが必要である。図１５（イ）に示すよう
に、光照射領域Ｌの頂部Ｌａを形成する一辺Ｌｂおよび
他の一辺Ｌｃが、光照射領域Ｌが移動する一方向Ｘおよ
び他方向Ｙに対して傾いていると、ウエハの周辺部３に
おける内側部３ｃの積算露光量が、当該内側部３ｃより
外側の部分３ｄの積算露光量より小さくるため均一な露
光を行うことができず、その結果、パターン形成領域２
の外縁２ａ付近に位置される部分（内側部３ｃ）のレジ
スト形状がテーパ状のものとなってレジストの厚みの小
さい部分が発生し、上述したような歩留りの低下などの
種々の問題が生ずる。また、図１５（ロ）に示すよう
に、階段状のパターン形成領域２における角部２ｂ付近
において、光照射領域Ｌを当該パターン形成領域２の外
縁２ａに沿って忠実に移動させることができず、従っ
て、角部２ｂを直角に露光することができず、所期の露
光を達成することが困難となる。よって、現像後も、角
部２ｂ付近に不要レジストが残留するという不具合が発
生してしまう。

【００１３】このような事情から、階段状露光法に用い
られる露光装置を製造する際には、出射部に組み込まれ
るアパーチャ部材の姿勢を調整し、アパーチャ部材を介
して形成される光照射領域の直角な頂部をなす辺が、Ｘ
−Ｙステージ等による移動手段が出射部とウエハとを相
対的に移動させる移動方向（互いに直交する二方向）と
一致するようにすることが必要となる。この姿勢調整
は、例えばアパーチャ部材の姿勢を粗調整した状態で照
射部を組み立てた後、実際に出射部とウエハとを相対的
に移動させてレジストの露光処理を行い、これを現像し
てその結果に基づいて、出射部を分解してアパーチャ部
材の姿勢を微調整することを繰り返して行われる。従っ
て、アパーチャ部材の姿勢調整においては、出射部の組
立および分解を繰り返して行うことが必要となるため、
作業が極めて煩雑でありしかも長い時間を要する、とい
う問題がある。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に基づいてなされたものであって、その目的は、
アパーチャ部材を取り外すことなしに、投影レンズや導
光ファイバを容易に交換することができ、非照射領域と
の境界における光の照度の変化がシャープな光照射領域
を形成することができ、レジストを現像した後、パター
ン形成領域の外縁の膜厚が小さくなることによるレジス
トの剥離を低減することができる基板上の不要レジスト
露光装置を提供することにある。本発明の他の目的は、
アパーチャ部材の姿勢調整を容易に行うことのできる基
板上の不要レジスト露光装置を提供することにある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明の基板上の不要レ
ジスト露光装置は、基板上の周辺部における不要レジス
トを除去するための不要レジスト露光装置であって、光
源と、複数の光学繊維が束ねられてなる光学繊維束を有
し、その一端部における光入射端から他端部における光
出射端まで前記光源からの光を導光する導光ファイバ
と、この導光ファイバの他端部に設けられた、当該導光
ファイバの光出射端からの光を露光対象である基板に向
かって照射する照射ヘッドとを具えてなり、前記照射ヘ
ッドは、前記導光ファイバの光出射端からの光を整形す
るための遮光部および透光部を有し、その一面における
透光部が前記導光ファイバの光出射端における前記光学
繊維束の端面に対向するよう配置されたアパーチャ部材
と、このアパーチャ部材を保持するためのアパーチャ部
材保持部材と、このアパーチャ部材保持部材に着脱自在
に設けられた、前記導光ファイバの光出射端からの光を
前記アパーチャ部材に導くよう、当該導光ファイバの他
端部を当該アパーチャ部材保持部材に接続する導光ファ
イバ接続部材と、前記アパーチャ部材保持部材に着脱自
在に設けられた、前記アパーチャ部材の光出射面が焦点
位置となるよう配置された投影レンズを有するレンズユ
ニットとを具えてなり、前記アパーチャ部材は、ガラス
板と、このガラス板の表面上における遮光部の領域に形
成された金属薄膜とよりなり、当該アパーチャ部材は、
前記アパーチャ部材保持部材により前記基板を基準とす
る特定の高さのレベルに保持されることを特徴とする。

【００１６】本発明の基板上の不要レジスト露光装置に
おいては、アパーチャ部材として、透光部を形成する光
透過用開口を有する金属薄板よりなるものを用いること
ができる。

【００１７】また、本発明の基板上の不要レジスト露光
装置においては、照射ヘッドには、アパーチャ部材が基
板を基準とする特定の高さのレベルに保たれた状態で回
動されることにより、当該アパーチャ部材の姿勢を調整
するアパーチャ部材姿勢調整機構が設けられていること
が好ましい。

【００１８】本発明においては、円環状露光法により、
基板上の周辺部における不要レジストを露光する場合に
は、アパーチャ部材保持部材を介してアパーチャ部材が
基板を基準とする特定の高さのレベルに保たれた状態で
変位することとなるよう、照射ヘッドと前記基板とを相
対的に移動させる移動手段が設けられ、この移動手段に
よって、前記照射ヘッドからの光によって形成される光
照射領域が、回転処理台上に配置された前記基板におけ
る円弧状の外縁を有するパターン形成領域の当該外縁に
沿って走査され、前記光照射領域は前記基板におけるパ
ターン形成領域の外縁の接線と平行な一辺を有する矩形
状であり、少なくとも前記一辺が前記アパーチャ部材に
よって整形されていることが好ましい。

【００１９】また、階段状露光法により、基板上の周辺
部における不要レジストを露光する場合には、アパーチ
ャ部材保持部材を介してアパーチャ部材が基板を基準と
する特定の高さのレベルに保たれた状態で変位すること
となるよう、照射ヘッドを一方向およびこれと垂直な他
方向に移動させる移動手段が設けられ、この移動手段に
よって、前記照射ヘッドからの光によって形成される光
照射領域が基板上において前記一方向および前記他方向
に走査され、前記光照射領域が前記一方向に対して実質
上４５度の斜め方向に伸び、当該光照射領域の少なくと
も一端側の輪郭が、前記一方向に伸びる一辺と前記他方
向に伸びる他の一辺とによる直角な頂部を有する形状で
あり、少なくとも前記一辺および他の一辺が、アパーチ
ャ部材によって整形されていることが好ましい。

【００２０】更に、階段状露光法により、基板上の周辺
部における不要レジストを露光する場合には、上記の照
射ヘッドを移動させる移動手段の代わりに、基板を一方
向およびこれと垂直な他方向に移動させる移動手段を設
けることができ、この移動手段によって、照射ヘッドか
らの光によって形成される光照射領域が基板上において
前記一方向および前記他方向に走査され、前記光照射領
域が前記一方向に対して実質上４５度の斜め方向に伸
び、当該光照射領域の少なくとも一端側の輪郭が、前記
一方向に伸びる一辺と前記他方向に伸びる他の一辺とに
よる直角な頂部を有する形状であり、少なくとも前記一
辺および他の一辺が、アパーチャ部材によって整形され
ていることが好ましい。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の基板上の不要レジ
スト露光装置について詳細に説明する。図１は、本発明
の基板上の不要レジスト露光装置（以下、単に「露光装
置」ともいう。）の一例における光照射手段の構成の概
略を示す説明図である。この露光装置においては、箱状
の灯体１０が設けられ、この灯体１０内には、例えばシ
ョートアーク型の放電ランプよりなる光源１１と、この
光源１１からの光を下方に反射して集光する楕円集光鏡
１２と、楕円集光鏡１２からの光を横方向（図で右方）
に反射する板状の平面反射鏡１３と、シャッタ１４と、
特定の波長の光を透過するフィルタ１５とが設けられて
いる。具体的には、楕円集光鏡１２がその鏡面が下方を
向くよう配置され、この楕円集光鏡１２の第１焦点の位
置に光源１１が配置され、光源１１の下方の位置に例え
ば４５°に傾斜した状態で平面反射鏡１３が配置され、
この平面反射鏡１３の側方（図で右方）には、シャッタ
１４およびフィルタ１５がこの順で並ぶよう配置されて
いる。

【００２２】灯体１０の一面（図で右面）には、これを
貫通するよう筒状の保持部材１６が設けられており、こ
の保持部材１６に導光ファイバ２０が接続されている。
具体的に説明すると、導光ファイバ２０は、例えば径が
０．３ｍｍの光学繊維が数千本束ねられてなる光学繊維
束２１を有し、この光学繊維束２１には、その外周を覆
うようフレキシブルな可撓管２４が設けられている。そ
して、導光ファイバ２０の一端部（一方の端部）は、取
り付け部材２５を介して保持部材１６の筒内に挿入され
ており、導光ファイバ２０の光入射端２２における光学
繊維束２１の端面が楕円集光鏡１２からの光の集光位置
に配置されている。取り付け部材２５は、ボルト１７に
よって保持部材１６に固定されている。

【００２３】導光ファイバ２０の他端部（他方の端部）
には、照射ヘッド３０が設けられている。図２は、照射
ヘッド３０の一例における構成を示す説明用断面図であ
る。この照射ヘッド３０は、導光ファイバ２０の光出射
端２３からの光を整形するための遮光部および透光部を
有する板状のアパーチャ部材４０と、このアパーチャ部
材４０を、ウエハ１を基準とする特定の高さに保持する
ための筒状のアパーチャ部材保持部材３１と、このアパ
ーチャ部材保持部材３１に固定された導光ファイバ固定
部材３２と、この導光ファイバ固定部材３２を介してア
パーチャ部材保持部材３１に着脱自在に設けられた、導
光ファイバ２０の他端部をアパーチャ部材保持部材３１
に接続する筒状の導光ファイバ接続部材２６と、アパー
チャ部材保持部材３１に着脱自在に設けられたレンズユ
ニット３３とにより構成されている。

【００２４】具体的に説明すると、アパーチャ部材４０
は、その一面（図２において上面）における透光部が導
光ファイバ２０の光出射端２３における光学繊維束２１
の端面にギャップＧを介して対向するよう配置され、ア
パーチャ部材保持部材３１には、その筒孔における一端
部（図２において上端部）に段部３４が形成されてお
り、この段部３４においてアパーチャ部材４０が保持さ
れている。このように、アパーチャ部材４０と、導光フ
ァイバ２０の光出射端２３における光学繊維束２１の端
面との間にギャップＧを形成することにより、当該光出
射端２３が後述する投影レンズ３８の焦点位置から外れ
た状態となるため、当該光学繊維束２１の各光学繊維の
端面における例えば円形の輪郭がウエハ１の周辺部３に
結像されることを防止することができる。また、図示の
例では、アパーチャ部材保持部材３１の一端部には、そ
の外周に沿って鍔部３５が形成されている。

【００２５】そして、導光ファイバ固定部材３２は、ボ
ルト３６によりアパーチャ部材保持部材３１の一端に固
定されている。また、導光ファイバ２０の他端部（照射
ヘッド３０側の端部）は、その外周を覆うよう設けられ
た、導光ファイバ固定部材３２の内径に適合する外径を
有する管状の導光ファイバ接続部材２６を介して導光フ
ァイバ固定部材３２の筒内に挿入され、この状態で、導
光ファイバ接続部材２６が、ビス２７により導光ファイ
バ固定部材３２に着脱自在に固定されている。

【００２６】一方、レンズユニット３３においては、一
端部（図２において上端部）に、アパーチャ部材保持部
材３１の他端部（レンズユニット３３側の端部）の外径
に適合する内径を有する鏡筒３７が設けられ、この鏡筒
３７が、その一端部における筒内にアパーチャ部材保持
部材３１の他端部が挿入され状態で、アパーチャ部材保
持部材３１に着脱自在に保持されている。そして、鏡筒
３７内には、アパーチャ部材４０の他面すなわち光出射
側の面が焦点位置となるよう、複数枚のレンズよりなる
投影レンズ３８が配置されている。

【００２７】アパーチャ部材４０としては、図３（イ）
に示すように、ガラス板４１と、このガラス板４１の表
面上における遮光部の領域に形成された金属薄膜４２と
により構成されているものを用いることができ、このア
パーチャ部材４０においては、金属薄膜４２が形成され
ていない領域が透光部である。金属薄膜４２の厚みｔ１
は、例えば０．０５〜０．２μｍである。ガラス板４１
の表面上に金属薄膜４２を形成する手段としては、フォ
トリソグラフィによる手段を用いることが好ましく、こ
れにより、輪郭がシャープな透光部を形成することがで
きる。このようなアパーチャ部材４０を用いる場合に
は、金属薄膜４２が形成された面が投影レンズ３８に対
向するよう配置されると共に、投影レンズ３８は、その
焦点位置がアパーチャ部材４０の金属薄膜４２が形成さ
れた面（図３において下面）上に位置されるよう配置さ
れる。

【００２８】また、アパーチャ部材４０としては、図３
（ロ）に示すように、透光部を形成する光透過用開口４
３を有する金属薄板よりなるもの用いることができる。
このようなアパーチャ部材４０においては、これを構成
する金属薄板の厚みｔ２が２０〜２００μｍであること
が好ましい。金属薄板の厚みｔ２が２００μｍを超える
場合には、ウエハ１におけるパターン形成領域２の外縁
に対して十分にシャープに露光することができない場合
がある。一方、金属薄板の厚みｔ２が２０μｍ未満の場
合には、アパーチャ部材として十分な強度が得られない
ことがある。

【００２９】上記の露光装置においては、光照射手段に
おける照射ヘッド３０とウエハ１とを相対的に移動させ
るための移動手段が設けられる。円環状露光法によりウ
エハ１上の不要レジストを露光する場合には、移動手段
として、照射ヘッド３０からの光によって形成される光
照射領域が、回転処理台上に配置されたウエハ１におけ
る円弧状の外縁を有するパターン形成領域２の当該外縁
に沿って走査されるよう、照射ヘッド３０をウエハ１に
対して相対的に移動させるものが用いられる。

【００３０】このような移動手段の一例を図４に示す。
この図において、４５はウエハ１を回転させる回転機構
であって、ウエハ１が載置される処理台４６と、この処
理台４６を回転させるためのモータ４７とにより構成さ
れている。４８はアパーチャ部材４０の位置を制御する
位置制御機構であり、この位置制御機構４８は、照射ヘ
ッド３０におけるアパーチャ部材保持部材３１を保持す
ると共に、アパーチャ部材保持部材３１を介してアパー
チャ部材４０がウエハ１を基準とする特定の高さのレベ
ルに保たれた状態で変位することとなるよう、照射ヘッ
ド３０を移動させるものである。そして、回転機構４５
によってウエハ１を回転させつつ、位置制御機構４８に
よって照射ヘッド３０を移動させることにより、照射ヘ
ッド３０からの光によってウエハ１がその外周縁から一
定の幅の領域だけほぼ円環状に露光されるよう、アパー
チャ部材４０の位置が制御される。この位置制御機構４
８においては、例えばウエハ１の外縁の位置を検出する
エッジセンサ（図示省略）からの信号により、アパーチ
ャ部材４０の位置を制御することができる。

【００３１】このような円環状露光法によりウエハ１を
露光する場合には、照射ヘッド３０によって形成される
光照射領域がウエハ１のパターン形成領域２の円弧状の
外縁２ａの接線と平行な一辺を有する矩形状とされ、少
なくとも前記一辺がアパーチャ部材４０の遮光部によっ
て整形されることが好ましい。具体的には、導光ファイ
バ２０において、その光出射端２３における光学繊維束
２１の端面がウエハ１のパターン形成領域２の外縁２ａ
の接線と平行な一辺を有する略矩形状となるよう、各光
学繊維が束ねられており、当該光出射端２３から出射さ
れる略矩形状の光の一部がアパーチャ部材４０の遮光部
によって遮光されることにより、ウエハ１のパターン形
成領域２の外縁２ａの接線と平行な一辺が整形された矩
形状の光照射領域が形成される。

【００３２】図５は、円環状露光法によりウエハ１上の
不要レジストを全周にわたって一定の幅で露光する場合
に用いられるアパーチャ部材の透光部および遮光部の形
状の一例を示す説明図であり、図５（イ）は、図３
（イ）の構成のアパーチャ部材における形状、図５
（ロ）は、図３（ロ）の構成のアパーチャ部材における
形状を示す。図５（イ）に示すアパーチャ部材４０にお
いては、矩形のガラス板４１の表面上における一端部分
に矩形の金属薄膜４２が形成され、これにより、当該一
端部分が遮光部とされると共に他の部分が透光部とされ
ており、一方、図５（ロ）に示すアパーチャ部材４０に
おいては、矩形の金属薄板の中央部分に光透過用開口４
３が形成され、これにより、当該光透過用開口４３が透
光部とされると共に他の部分が遮光部とされている。そ
して、いずれのアパーチャ部材４０においても、その遮
光部は、導光ファイバ２０の各光学繊維が略矩形状に束
ねられた光出射端２３からの光が直接投影レンズ３８を
介してウエハ１上に投影されたときに、その略矩形の投
影像Ｋにおけるウエハ１の中心側の一端部分Ｋ１を、ウ
エハ１のパターン形成領域２の外縁２ａの接線と平行な
方向に沿って遮光するよう形成されている。

【００３３】上記の露光装置においては、ウエハ１は、
そのパターン形成領域２の外側における周辺部３が照射
ヘッド３０の投影レンズ３８の焦点位置に位置されるよ
う処理台４６上に配置される。そして、楕円集光鏡１２
によって下方に反射された光源１１からの光は、更に平
面反射鏡１３によって横方向に反射され、シャッタ１４
およびフィルタ１５を介して、導光ファイバ２０の光入
射端２２に集光されて光学繊維束２１内に入射される。
この入射された光は、光学繊維束２１により導かれてそ
の他端面すなわち導光ファイバ２０の光出射端２３から
出射され、アパーチャ部材４０によって整形された後、
投影レンズ３８を介して、ウエハ１の周辺部３に照射さ
れ、これにより、図６に示すように、ウエハ１の周辺部
３には、ウエハ１のパターン形成領域２の外縁２ａの接
線方向を正面方向とする姿勢の矩形状の光照射領域Ｌを
形成することができる。そして、回転機構４５によって
ウエハ１を回転させると共に、位置制御機構４８によっ
て、ウエハ１が常に外周縁から一定の幅の領域だけ露光
される状態に照射ヘッド３０を移動させることにより、
光照射領域Ｌは、その整形された一辺がウエハ１のパタ
ーン形成領域２の外縁２ａに沿って移動するよう走査さ
れ、以って、ウエハ１におけるオリエンテーションフラ
ット部を含む周辺部３全体が露光される。

【００３４】上記の構成の露光装置によれば、アパーチ
ャ部材４０は、アパーチャ部材保持部材３１によってウ
エハ１を基準とする特定の高さに保持されており、レン
ズユニット３３は、アパーチャ部材保持部材３１に着脱
自在に設けられているため、投影レンズ３８を新たなも
のと交換する際には、レンズユニット３３をアパーチャ
部材保持部材３１から取り外すだけでよく、アパーチャ
部材４０はアパーチャ部材保持部材３１に保持されたま
まである。しかも、導光ファイバ接続部材２６は、導光
ファイバ固定部材３２を介してアパーチャ部材保持部材
３１に着脱自在に設けられているため、導光ファイバ２
０を新たなものと交換する際には、導光ファイバ接続部
材２６を導光ファイバ固定部材３２から取り外すだけで
よく、アパーチャ部材４０はアパーチャ部材保持部材３
１に保持されたままである。従って、投影レンズ３８お
よび導光ファイバ２０の交換を短時間で容易に行なうこ
とができる。

【００３５】また、ガラス板４１の表面上における遮光
部の領域に金属薄膜４２が形成されてなるアパーチャ部
材４０を用いる構成によれば、フォトリソグラフィの手
法により、金属薄膜４２の厚みを例えば０．０５〜０．
２μｍの相当に小さいものとすることができるので、形
成される矩形状の光照射領域Ｌは、アパーチャ部材４０
によって整形されたウエハ１のパターン形成領域２の外
縁２ａの接線と平行な一辺における光の照度の変化がシ
ャープなものとなる。また、機械加工を必要としないの
で、当該金属薄膜４２により形成される遮光部と透光部
との境界における外縁部の粗さを十分に小さくすること
ができる。また、このようなアパーチャ部材４０は、ガ
ラス板４１としてある程度の厚みを有するものを用いる
ことができるので、その取り扱いが容易である。

【００３６】また、アパーチャ部材４０として、透光部
を形成する光透過用開口４３を有する例えば厚みを２０
〜２００μｍ金属薄板よりなるものを用いることによ
り、光透過用開口４３における開口縁をナイフエッジ状
に加工することなしに、非照射領域との境界近傍におけ
る光の照度の変化がシャープな光照射領域Ｌを形成する
ことができる。

【００３７】そして、光照射領域Ｌにおける整形された
一辺をウエハ１のパターン形成領域２の外縁２ａの接線
に一致させた状態で、当該光照射領域Ｌを走査させるこ
とにより、ウエハ１のパターン形成領域２の外縁２ａに
対して高い精度でシャープに露光することができる。そ
の結果、露光現像後において、パターン形成領域２の外
縁２ａ上に位置される部分のレジスト形状をウエハ１に
対してほぼ垂直な状態とすることができ、これにより、
レジストの剥離を防止することができる。

【００３８】また、矩形状の光照射領域Ｌを形成するこ
とにより、ウエハ１の周辺部３における外側部３ａおよ
び内側部３ｃと中央部３ｂとおける積算露光量が均一と
なり、これにより、均一な露光が達成される。

【００３９】本発明の露光装置においては、ウエハ上の
周辺部におけるレジストの一部分のみを部分的に露光す
ることができる。図７は、ウエハの周辺部の不要レジス
トを部分的に露光する場合に用いられるアパーチャ部材
の透光部および遮光部の形状の一例を示す説明図であ
り、図７（イ）は、図３（イ）の構成のアパーチャ部材
における形状、図７（ロ）は、図３（ロ）の構成のアパ
ーチャ部材における形状を示す。図７（イ）に示すアパ
ーチャ部材４０においては、矩形のガラス板４１の表面
上における一端部分および両側部分にコ字形の金属薄膜
４２が形成され、これにより、当該部分が遮光部とされ
ると共に他の部分が透光部とされており、一方、図７
（ロ）に示すアパーチャ部材４０においては、矩形の金
属薄板の中央部分に光透過用開口４３が形成され、これ
により、当該光透過用開口４３が透光部とされると共に
他の部分が遮光部とされている。そして、いずれのアパ
ーチャ部材４０においても、その遮光部は、導光ファイ
バ２０の各光学繊維が略矩形に束ねられた光出射端２３
からの光が直接投影レンズ３８を介してウエハ１上に投
影されたときに、その略矩形の投影像Ｋにおけるウエハ
１の中心側の一端部分Ｋ１をウエハ１のパターン形成領
域２の円弧状の外縁２ａの接線と平行な方向に沿って遮
光すると共に、当該投影像Ｋ１におけるウエハ１のパタ
ーン形成領域２の外縁２ａの接線と略垂直な方向に伸び
る両側部分Ｋ２，Ｋ３を、ウエハ１のパターン形成領域
２の外縁２ａの接線と略垂直な方向に沿って遮光するよ
う形成されている。

【００４０】このようなアパーチャ部材４０を用いるこ
とにより、形成される矩形状の光照射領域は、ウエハ１
のパターン形成領域２の外縁２ａの接線と平行な一辺お
よびこの一辺に垂直な二辺における光の照度の変化がシ
ャープなものとなり、その結果、パターン形成領域２の
円弧状の外縁２ａのみならず、露光すべきウエハの周辺
部における一部分の両端縁Ｅ１，Ｅ２に対してもシャー
プに露光することができる。

【００４１】本発明においては、階段状のパターン形成
領域を有するウエハに対して、当該パターン形成領域の
外縁に沿って階段状に露光する露光装置を構成すること
ができ、この場合には、照射ヘッドに、アパーチャ部材
が基板を基準とする特定の高さレベルに保たれた状態で
回動されることにより、当該アパーチャ部材の姿勢を調
整するアパーチャ部材姿勢調整機構が設けられているこ
とが好ましい。図８は、階段状露光法に用いられる照射
ヘッドの構成を分解して示す説明用斜視図である。この
照射ヘッド３０は、図２に示す照射ヘッドと同様にし
て、アパーチャ部材４０と、アパーチャ部材保持部材３
１と、導光ファイバ固定部材３２と、導光ファイバ接続
部材２６と、レンズユニット３３とが設けられている。
そして、図９にも示すように、この照射ヘッド３０に
は、アパーチャ部材４０の姿勢を調整するアパーチャ部
材姿勢調整機構７０が設けられている。

【００４２】このアパーチャ部材姿勢調整機構７０は、
基本的に、アパーチャ部材４０を固定支持する略円形の
支持板７１と、この支持板７１を回動するための２つの
調整ネジ７５とにより構成されている。支持板７１は光
通過用貫通孔７２を有し、当該支持板７１の一面（図８
において上面）には段部７３が形成され、当該支持板７
１の周縁には２つの切欠部７４が形成されている。支持
板７１の段部７３には、アパーチャ部材４０がＬ字状の
板バネ７６により固定支持されている。そして、この支
持板７１は、アパーチャ部材保持部材３１の段部３４に
回動自在に配置されている。さらに、支持板７１は、導
光ファイバ接続部材３２に設けられたプランジャ７８に
よって、アパーチャ部材保持部材３１の段部３４に常に
一定の力で付勢されている。よって、支持板７１は、光
軸方向（図８において上下方向）に移動することがな
く、アパーチャ部材４０は、ウエハ１を基準とする特定
の高さのレベルに保たれる。一方、調整ネジ７５の各々
は、アパーチャ部材保持部材３１の外周面から段部３４
による凹所内に貫通するよう螺合して、前進、後退が可
能な状態で設けられており、各々の先端が支持板７１の
切欠部７４に当接した状態とされている。

【００４３】このようなアパーチャ部材姿勢調整機構７
０によれば、例えば次のようにしてアパーチャ部材４０
の姿勢が調整される。 （１）アパーチャ部材４０が支持された支持板７１を、
粗調整した状態で、アパーチャ部材保持部材３１の段部
３４に配置し、この状態で、照射ヘッド３０を組み立
て、当該照射ヘッド３０を後述する移動機構に装着す
る。 （２）移動機構により、例えば照射ヘッド３０を一方向
に移動させながら、実際にレジストの露光処理を行い、
更に照射ヘッド３０を移動させずにレジストが塗布され
たウエハの露光処理を行い、これを現像処理する。 （３）この露光・現像処理されたウエハを用い、照射ヘ
ッド３０を一方向に移動させながら露光することにより
帯状にレジストが除去された部分の伸びる方向と、照射
ヘッド３０を移動させずに露光することにより光照射領
域と同様の形態にレジストが除去された部分の一辺の伸
びる方向とのなす角を、顕微鏡等により測定する。 （４）上記のなす角が例えば０．５°を超える場合に
は、プランジャ７８によってアパーチャ部材がウエハ１
を基準とする特定の高さのレベルに保たれた状態で、移
動調整機構７０における一方の調整ネジ７５を後退させ
ながら、他方の調整ネジ７５を前進させて支持板７１の
切欠部７４を押圧することにより、当該支持板７１を回
動してアパーチャ部材４０を回動する。 （５）そして、上記のなす角が０．５°以下となるま
で、（２）〜（４）の操作を繰り返すことにより、アパ
ーチャ部材４０の姿勢が調整される。 （６）アパーチャ部材４０の姿勢調整が終了した後に、
露光処理中に調整ネジ７５が緩むことによって支持板７
１が回動してアパーチャ部材４０の姿勢がずれることを
防ぐため、調整ネジ７５は、ネジロック（図示省略）等
により固定される。

【００４４】また、階段状のパターン形成領域を有する
ウエハに対して、当該パターン形成領域の外縁に沿って
階段状に露光する露光装置を構成する場合には、移動手
段として、照射ヘッドによる光照射領域がウエハ上にお
いて一方向およびこれと垂直な他方向に走査されるよ
う、照射ヘッドとウエハとを相対的に移動させるものが
用いられる。

【００４５】図１０は、このような移動手段を具えた露
光装置の一例を示す説明図であり、この露光装置におけ
る光照射手段は、基本的に図１に示す構成と同様の構成
であって、図８に示す構成の照射ヘッド３０が設けられ
ている。図１０において、５０はウエハ１を回転させる
回転機構であって、ウエハ１が載置される処理台５１
と、この処理台５１を回転させるためのメガトルクモー
タ５２とにより構成されている。ウエハ１は、そのパタ
ーン形成領域２の外側における周辺部３が照射ヘッド３
０の投影レンズ３８の焦点位置に位置されるよう、処理
台５１上に配置される。６０は、アパーチャ部材保持部
材３１を介してアパーチャ部材４０がウエハ１を基準と
する特定の高さのレベルに保たれた状態で変位すること
となるよう、照射ヘッド３０を移動させる照射ヘッド移
動機構であって、Ｘテーブル６１と、このＸテーブル６
１をＸ方向に往復移動させるモータ６２と、Ｙテーブル
６３と、このＹテーブル６３をＹ方向に往復移動させる
モータ６４と、Ｙテーブル６３に取り付けられ、照射ヘ
ッド３０におけるアパーチャ部材保持部材３１の鍔部３
５に例えばボルト（図示省略）によって固定されて当該
アパーチャ部材保持部材３１を保持する支持アーム６５
とを有する。ここで、Ｙ方向は、例えば照射ヘッド３０
の先端から処理台５１の回転中心に向かう方向であり、
Ｘ方向はＹ方向に対して直角な方向である。従って、照
射ヘッド３０の先端は、Ｘテーブル６１およびＹテーブ
ル６３の移動によってウエハ１の周辺部３の上方におい
て互いに直交する２方向に移動することになる。６６は
例えばＣＣＤセンサよりなるウエハアライメント機構で
あって、処理台５１上におけるウエハ１の載置状態を検
出するものである。

【００４６】このような階段状露光法によりウエハを露
光する場合には、例えば図１１（イ）に示すように、照
射ヘッド３０からの光によって形成される光照射領域Ｌ
１がＸ方向に対して実質上４５度の斜め方向に伸び、当
該光照射領域Ｌ１の少なくとも一端側（図において右
側）の輪郭が、Ｘ方向に伸びる一辺Ｌ２とＹ方向に伸び
る他の一辺Ｌ３とによる直角な頂部Ｌ４を有する形状と
され、少なくとも一辺Ｌ２および他の一辺Ｌ３が、アパ
ーチャ部材の遮光部によって整形されることが好まし
い。ここで、「実質上４５度」には、４５度±２０度ま
での角度範囲が含まれるものとする。具体的には、例え
ば図１１（ロ）に示すように、導光ファイバ２０におい
て、その光出射端２３における光学繊維束２１の端面Ｔ
がＸ方向およびＹ方向に平行な２辺を有する複数の正方
形をＸ方向に対して実質上４５度の斜め方向に連ねた形
状となるよう、各光学繊維が束ねられており、当該光出
射端２３から出射される光の一部がアパーチャ部材４０
の遮光部によって遮光されることにより、一端側の正方
形におけるＸ方向に伸びる一辺とＹ方向に伸びる他の一
辺が整形された光照射領域Ｌ１が形成される。

【００４７】図１２は、階段状露光法によりウエハ１を
露光する場合に用いられるアパーチャ部材の透光部およ
び遮光部の形状の一例を示す説明図であり、図１２
（イ）は、図３（イ）の構成のアパーチャ部材における
形状、図１２（ロ）は、図３（ロ）の構成のアパーチャ
部材における形状を示す。図１２（イ）に示すアパーチ
ャ部材４０においては、矩形のガラス板４１の表面上に
おける一端部分および一側部分にＬ字形の金属薄膜４２
が形成され、これにより、当該一端部分および一側部分
が遮光部とされると共に他の部分が透光部とされてお
り、一方、図１２（ロ）に示すアパーチャ部材４０にお
いては、矩形の金属薄板の中央部分に光透過用開口４３
が形成され、これにより、当該光透過用開口４３が透光
部とされると共に他の部分が遮光部とされている。そし
て、いずれのアパーチャ部材４０においても、その遮光
部は、導光ファイバ２０の各光学繊維が所定の形状に束
ねられた光出射端２３からの光が直接投影レンズ３８を
介してウエハ１上に投影されたときに、その投影像Ｋ
（一点鎖線で示す）における一端側の正方形の外縁部分
Ｋ１を、Ｘ方向およびＹ方向に沿って遮光するよう形成
されている。

【００４８】上記の露光装置においては、以下のように
してウエハ１上の不要レジストの露光処理が行なわれ
る。 （１）露光準備工程：まず、回転機構５０によってウエ
ハ１を１回転させ、ウエハアライメント機構６６によ
り、処理台５１上におけるウエハ１の載置状態を検出す
る。このウエハ１の載置状態の検出情報は、例えばウエ
ハ１のオリエンテーションフラット部等の形状的な特異
点の位置情報や、ウエハ１の円周部における中心位置と
処理台５１の回転中心位置とのズレ量の情報である。次
に、上記の検出情報により、予め適宜の制御手段（図示
省略）に記憶されたウエハ１上のレジストの露光すべき
部分の情報を補正し、回転機構５０により、ウエハ１の
特異点が所定の位置に位置されるよう、ウエハ１を回転
させる。ここで、予め記憶された露光すべき部分の情報
は、照射ヘッド３０の移動方向すなわち互いに直交する
Ｘ方向およびＹ方向により形成される座標系による情報
であって、アパーチャ部材４０の透光部の位置情報に対
応するものである。また、この露光すべき部分の情報
は、ウエハ１の形状的な特異点が所定の位置にあって、
ウエハ１の円周部における中心位置と処理台５１の回転
中心位置とが一致している状態のものである。

【００４９】（２）露光処理工程：上記の露光準備工程
が終了した後、照射ヘッド３０からの光をウエハ１に照
射すると共に、補正された露光すべき部分の情報に従っ
て、照射ヘッド移動機構６０によって照射ヘッド３０を
互いに直交するＸ方向およびＹ方向に移動させることに
より、照射ヘッド３０からの光による光照射領域Ｌ１の
頂部Ｌ４がウエハ１の階段状のパターン形成領域２の外
縁２ａをトレースするよう当該光照射領域Ｌ１を走査
し、以って、ウエハ１の周辺部が階段状に露光される。

【００５０】上記の露光装置によれば、投影レンズ３８
および導光ファイバ２０のいずれを交換する場合におい
ても、アパーチャ部材４０がアパーチャ部材保持部材３
１に保持されたままの状態で行なうことができるので、
投影レンズ３８または導光ファイバ２０を交換するたび
に、制御手段に記憶された、アパーチャ部材４０の透光
部の位置情報に対応するレジストの露光すべき部分の情
報を修正する必要がない。従って、投影レンズ３８およ
び導光ファイバ２０の交換を短時間で容易に行なうこと
ができる。

【００５１】また、円環状露光法において示した場合と
同様に、アパーチャ部材４０としては、ガラス板４１の
表面上における遮光部の領域に金属薄膜４２が形成され
てなるものに限られず、光透過用開口４３を有する金属
薄板よりなるものを用いることによっても、形成される
光照射領域Ｌ１は、アパーチャ部材４０によって整形さ
れるＸ方向に平行な一辺Ｌ２およびＹ方向に平行な他の
一辺Ｌ３における光の照度の変化がシャープなものとな
る。

【００５２】そして、光照射領域Ｌ１における頂部Ｌ４
をウエハ１の階段状のパターン形成領域２の外縁２ａを
トレースするよう、当該光照射領域を走査させることに
より、ウエハ１のパターン形成領域２の外縁２ａに対し
て高い精度でシャープに露光することができる。その結
果、露光現像後において、パターン形成領域２の外縁２
ａ上に位置される部分のレジスト形状をウエハ１に対し
てほぼ垂直な状態とすることができ、これにより、レジ
スト層の剥離を防止することができる。

【００５３】また、光照射領域Ｌ１をＸ方向およびＹ方
向に走査させることにより、不要レジストに対して均一
な露光処理を行なうことができ、しかも、光照射領域Ｌ
１の一端から他端までを対角線とする正方形状の光照射
領域を走査させたときと同じ範囲の露光処理が達成され
るので、１回の走行行程によって露光処理することがで
きる範囲が広く、その結果、露光処理時間の短縮化を図
ることができる。

【００５４】更に、照射ヘッド３０に、アパーチャ部材
姿勢調整機構７０が設けられているので、当該露光装置
を製造する際に、照射ヘッド３０の分解および組立を繰
り返すことなしに、容易にアパーチャ部材４０の姿勢調
整を行うことができる。

【００５５】以上、本発明の実施の形態を説明したが、
本発明はこれらの露光装置に限定されるのではなく、種
々の変更が可能である。例えば、階段状露光法により不
要レジストを露光する場合においては、移動手段とし
て、固定の照射ヘッド３０に対してウエハ１をＸ方向お
よびＹ方向に移動させる構成のもの、具体的には、照射
ヘッド３０を固定位置に保持する保持機構と、ウエハ１
が載置される回転処理台をＸ方向およびＹ方向に移動さ
せる移動機構とを具えてなるものを用いることができ
る。また、形成される光照射領域の形状は、Ｘ方向に対
して実質上４５度の斜め方向に伸び、当該光照射領域の
少なくとも一端側の輪郭が、Ｘ方向に伸びる一辺とＹ方
向に伸びる他の一辺とによる直角な頂部を有するもので
あれば、図１１（イ）に示す形状に限定されるものでは
ない。

【００５６】また、アパーチャ部材姿勢調整機構７０と
しては、図１３に示すように、他方の調整ネジの代わり
に圧縮バネ７７を設け、調整ネジ７５を前進または後退
させることによりアパーチャ部材４０が支持された支持
板７１を回動させる構成のものであってもよい。

【００５７】本発明の露光装置による露光処理対象は、
表面にポジ型レジストが塗布された基板であればウエハ
に限定されるものではなく、例えば液晶表示素子等に用
いられる透明な角型基板であってもよい。

【００５８】

【発明の効果】本発明の基板上の不要レジスト露光装置
によれば、アパーチャ部材は、アパーチャ部材保持部材
によって基板を基準とする特定の高さに保持されてお
り、レンズユニットは、アパーチャ部材保持部材に着脱
自在に設けられているため、投影レンズを新たなものと
交換する際には、レンズユニットをアパーチャ部材保持
部材から取り外すだけでよく、また、導光ファイバ接続
部材は、アパーチャ部材保持部材に着脱自在に設けられ
ているため、導光ファイバを新たなものと交換する際に
は、導光ファイバ接続部材をアパーチャ部材保持部材か
ら取り外すだけでよい。特に、階段状露光法により不要
レジストを露光する場合においては、投影レンズまたは
導光ファイバを交換するたびに、移動手段を制御するた
めのレジストの露光すべき部分の情報を修正することが
不要となる。従って、投影レンズおよび導光ファイバの
交換作業を短時間で容易に行なうことができる。

【００５９】また、アパーチャ部材として、ガラス板の
表面上における遮光部の領域に金属薄膜が形成されてな
るもの、或いは、透光部を形成する光透過用開口を有す
る金属薄板よりなるものを用いることができ、これによ
り、非照射領域との境界における光の照度の変化がシャ
ープな光照射領域を形成することができる。従って、基
板のパターン形成領域の外縁に対して十分にシャープに
露光することができる。

【００６０】更に、照射ヘッドのアパーチャ部材保持部
材に、アパーチャ部材が基板を基準とする特定の高さの
レベルに保たれた状態で回動されることにより、当該ア
パーチャ部材の姿勢を調整するアパーチャ部材姿勢調整
機構を設ける構成によれば、当該露光装置を製造する際
に、照射ヘッドの分解および組立を繰り返すことなし
に、容易にアパーチャ部材の姿勢調整を行うことができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の基板上の不要レジスト露光装置の一例
における光照射手段の構成の概略を示す説明図である。

【図２】本発明の基板上の不要レジスト露光装置に用い
られる照射ヘッドの一例における構成を示す説明用断面
図である。

【図３】アパーチャ部材の構成を示す説明用断面図であ
る。

【図４】円環状露光法により不要レジストを露光する場
合に用いられる移動手段の一例を示す説明図である。

【図５】円環状露光法により不要レジストを露光する場
合に用いられるアパーチャ部材の透光部および遮光部の
形状を示す説明図である。

【図６】図１に示す不要レジスト露光装置によってウエ
ハの周辺部に照射された光照射領域の形状を示す説明図
である。

【図７】ウエハの周辺部の一部分を露光する場合に用い
られるアパーチャ部材の透光部および遮光部の形状を示
す説明図である。

【図８】本発明の基板上の不要レジスト露光装置に用い
られる照射ヘッドの他の例における構成を分解して示す
説明用斜視図である。

【図９】アパーチャ部材姿勢調整機構の一例における構
成を示す説明用平面図である。

【図１０】階段状露光法により不要レジストを露光する
ための移動手段を具えた不要レジスト露光装置の一例を
示す説明図である。

【図１１】（イ）は光照射領域の形状を示す説明図であ
り、（ロ）は導光ファイバの光出射端における光学繊維
束の端面の形状を示す説明図である。

【図１２】階段状露光法により不要レジストを露光する
場合に用いられるアパーチャ部材の透光部および遮光部
の形状を示す説明図である。

【図１３】アパーチャ部材姿勢調整機構の他の例におけ
る構成を示す説明用平面図である。

【図１４】従来のウエハ上の不要レジスト露光装置によ
り、ウエハの周辺部を露光する状態を示す説明図であ
る。

【図１５】アパーチャ部材の姿勢が調整されずに、ウエ
ハの周辺部を露光する状態を示す説明図である。

【符号の説明】

１ ウエハ ２ パターン形成領域 ２ａ 外縁 ３ 周辺部 ４ 導光ファイバ ５ 出射部 １０ 灯体 １１ 光源 １２ 楕円集光鏡 １３ 平面反射鏡 １４ シャッタ １５ フィルタ １６ 保持部材 １７ ボルト ２０ 導光ファイバ ２１ 光学繊維束 ２２ 光入射端 ２３ 光出射端 ２４ 可撓管 ２５ 取り付け部材 ２６ 導光ファイバ接続部材 ２７ ビス ３０ 照射ヘッド ３１ アパーチャ部材保持部材 ３２ 導光ファイバ固定部材 ３３ レンズユニット ３４ 段部 ３５ 鍔部 ３６ ボルト ３７ 鏡筒 ３８ 投影レンズ ４０ アパーチャ部材 ４１ ガラス板 ４２ 金属薄膜 ４３ 光透過用開口 ４５ ウエハ回転機構 ４６ 処理台 ４７ モータ ４８ 位置制御機構 ５０ ウエハ回転機構 ５１ 処理台 ５２ メガトルクモータ ６０ ヘッド移動機構 ６１ Ｘテーブル ６２ モータ ６３ Ｙテーブル ６４ モータ ６５ 支持アーム ６６ ウエハアライメント機構 ７０ アパーチャ部材姿勢調整機構 ７１ 支持板 ７２ 光通過用貫通孔 ７３ 段部 ７４ 切欠部 ７５ 調整ネジ ７６ 板バネ ７７ 圧縮バネ ７８ プランジャ Ｋ 投影像 Ｌ，Ｌ１ 光照射領域

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平８−31730（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−102439（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−321463（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−162386（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/027

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板上の周辺部における不要レジストを
   除去するための不要レジスト露光装置であって、 光源と、 複数の光学繊維が束ねられてなる光学繊維束を有し、そ
   の一端部における光入射端から他端部における光出射端
   まで前記光源からの光を導光する導光ファイバと、 この導光ファイバの他端部に設けられた、当該導光ファ
   イバの光出射端からの光を露光対象である基板に向かっ
   て照射する照射ヘッドとを具えてなり、 前記照射ヘッドは、前記導光ファイバの光出射端からの
   光を整形するための遮光部および透光部を有し、その一
   面における透光部が前記導光ファイバの光出射端におけ
   る前記光学繊維束の端面に対向するよう配置されたアパ
   ーチャ部材と、 このアパーチャ部材を保持するためのアパーチャ部材保
   持部材と、 このアパーチャ部材保持部材に着脱自在に設けられた、
   前記導光ファイバの光出射端からの光を前記アパーチャ
   部材に導くよう、当該導光ファイバの他端部を当該アパ
   ーチャ部材保持部材に接続する導光ファイバ接続部材
   と、 前記アパーチャ部材保持部材に着脱自在に設けられた、
   前記アパーチャ部材の光出射面が焦点位置となるよう配
   置された投影レンズを有するレンズユニットとを具えて
   なり、 前記アパーチャ部材は、ガラス板と、このガラス板の表
   面上における遮光部の領域に形成された金属薄膜とより
   なり、 当該アパーチャ部材は、前記アパーチャ部材保持部材に
   より前記基板を基準とする特定の高さのレベルに保持さ
   れることを特徴とする基板上の不要レジスト露光装置。
2. 【請求項２】 基板上の周辺部における不要レジストを
   除去するための不要レジスト露光装置であって、 光源と、 複数の光学繊維が束ねられてなる光学繊維束を有し、そ
   の一端部における光入射端から他端部における光出射端
   まで前記光源からの光を導光する導光ファイバと、 この導光ファイバの他端部に設けられた、当該導光ファ
   イバの光出射端からの光を露光対象である基板に向かっ
   て照射する照射ヘッドとを具えてなり、 前記照射ヘッドは、前記導光ファイバの光出射端からの
   光を整形するための遮光部および透光部を有し、その一
   面における透光部が前記導光ファイバの光出射端におけ
   る前記光学繊維束の端面に対向するよう配置されたアパ
   ーチャ部材と、 このアパーチャ部材を保持するためのアパーチャ部材保
   持部材と、 このアパーチャ部材保持部材に着脱自在に設けられた、
   前記導光ファイバの光出射端からの光を前記アパーチャ
   部材に導くよう、当該導光ファイバの他端部を当該アパ
   ーチャ部材保持部材に接続する導光ファイバ接続部材
   と、 前記アパーチャ部材保持部材に着脱自在に設けられた、
   前記アパーチャ部材の光出射面が焦点位置となるよう配
   置された投影レンズを有するレンズユニットとを具えて
   なり、 前記アパーチャ部材は、透光部を形成する光透過用開口
   を有する金属薄板よりなり、 当該アパーチャ部材は、前記アパーチャ部材保持部材に
   より前記基板を基準とする特定の高さのレベルに保持さ
   れることを特徴とする基板上の不要レジスト露光装置。
3. 【請求項３】 照射ヘッドには、アパーチャ部材が基板
   を基準とする特定の高さのレベルに保たれた状態で回動
   されることにより、当該アパーチャ部材の姿勢を調整す
   るアパーチャ部材姿勢調整機構が設けられていることを
   特徴とする請求項１または請求項２に記載の基板上の不
   要レジスト露光装置。
4. 【請求項４】 アパーチャ部材保持部材を介してアパー
   チャ部材が基板を基準とする特定の高さのレベルに保た
   れた状態で変位することとなるよう、照射ヘッドと前記
   基板とを相対的に移動させる移動手段が設けられ、 この移動手段によって、前記照射ヘッドからの光によっ
   て形成される光照射領域が、回転処理台上に配置された
   前記基板における円弧状の外縁を有するパターン形成領
   域の当該外縁に沿って走査され、 前記光照射領域は前記基板におけるパターン形成領域の
   外縁の接線と平行な一辺を有する矩形状であり、 少なくとも前記一辺が前記アパーチャ部材によって整形
   されていることを特徴とする請求項１乃至請求項３のい
   ずれか一に記載の基板上の不要レジスト露光装置。
5. 【請求項５】 アパーチャ部材保持部材を介してアパー
   チャ部材が基板を基準とする特定の高さのレベルに保た
   れた状態で変位することとなるよう、照射ヘッドを一方
   向およびこれと垂直な他方向に移動させる移動手段が設
   けられ、 この移動手段によって、前記照射ヘッドからの光によっ
   て形成される光照射領域が基板上において前記一方向お
   よび前記他方向に走査され、 前記光照射領域が前記一方向に対して実質上４５度の斜
   め方向に伸び、当該光照射領域の少なくとも一端側の輪
   郭が、前記一方向に伸びる一辺と前記他方向に伸びる他
   の一辺とによる直角な頂部を有する形状であり、 少なくとも前記一辺および他の一辺が、アパーチャ部材
   によって整形されていることを特徴とする請求項１乃至
   請求項３のいずれか一に記載の基板上の不要レジスト露
   光装置。
6. 【請求項６】 基板を一方向およびこれと垂直な他方向
   に移動させる移動手段が設けられ、 この移動手段によって、照射ヘッドからの光によって形
   成される光照射領域が基板上において前記一方向および
   前記他方向に走査され、 前記光照射領域が前記一方向に対して実質上４５度の斜
   め方向に伸び、当該光照射領域の少なくとも一端側の輪
   郭が、前記一方向に伸びる一辺と前記他方向に伸びる他
   の一辺とによる直角な頂部を有する形状であり、 少なくとも前記一辺および他の一辺が、アパーチャ部材
   によって整形されていることを特徴とする請求項１乃至
   請求項３のいずれか一に記載の基板上の不要レジスト露
   光装置。